阵列基板及显示面板制造技术

技术编号:15545536 阅读:75 留言:0更新日期:2017-06-05 17:37
本发明专利技术提供一种阵列基板及显示面板。阵列基板包括:衬底基板、位于衬底基板上的第一金属电极、位于衬底基板上且完全覆盖第一金属电极的栅极绝缘层、位于栅极绝缘层上的第二金属电极、位于第二金属电极上的保护层、位于保护层上的有机层以及位于有机层上的色阻层。上述有机层的设置可以隔绝残留在保护层上的有机异物,从而保护色阻层不受有机物残留的影响,防止色阻层被有机异物污染。

Array substrate and display panel

The invention provides an array substrate and a display panel. The array substrate includes a substrate, a first metal electrode located on the substrate, the substrate is positioned on the gate substrate and the metal electrode completely covers the first insulating layer, a gate insulating metal electrode is located in the second layer, located on the protection layer and the second metal electrode in the protective layer on the organic layer and color in organic layer on the floor. The arrangement of the organic layer can isolate the organic foreign matter remaining on the protective layer, thereby preventing the color barrier from being affected by the residual organic matter, and preventing the color barrier from being contaminated by organic foreign matter.

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及显示面板
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种阵列基板及显示面板。
技术介绍
COA(ColorFilteronArray,简称COA)基板即将彩膜色阻直接设置在TFT阵列基板上,这样可以较好的解决TFT阵列基板和彩膜基板对盒时对位不准的问题,COA技术是将TFT和彩色滤光层制备在同一玻璃基板上,一般是在TFT侧,故TFT侧的结构为:玻璃-Metal1(Al/Mo)-AS(G-SiNx/a-Si/n+)-Metal2-Passivition1(P-SiNx)-R/G/B-Passivition2(P-SiNx)-ITO,其中R/G/B属于CF(colorfilter)制程,其它膜层则由Array制程来完成,从Passivition1制程到R/G/B制程一般需要1~20天,在此期间面板上很容易沉积一些有机物、水汽等,虽然在R/G/B色阻涂布之前会对面板进行清洗,但很难将其彻底清除,仍旧会存在一些有机残留。残留的有机异物在R色阻(或G色阻或B色阻)涂布后会被覆盖,在oven高温的作用下,R色阻(或G色阻或B色阻)与残留的有机异物发生反应,造成R色阻(或G色阻或B色阻)污染,使色阻颜色发生变化甚至色阻层被破坏。
技术实现思路
本专利技术提供一种阵列基板及显示面板,用以解决现有技术中色阻与残留有机异物发生反应造成色阻层被破坏的技术问题。本专利技术一方面提供一种阵列基板,包括:衬底基板、位于衬底基板上的第一金属电极、位于衬底基板上且完全覆盖第一金属电极的栅极绝缘层、位于栅极绝缘层上的第二金属电极、位于第二金属电极上的保护层、位于保护层上的有机层以及位于有机层上的色阻层。进一步的,有机层为亚克力树脂层。进一步的,有机层的厚度为100埃到3微米之间。进一步的,色阻层包括同层设置的多个色阻块,色阻块包括红色色阻、绿色色阻和蓝色色阻。进一步的,各色阻块在有机层上呈阵列排布,且每一行的色阻块按照红色色阻、绿色色阻和蓝色色阻的顺序交替排列。本专利技术另一方面提供一种显示面板,包括阵列基板、彩膜基板以及位于阵列基板与彩膜基板之间的液晶层,其中,阵列基板包括:衬底基板、位于衬底基板上的第一金属电极、位于衬底基板上且完全覆盖第一金属电极的栅极绝缘层、位于栅极绝缘层上的第二金属电极、位于第二金属电极上的保护层、位于保护层上的有机层以及位于有机层上的色阻层。进一步的,有机层为亚克力树脂层。进一步的,有机层的厚度为100埃到3微米之间。进一步的,色阻层包括同层设置的多个色阻块,色阻块包括红色色阻、绿色色阻和蓝色色阻。进一步的,各色阻块在有机层上呈阵列排布,且每一行的色阻块按照红色色阻、绿色色阻和蓝色色阻的顺序交替排列。本专利技术提供的阵列基板及显示面板,在色阻层制程之前,增加一层有机层,有机层的设置可以隔绝残留在保护层上的有机异物,从而保护色阻层不受有机物残留的影响,防止色阻层被有机异物污染。附图说明在下文中将基于实施例并参考附图来对本专利技术进行更详细的描述。其中:图1为本专利技术一实施例提供的阵列基板的结构示意图。在附图中,相同的部件使用相同的附图标记。附图并未按照实际的比例绘制。具体实施方式下面将结合附图对本专利技术作进一步说明。请参考图1,本专利技术实施例提供一种阵列基板,包括:衬底基板1、位于衬底基板1上的第一金属电极2、位于衬底基板1上且完全覆盖第一金属电极2的栅极绝缘层3、位于栅极绝缘层3上的第二金属电极4、位于第二金属电极4上的保护层5、位于保护层5上的有机层6以及位于有机层6上的色阻层7。提供一衬底基板1,在该衬底基板1上沉积第一金属层并图案化,以形成第一金属电极,优选的,衬底基板1为玻璃基板。栅极绝缘层3完全覆盖第一金属电极。在所述栅极绝缘层3上沉积第二金属层并图案化,形成第二金属电极4。在第二金属电极4上沉积保护层5。保护层5用于保护第二金属电极4不受外界干扰。保护层5经纯化处理获得。有机层6位于保护层5与色阻层7之间,由于保护层5制作完成之后需要经过较长时间才进行色阻层7的制程,在这期间,保护层5上很容易沉积一些有机物和水汽等,即使进行清洗,也能难将其彻底清除,因此,仍旧会残留一些有机异物在保护层5表面,这些有机异物在色阻层7涂布后会被其覆盖,在高温作用下,色阻层7与残留的有机异物发生反应,造成色阻层7污染,对色阻层7造成损坏,但是由于有机层6的增加,可以将保护层5与色阻层7进行隔绝,即将保护层5表面残留的有机异物与色阻层7隔开,以使残留的有机异物不再对色阻层7造成损坏。本专利技术实施例提供的阵列基板,在色阻层7制程之前,增加一层有机层6,该有机层6材料优选为亚克力树脂,有机层6的厚度视流平性和穿透率的不同可制作成100埃到3微米之间,以隔绝清洗步骤残留的有机异物,从而保护色阻层7不受有机异物残留的影响。可以有效的隔绝残留的有机异物与色阻层7发生反应,防止色阻层7被底层(即保护层5)上的有机异物污染,另外有机层6还可以增加色阻层7的粘结性,并且不会对后续其它制程或产品造成影响。进一步的,色阻层7包括同层设置的多个色阻块,色阻块包括红色色阻色阻、绿色色阻色阻和蓝色色阻色阻。进一步的,各色阻块在有机层6上呈阵列排布,且每一行的色阻块按照红色色阻色阻、绿色色阻色阻和蓝色色阻色阻的顺序交替排列。本专利技术另一实施例还提供一种显示面板,包括阵列基板、彩膜基板以及阵列基板与彩膜基板之间的液晶层,其中,阵列基板包括:衬底基板1、位于衬底基板1上的第一金属电极2、位于衬底基板1上且完全覆盖第一金属电极2的栅极绝缘层3、位于栅极绝缘层3上的第二金属电极4、位于第二金属电极4上的保护层5、位于保护层5上的有机层6以及位于有机层6上的色阻层7。有机层6为亚克力树脂层。有机层6的厚度为100埃到3微米之间。在保护层5与色阻层7之间加入有机层6,有效的隔绝残留在保护层5上的有机异物与色阻层7发生反应。进一步的,色阻层7包括同层设置的多个色阻块,色阻块包括红色色阻色阻、绿色色阻色阻和蓝色色阻色阻。进一步的,各色阻块在有机层6上呈阵列排布,且每一行的色阻块按照红色色阻色阻、绿色色阻色阻和蓝色色阻色阻的顺序交替排列。虽然已经参考优选实施例对本专利技术进行了描述,但在不脱离本专利技术的范围的情况下,可以对其进行各种改进并且可以用等效物替换其中的部件。尤其是,只要不存在结构冲突,各个实施例中所提到的各项技术特征均可以任意方式组合起来。本专利技术并不局限于文中公开的特定实施例,而是包括落入权利要求的范围内的所有技术方案。本文档来自技高网...
阵列基板及显示面板

【技术保护点】
一种阵列基板,其特征在于,包括:衬底基板、位于所述衬底基板上的第一金属电极、位于所述衬底基板上且完全覆盖所述第一金属电极的栅极绝缘层、位于所述栅极绝缘层上的第二金属电极、位于所述第二金属电极上的保护层、位于所述保护层上的有机层以及位于所述有机层上的色阻层。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:衬底基板、位于所述衬底基板上的第一金属电极、位于所述衬底基板上且完全覆盖所述第一金属电极的栅极绝缘层、位于所述栅极绝缘层上的第二金属电极、位于所述第二金属电极上的保护层、位于所述保护层上的有机层以及位于所述有机层上的色阻层。2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述有机层为亚克力树脂层。3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述有机层的厚度为100埃到3微米之间。4.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述色阻层包括同层设置的多个色阻块,所述色阻块包括红色色阻、绿色色阻和蓝色色阻。5.根据权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,各所述色阻块在所述有机层上呈阵列排布,且每一行的色阻块按照红色色阻、绿色色阻和蓝色色阻的顺序交替排列。6.一种显示面板,其特征在于,包括阵列基板、...

【专利技术属性】
技术研发人员:谢克成
申请(专利权)人:深圳市华星光电技术有限公司
类型:发明
国别省市:广东,44

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