The invention discloses a display panel manufacturing method, the manufacturing method comprises: preparing a wire grid structure, a plurality of spaced arranged on the first substrate which defines a plurality of transparent region of the first substrate between a plurality of wire grid structure; grid structure to mask a black matrix is formed on a transparent area; provide a second substrate and a liquid crystal layer; a first substrate, a second substrate, a liquid crystal layer is formed on the display panel group. The invention also discloses a wire grid polarizer and a manufacturing method thereof. By the method, the invention can save cost and simplify manufacture process.
【技术实现步骤摘要】
显示面板的制造方法、线栅偏光片及其制造方法
本专利技术涉及领域显示
,特别是涉及一种显示面板的制造方法、线栅偏光片及其制造方法。
技术介绍
为了提高对比度,避免相连红(R)、绿(G)、蓝(B)等色层混色,减少外界光反射,防止外界光线照射TFT(ThinFilmTransistor,薄膜晶体管)器件的a-Si层而增加漏电流等,一般都会使用黑色矩阵(Blackmatrix,BM)进行遮光。现有的黑色矩阵在制作时需要预先购买或者制作的掩膜版来制作黑色矩阵且黑色矩阵是一个独立的制作工艺过程,使得整个显示面板的制作过程复杂,不利于成本的节约和制程简化,且黑色矩阵单独占用面板厚度,不利于显示面板的轻薄化。
技术实现思路
本专利技术主要解决的技术问题是提供一种显示面板的制造方法、线栅偏光片及其制造方法,能够节约成本、简化制程、利于显示面板的轻薄化。为解决上述技术问题,本专利技术采用的一个技术方案是:提供一种显示面板的制造方法,该制造方法包括:在第一基板上制备多个间隔排列的线栅结构,其中,多个线栅结构之间定义第一基板的多个透明区域;以线栅结构为掩膜版在透明区域形成黑色矩阵;提供第二基板和液晶层;将第一基板、第二基板、液晶层进行对组形成显示面板。为解决上述技术问题,本专利技术采用的另一个技术方案是:提供一种线栅偏光片的制造方法,该制造方法包括:在第一基板上制备多个间隔排列的线栅结构,其中,多个线栅结构之间定义第一基板的多个透明区域;以线栅结构为掩膜版在透明区域形成黑色矩阵。为解决上述技术问题,本专利技术采用的又一个技术方案是:提供一种线栅偏光片,该线栅偏光片包括线栅偏光片 ...
【技术保护点】
一种显示面板的制造方法,其特征在于,所述制造方法包括:在第一基板上制备多个间隔排列的线栅结构,其中,所述多个线栅结构之间定义所述第一基板的多个透明区域;以所述线栅结构为掩膜版在所述透明区域形成黑色矩阵;提供第二基板和液晶层;将所述第一基板、所述第二基板、所述液晶层进行对组形成所述显示面板。
【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制造方法,其特征在于,所述制造方法包括:在第一基板上制备多个间隔排列的线栅结构,其中,所述多个线栅结构之间定义所述第一基板的多个透明区域;以所述线栅结构为掩膜版在所述透明区域形成黑色矩阵;提供第二基板和液晶层;将所述第一基板、所述第二基板、所述液晶层进行对组形成所述显示面板。2.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于,所述在第一基板上制备多个间隔排列的线栅结构包括:在第一基板上形成线栅材料层;在所述线栅材料层上涂布光阻材料以形成光阻层;对所述光阻层进行压印以使所述线栅材料层部分外露;将所述线栅材料层外露的部分蚀刻;将所述光阻层去除。3.根据权利要求2所述的制造方法,其特征在于,所述对所述光阻层进行压印以使所述线栅材料层部分外露包括:对所述光阻层采用纳米压印工艺进行压印。4.根据权利要求3所述的制造方法,其特征在于,对所述光阻层采用纳米压印工艺进行压印包括:对所述光阻层进行烘烤;利用纳米压印模具对所述光阻层进行压印;将所述纳米压印模具从所述光阻层脱离;将经过压印后的所述光阻层的凹处的光阻材料蚀刻去除以使所述线栅材料层部分外露。5.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于,所述线栅结构包括多个间隔排...
【专利技术属性】
技术研发人员:李明辉,陈孝贤,陈黎暄,
申请(专利权)人:深圳市华星光电技术有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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