阵列基板、显示面板、显示装置及阵列基板的制备方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种阵列基板、显示面板和显示装置。所述阵列基板，包括：第一基板；栅极、公共电极，设置于所述第一基板一侧；第一绝缘层，设置于所述栅极、所述公共电极的背对所述第一基板一侧；漏极，设置于所述第一绝缘层的背对所述第一基板一侧；第二绝缘层，设置于所述漏极的背对所述第一基板一侧；其中，所述第二绝缘层设有过孔，用于电性连接所述漏极与像素电极，所述公共电极对所述过孔的遮光部分、所述漏极、所述过孔在所述第一基板的投影区域均往所述栅极方向移动。通过上述方式，本发明专利技术能够增大开口率。

Array substrate, display panel, display device, and method for preparing array substrate

The invention discloses an array substrate, a display panel and a display device. The array substrate includes a first substrate; a gate, a common electrode is arranged on one side of the first substrate; a first insulating layer on the gate, the common electrode set back on one side of the first substrate; drain is arranged on the first insulating layer on the back side of the first substrate second; an insulating layer is arranged on the drain back to the side of the first substrate; wherein, the second insulation layer is provided with a through hole, for electrically connecting the drain electrode and the pixel electrodes, the common electrode of the through hole in the shading part, the drain, the the hole in the projection area of the first substrate are to the gate direction. By the above method, the invention can increase the opening rate.

【技术实现步骤摘要】
阵列基板、显示面板、显示装置及阵列基板的制备方法
本专利技术涉及显示领域，特别是涉及阵列基板、显示面板、显示装置及阵列基板的制备方法。
技术介绍
现有的显示面板采用COA(ColorFilteronArray)技术将TFT和彩色滤光层制备在同一基板上。具体地，其结构包括第一基板与第二基板，第一基板上包括衬底基板、第一金属层、绝缘层、第二金属层、钝化层、R/G/B色阻层、ITO，其中R/G/B色阻层相邻像素单元之间由黑矩阵填充以防止漏光；另外，第一基板上其他需要遮光的位置对应第二基板的对应位置处设置有黑矩阵。上述结构的显示面板制作工艺较复杂，且对位精度要求较高。在此基础上，有人提出在第一基板上利用任意两种R/G/B色阻堆叠的方式来代替传统的第一基板上的黑矩阵，可以简化制备工艺。但是由于该堆叠的R/G/B色阻层是存在于第二金属层和ITO之间，而第二金属层和ITO之间需要通过过孔电连接。此时的过孔比传统结构的过孔直径大，过孔直径越大，用于遮蔽过孔透光的遮光层面积越大，进而使得像素开口率随之降低。
技术实现思路
本专利技术主要解决的技术问题是提供一种阵列基板、显示面板、显示器及阵列基板的制备方法，能够提高像素的开口率。为解决上述技术问题，本专利技术采用的一个技术方案是：提供一种阵列基板，包括：第一基板；栅极、公共电极，设置于所述第一基板一侧；第一绝缘层，设置于所述栅极、所述公共电极的背对所述第一基板一侧；漏极，设置于所述第一绝缘层的背对所述第一基板一侧；第二绝缘层，设置于所述漏极的背对所述第一基板一侧；其中，所述第二绝缘层设有过孔，用于电性连接所述漏极与像素电极，所述公共电极对所述过孔的遮光部分、所述漏极、所述过孔在所述第一基板的投影区域均往所述栅极方向移动。其中，所述第二绝缘层包括遮光层，所述遮光层由至少两种色阻堆叠形成。其中，所述栅极、公共电极是由设置于所述第一基板上的第一金属层形成。其中，所述栅极、所述公共电极之间具有缝隙，所述漏极至少一部分投影在所述公共电极中，且邻近所述缝隙一侧不越过所述缝隙。为解决上述技术问题，本专利技术采用的另一个技术方案是：提供一种显示面板，包括平行设置的阵列基板与透明基板，所述阵列基板包括：第一基板；栅极、公共电极，设置于所述第一基板一侧；第一绝缘层，设置于所述栅极、所述公共电极的背对所述第一基板一侧；漏极，设置于所述第一绝缘层的背对所述第一基板一侧；第二绝缘层，设置于所述漏极的背对所述第一基板一侧；其中，所述第二绝缘层设有过孔，用于电性连接所述漏极与像素电极，所述公共电极对所述过孔的遮光部分、所述漏极、所述过孔在所述第一基板的投影区域均往所述栅极方向移动。其中，所述第二绝缘层包括遮光层，所述遮光层由至少两种色阻堆叠形成。其中，所述栅极、公共电极是由设置于所述第一基板上的第一金属层形成。其中，所述栅极、所述公共电极之间具有缝隙，所述漏极至少一部分投影在所述公共电极中，且邻近所述缝隙一侧不越过所述缝隙。为解决上述技术问题，本专利技术采用的又一个技术方案是：提供一种显示装置，包括背光模组和如上所述的显示面板。为解决上述技术问题，本专利技术采用的又一个技术方案是：提供一种阵列基板的制备方法，包括提供第一基板；在所述第一基板一侧形成栅极、公共电极；在所述公共电极的背对所述第一基板一侧依次形成第一绝缘层、漏极、第二绝缘层；在所述第二绝缘层形成过孔，用于电性连接所述漏极与像素电极，所述公共电极对所述过孔的遮光部分、所述漏极、所述过孔在所述第一基板的投影区域均被设计得往所述栅极方向靠近。本专利技术的有益效果是：区别于现有技术的情况，本专利技术提供的阵列基板通过公共电极和漏极的配合以遮住过孔处的透光；公共电极对过孔的遮光部分、漏极、以及过孔在第一基板的投影区域均往栅极方向移动，此时像素的有效显示区域可对应向栅极方向扩充，进而使得像素开口率增大。另一方面，由于本专利技术所提供的阵列基板是通过公共电极和漏极的配合以遮住过孔处的透光，从而使得显示面板的中与阵列基板平行设置的透明基板上无需额外的黑矩阵，简化了制备工艺流程，降低了对对位精度的要求。附图说明图1是本专利技术阵列基板一实施方式的结构示意图；图2是图1所示像素一实施方式的现有技术和本专利技术实施例的结构对比图，其中右侧图是本专利技术实施例；图3是本专利技术显示面板一实施方式的结构示意图；图4是本专利技术显示装置一实施方式的结构示意图；图5是本专利技术阵列基板制备方法一实施方式的流程示意图。具体实施方式请参阅图1，图1为本专利技术阵列基板一实施方式的结构示意图。阵列基本1包括：第一基板10，具有优良的光学性能，较高的透明度和较低的反射率；栅极11、公共电极12，设置于第一基板10一侧，具体地，栅极11、公共电极12是由设置于第一基板10上的第一金属层形成，与此同时，在一般情况下上述第一金属层还包括扫描线(图未示)；第一绝缘层13，设置于栅极11、公共电极12的背对第一基板10一侧，具体地，第一绝缘层13至少部分覆盖栅极11和公共电极12，可由一层或者多层绝缘材料形成，如氮化硅、二氧化硅等其他常见绝缘材料；漏极14，设置于第一绝缘层13的背对第一基板10一侧，具体地，一般情况下漏极14、源极18、数据线(图未示)由设置于第一基板10上的第二金属层形成；数据线和上述第一金属层的扫描线交叉设置，源极18和漏极14之间还具有有源层19，有源层19的材质一般为多晶硅；第二绝缘层15，设置于漏极14的背对第一基板10一侧；具体地，在现有COA技术中，R/G/B彩色滤光层一般设置在第二绝缘层15中，且由于相邻两个R/G/B像素区之间产生重叠，使得重叠区域的电场不均匀，进而会使得液晶分子的取向不一致，出现漏光现象，因此一般会在相邻R/G/B像素区之间利用黑矩阵或者类似黑矩阵作用的遮光层隔开。形成黑矩阵作用的遮光层的一种方法是，如图1所示，由至少两种色阻堆叠来形成遮光层152。这是由于根据RGB的光谱图可以知道，RGB三种色阻，任意两种叠在一起是不透光的，起到类似黑矩阵的作用，当然本实施例中采用了两种，在某些情况下，也可同时采用三种RGB色阻，而色阻材料可以是掺杂有红、绿、蓝色颜料的感光性树脂组合物，例如酚醛树脂为基础树脂的感光性树脂；利用遮光层152的好处是还可以节省光罩制作流程，简化工艺。另外，在实际制程过程中，上述遮光层152与漏极14之间利用第二子绝缘层151隔开，第二子绝缘层151由一层或者多层绝缘材料形成，如氮化硅、二氧化硅等其他常见绝缘材料。其中，第二绝缘层15还设有过孔16，用于电性连接漏极14与像素电极17，像素电极17的材质一般为ITO导电玻璃。过孔16的结构一般为倒梯字形结构(如图1所示)，在其他实施例中也可为其他结构，如阶梯结构等，本专利技术对此不作限定。由于经过过孔16的光线并不受电压的控制，因而无法显示正确的灰阶，所以需要利用黑矩阵或者类似黑矩阵的物体加以遮蔽，以免干扰到其他透光区域的正确亮度。本实施例所采取的方法为利用公共电极12和漏极14配合共同以遮住过孔16处的透光，公共电极12和漏极14的材质为金属，如铜、银等，其对光线均具有遮蔽作用。在结构设计上，公共电极12对过孔16的遮光部分、漏极14、过孔16在第一基板10的投影区域均往栅极11方向移动，使其靠近栅极11，比如尽可能地靠近栅本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板，其特征在于，包括：第一基板；栅极、公共电极，设置于所述第一基板一侧；第一绝缘层，设置于所述栅极、所述公共电极的背对所述第一基板一侧；漏极，设置于所述第一绝缘层的背对所述第一基板一侧；第二绝缘层，设置于所述漏极的背对所述第一基板一侧；其中，所述第二绝缘层设有过孔，用于电性连接所述漏极与像素电极，所述公共电极对所述过孔的遮光部分、所述漏极、所述过孔在所述第一基板的投影区域均往所述栅极方向移动。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：第一基板；栅极、公共电极，设置于所述第一基板一侧；第一绝缘层，设置于所述栅极、所述公共电极的背对所述第一基板一侧；漏极，设置于所述第一绝缘层的背对所述第一基板一侧；第二绝缘层，设置于所述漏极的背对所述第一基板一侧；其中，所述第二绝缘层设有过孔，用于电性连接所述漏极与像素电极，所述公共电极对所述过孔的遮光部分、所述漏极、所述过孔在所述第一基板的投影区域均往所述栅极方向移动。2.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述第二绝缘层包括遮光层，所述遮光层由至少两种色阻堆叠形成。3.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述栅极、公共电极是由设置于所述第一基板上的第一金属层形成。4.根据权利要求3所述的基板，其特征在于，所述栅极、所述公共电极之间具有缝隙，所述漏极至少一部分投影在所述公共电极中，且邻近所述缝隙一侧不越过所述缝隙。5.一种显示面板，其特征在于，包括平行设置的阵列基板与透明基板，所述阵列基板包括：第一基板；栅极、公共电极，设置于所述第一基板一侧；第一绝缘层，设置于所述栅极、所述公共电极的背对所述第一基板一侧；漏极，设置于所述第一绝缘层的背对所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓竹明，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44