用于显影设备的排气箱及黄光制程显影设备制造技术

本发明专利技术提供了一种用于显影设备的排气箱，包括箱体，所述箱体的其中一侧表面上设有均匀分布的排气孔，在箱体上设有与箱体内腔连通的连接管。本发明专利技术还提供了一种黄光制程显影设备，包括多个相互拼接而成的显影腔室，在显影腔室中设有传送机构，在每个显影腔室的同一位置上分别设有与显影腔室连通的排气管，所述排气管上设有风量调节阀，还包括所述的用于显影设备的排气箱，每个显影腔室内分别设有一个与排气管连接的排气箱，所述排气孔与显影腔室的顶部相对，连接管与排气管相连。与现有技术相比，避免单一排气孔排气造成显影蒸汽流向紊乱现象，改善黄光制成后因显影排气设计不合理造成的光阻破孔及光阻线路断线现象。

【技术实现步骤摘要】
用于显影设备的排气箱及黄光制程显影设备
本专利技术涉及一种液晶面板制造技术，特别是一种用于阵列制程涂胶、曝光后进行显影制程的用于显影设备的排气箱及黄光制程显影设备。
技术介绍
薄膜晶体管液晶显示器制程中，阵列制程的黄光制程涂胶、曝光后进行的显影制程，多采用浸渍处理方式(Puddle方式)，主要作用是：当是正性光阻时，与曝光后的光阻进行反应使其溶解在显影液中，当是负性光阻时，与没有曝光的光阻进行反应使其溶解在显影液中，经过显影制程后，基板光阻可以定义出曝光膜(Mask)的图形，对底层须定义的电路图形进行保护，再进行后续蚀刻与光阻剥离制程，最终在基板上制作出电路图形。目前，经过涂布曝光制程后的基板执行Puddle方式显影时，可能因为厂务排气流量不稳定，导致显影腔体排气出现气流紊乱，将可能导致在显影液未涂布前，显影蒸汽提前轰击至基板的光阻上，由于阵列制成中光阻对显影液异常敏感，将导致基板上部分光阻提前显影，造成本该有光阻保护的区域裸露，出现光阻断线问题，进而后续蚀刻制程时，造成电路图形断路。
技术实现思路
为克服现有技术的不足，本专利技术提供一种用于显影设备的排气箱及黄光制程显影设备，从而使显影腔室内的排气均匀。本专利技术提供了一种用于显影设备的排气箱，包括箱体，所述箱体的其中一侧表面上设有均匀分布的排气孔，在箱体上设有与箱体内腔连通的连接管。进一步地，所述排气孔呈蜂窝状排布。进一步地，所述排气孔的孔径为10～20mm。进一步地，所述箱体为长方体。本专利技术还提供了一种黄光制程显影设备，包括多个相互拼接而成的显影腔室，在显影腔室中设有用于将待显影基板依次输送至每个显影腔室中的传送机构，在每个显影腔室的同一位置上分别设有与显影腔室连通的排气管，所述排气管上设有风量调节阀，还包括所述的用于显影设备的排气箱，每个显影腔室内分别设有一个与排气管连接的排气箱，所述排气孔与显影腔室的顶部相对，连接管与排气管相连。进一步地，每个排气管的排气量按照显影腔室的排列顺序从头到尾排气量依次增大。进一步地，所述排气孔呈蜂窝状排布。进一步地，所述排气孔的孔径为10～20mm。进一步地，所述箱体为长方体。进一步地，所述箱体的长度为300～800mm，宽度为100～200mm，高度为100～200mm。本专利技术与现有技术相比，通过设置排气箱，在排气箱上均匀设置排气孔并且排气孔朝上，使得显影腔室内的排气均匀，避免单一排气孔排气造成显影蒸汽流向紊乱现象，改善黄光制成后因显影排气设计不合理造成的光阻破孔及光阻线路断线现象。附图说明图1是本专利技术的排气箱的外部结构示意图；图2是本专利技术的排气箱的内部结构示意图；图3是本专利技术的黄光制程显影设备的结构示意图；图4是本专利技术的黄光制程显影设备的局部示意图。具体实施方式下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步详细说明。如图1和图2所示，本专利技术的用于显影设备的排气箱包括箱体1，箱体1所述箱体1的其中一侧表面上设有均匀分布的排气孔2，在箱体1上设有与箱体1内腔连通的连接管3；所述排气孔2设置在箱体1面积最大的一侧表面上。作为箱体1的一种较佳实施方式，箱体1为长方体，具有四个上、下、左右四个端面以及两个侧面，排气孔2设置在其中一个端面上；箱体1优选为：长度为300～800mm，宽度为100～200mm，高度为100～200mm；本专利技术箱体1的尺寸不限于此，还可根据显影设备的显影腔室的大小进行调整。所述排气孔2呈蜂窝状排布，排气孔2的孔径为10～20mm，排气孔2的密度可根据实际要求进行设置。如图3和图4所示，本专利技术的一种黄光制程显影设备，其主要改进部分为增加了如图1和图2所示的排气箱，其余部件与现有技术相同，并未做改进，黄光制成显影设备主要包括多个相互拼接而成的显影腔室5，在显影腔室5中设有用于将待显影基板依次输送至每个显影腔室5中的传送机构6，位于传送机构6上方、显影腔室5中的显影液涂布装置；在每个显影腔室5的同一位置上分别设有与显影腔室5连通的排气管7，使显影腔室5的腔室壁上形成一个排气口，排气管7与厂务排气连接，所述排气管7上设有风量调节阀4，每个显影腔室5内分别设有一个与排气管7连接的排气箱，所述排气孔2与显影腔室5的顶部相对，即排气孔2朝上设置，连接管3从排气口插入与排气管7相连。在每个排气管7上设置排气箱，使得各排气管均匀排气，避免气流发生紊乱现象。本专利技术中将排气孔2朝上设置，可以最大限度的引导排气箱上，避免对基板造成影响。具体地，如图4所示，由于一般情况下，排气管7设于设置在基板前进方向的一侧腔室壁上，因此，连接管3设于与排气孔2相邻的一端面上，从而使连接管3能够与排气管7连接后排气孔2始终朝上，但连接管3的设置不限于此，具体可根据黄光制成显影设备中与显影腔室5连接的排气管7的具体位置进行设置，在此不做具体限定。本专利技术中，每个排气管7的排气量按照显影腔室5的排列顺序从头到尾排气量依次增大，其风压在-50～-300帕之间从小到大进行设置，具体地，一般情况下，显影腔室5设有3个，根据基板的移动方向每个显影腔室5中排气管7的排气量(吸力，负风压)分别为-100～-50帕、-200～-100帕、-300～-200帕，由于排风其是指为将显影腔室5内的气流吸走，因此负值表示为排风的吸力，为负风压。所述黄光制成显影设备中排气箱上排气孔2呈蜂窝状排布；排气孔2的孔径为10～20mm；所述箱体1为长方体箱体1优选为：长度为300～800mm，宽度为100～200mm，高度为100～200mm；本专利技术箱体1的尺寸不限于此，还可根据显影设备的显影腔室的大小进行调整。虽然已经参照特定实施例示出并描述了本专利技术，但是本领域的技术人员将理解：在不脱离由权利要求及其等同物限定的本专利技术的精神和范围的情况下，可在此进行形式和细节上的各种变化。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于显影设备的排气箱，其特征在于：包括箱体(1)，所述箱体(1)的其中一侧表面上设有均匀分布的排气孔(2)，在箱体(1)上设有与箱体(1)内腔连通的连接管(3)。

【技术特征摘要】
1.一种用于显影设备的排气箱，其特征在于：包括箱体(1)，所述箱体(1)的其中一侧表面上设有均匀分布的排气孔(2)，在箱体(1)上设有与箱体(1)内腔连通的连接管(3)。2.根据权利要求1所述的用于显影设备的排气箱，其特征在于：所述排气孔(2)呈蜂窝状排布。3.根据权利要求2所述的用于显影设备的排气箱，其特征在于：所述排气孔(2)的孔径为10～20mm。4.根据权利要求1所述的用于显影设备的排气箱，其特征在于：所述箱体(1)为长方体。5.一种黄光制程显影设备，包括多个相互拼接而成的显影腔室(5)，在显影腔室(5)中设有用于将待显影基板依次输送至每个显影腔室(5)中的传送机构(6)，在每个显影腔室(5)的同一位置上分别设有与显影腔室(5)连通的排气管(7)，所述排气管(7)上设有风量调节阀(4)，其特征在于：还...

【专利技术属性】
技术研发人员：张瑞军，王松，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44