The method of analysis of the present invention is to distinguish the phthalate two formate from the spectrum obtained by irradiating the electromagnetic wave to it. The method is to make different kinds of phthalic acid ester such as two (DEHP) and (DINP) respectively arranged on a metal plate attached to the PVC and other provisions of the basilar membrane first samples and second samples, the adjacent benzene two formic acid ester of different types into different state. The electromagnetic waves were irradiated with the prepared first and second samples respectively, and the metal reflection (IR) spectra (P) and metal reflection (IR) spectra (Q) were obtained. For different types of phthalate two formic acid esters, spectra with significant differences can be obtained, and the identification of the species of phthalic acid, two formic acid esters can be carried out by using this spectrum.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】分析方法、分析装置及分析程序
本专利技术涉及分析方法、分析装置及分析程序。
技术介绍
邻苯二甲酸酯例如可以用于在电缆被覆材中使用的聚氯乙烯等树脂制品的增塑剂。作为在增塑剂中使用的邻苯二甲酸酯,有邻苯二甲酸二-2-乙基己酯(Di(2-EthylHexyl)Phthalate;DEHP)、邻苯二甲酸二丁酯(DiButylPhthalate;DBP)、邻苯二甲酸丁基苄酯(ButylBenzylPhthalate;BBP)、邻苯二甲酸二异壬酯(DiIsoNonylPhthalate;DINP)等。在这样的邻苯二甲酸酯中,DEHP、DBP、BBP这3种类型在欧州REACH(Registration,Evaluation,AuthorisationandrestrictionofCHemicals)规定中有列为高关注物质(SubstanceofVeryHighConcern;SVHC)的历史。另外,在限制对电子和电气设备的特定有害物质的使用的RoHS(RestrictionsofthecertainHazardousSubstancesinelectricalandelectronicequipment)指令中该3种类型有被列为限制候补物质的历史。在上述的电缆被覆材等的制品中所含的邻苯二甲酸酯的分析中,已知使用分光分析法的技术,其与使用气相色谱-质谱分析法、液相色谱-质谱分析法相比时间或成本上有利。例如,已知使用在基板上捕集对电缆被覆材加热而产生的蒸汽的试样,用傅立叶变换红外光谱法(FourierTransform-InfraRedspectroscopy;FT-IR ...
【技术保护点】
一种分析方法,其特征在于,包括如下工序:准备将第1邻苯二甲酸酯和第2邻苯二甲酸酯分别附着于一对第1基底膜和第2基底膜,使所述第1邻苯二甲酸酯和所述第2邻苯二甲酸酯成为彼此不同的状态的第1试样和第2试样的工序,对所述第1试样和所述第2试样分别照射电磁波,取得第1光谱和第2光谱的工序。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种分析方法,其特征在于,包括如下工序:准备将第1邻苯二甲酸酯和第2邻苯二甲酸酯分别附着于一对第1基底膜和第2基底膜,使所述第1邻苯二甲酸酯和所述第2邻苯二甲酸酯成为彼此不同的状态的第1试样和第2试样的工序,对所述第1试样和所述第2试样分别照射电磁波,取得第1光谱和第2光谱的工序。2.根据权利要求1所述的分析方法,其特征在于,所述第1邻苯二甲酸酯和所述第2邻苯二甲酸酯的所述不同状态,是因通过将所述第1邻苯二甲酸酯和所述第2邻苯二甲酸酯附着于所述第1基底膜和所述第2基底膜而成为与单体不同的状态以及相对于所述第1基底膜和所述第2基底膜的吸收的状态为不同而产生的。3.根据权利要求2所述的分析方法,其特征在于,准备所述第1试样和所述第2试样的工序中,准备所述第1邻苯二甲酸酯被吸收于所述第1基底膜的内部的状态的所述第1试样和所述第2邻苯二甲酸酯残留于所述第2基底膜的表面的状态的所述第2试样。4.根据权利要求1所述的分析方法,其特征在于,包括如下工序:准备第3试样的工序,所述第3试样是将判定与所述第1邻苯二甲酸酯或所述第2邻苯二甲酸酯的一致性的判定对象物质附着于与所述第1基底膜和所述第2基底膜同种的第3基底膜而成的,对所述第3试样照射电磁波而取得第3光谱的工序,使用所述第1光谱、所述第2光谱及所述第3光谱来判定所述判定对象物质的、与所述第1邻苯二甲酸酯或所述第2邻苯二甲酸酯的一致性的工序。5.根据权利要求4所述的分析方法,其特征在于,判定所述一致性的工序包括如下工序:使用各基准线和通用的基准峰位置的强度,对所述第1光谱、所述第2光谱以及所述第3光谱进行标准化的工序,生成已标准化的所述第1光谱与所述第2光谱的具有强度差的彼此的第1峰位置的强度的第1中间值的工序,判定已标准化的所述第3光谱的所述第1峰位置的强度的相对于所述第1中间值的大小的工序,基于相对于所述第1中间值的大小,判定所述判定对象物质的所述一致性的工序。6.根据权利要求5所述的分析方法,其特征在于,判定所述一致性的工序进一步包括:生成已标准化的所述第1光谱和所述第2光谱的具有强度差的彼此的第2峰位置的强度的第2中间值的工序,判定已标准化的所述第3光谱的所述第2峰位置的强度的相对于所述第2中间值的大小的工序,基于相对于所述第1中间值的大小和相对于所述第2中间值的大小,判定所述判定对象物质的所述一致性的工序。7.根据权利要求4~6中任一项所述的分析方法,其特征在于,取得所述第1光谱、所述第2光谱以及所述第3光谱的工序包括如下工序:将分别对所述第1试样、所述第2试样以及所述第3试样照射电磁波而测定的光谱群与对所述第1基底膜或所述第2基底膜照射电磁波而测定的空白光谱的差示光谱群,分别作为所述第1光谱、所述第2光谱以及所述第3光谱而取得的工序。8.根据权利要求4~6中任一项所述的分析方法,其特征在于,准备所述第3试样的工序包括如下工序:使对含有所述判定对象物质的第4试样进行加热而生成的所述判定对象物质的蒸汽附着于所述第3基底膜的工序。9.一种分析装置,其特征在于,包括:取得第1光谱和第2光谱的第1取得部,所述第1光谱和第2光谱是对将第1邻苯二甲酸酯和第2邻苯二甲酸酯分别附着于一...
【专利技术属性】
技术研发人员:野口道子,尾崎光男,臼井康博,
申请(专利权)人:富士通株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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