一种化合物及包含该化合物的着色固化性树脂组合物制造技术

技术编号:15527846 阅读:96 留言:0更新日期:2017-06-04 15:34
本发明专利技术提供一种式(Z)所示的化合物,其是由着色固化性树脂组合物形成滤色器时可以抑制着色剂升华的化合物。[式(Z)中,R

A compound and a coloring curable resin composition containing the compound

The present invention provides a compound shown in formula (Z), a compound that inhibits the sublimation of colorant when a color filter is formed by a colored curable resin composition. [formula (Z), R

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】一种化合物及包含该化合物的着色固化性树脂组合物
本专利技术涉及一种化合物及包含该化合物的着色剂、着色固化性树脂组合物等。
技术介绍
例如为了在纤维材料、液晶显示装置、喷墨等领域中利用反射光或透射光进行颜色显示而使用染料。作为该染料,已知下式所示的香豆素6。[化1]现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2006-154740号公报(实施例8)
技术实现思路
专利技术要解决的课题在由包含式(d0)所示的化合物的着色固化性树脂组合物形成滤色器的工序中存在着色剂升华的问题。用于解决课题的手段本专利技术包含如下技术方案。[1]一种式(Z)所示的化合物。[化2][式(Z)中,R1及R2分别独立地表示氢原子、碳数1~20的1价饱和烃基、芳基、包含丙烯酰基的基团、包含甲基丙烯酰基的基团或包含硅原子的基团。R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及R10分别独立地表示氢原子、卤素原子、氰基、羧基、硝基、碳数1~20的烷基、碳数1~20的烷氧基、包含丙烯酰基的基团、包含甲基丙烯酰基的基团或包含硅原子的基团。其中,R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及R10中的至少1个为包含丙烯酰基的基团、包含甲基丙烯酰基的基团或包含硅原子的基团。][2]根据[1]所述的化合物,其中,包含硅原子的基团为式(Z1)所示的基团。[化3][式中,R11A表示单键或碳数1~10的亚烷基,该亚烷基中所含的-CH2-可以被-O-、-CO-、-NR10-、-OCO-、-COO-、-OCONH-、-CONH-或-NHCO-置换,该亚烷基中所含的氢原子可以被可具有羟基的碳数1~4的烷基取代。R10表示氢原子或碳数1~20的1价饱和烃基。R12A、R13A及R14A分别独立地表示氢原子、羟基、碳数1~4的烷基或碳数1~4的烷氧基。*表示与氮原子或碳原子的键合端。][3]根据[1]或[2]所述的化合物,其中,包含丙烯酰基的基团或包含甲基丙烯酰基的基团为式(Z2)所示的基团。[化4]*-R15A-R16A(Z2)[式中,R15A表示碳数1~10的亚烷基,该亚烷基中所含的-CH2-可以被-O-、-CO-、-NR11-、-OCO-、-COO-、-OCONH-、-CONH-或-NHCO-置换,该亚烷基中所含的氢原子可以被可具有羟基的碳数1~4的烷基取代。R11表示氢原子或碳数1~20的1价饱和烃基。R16A表示丙烯酰基或甲基丙烯酰基。*表示与氮原子或碳原子的键合端。][4]一种着色剂,其包含[1]~[3]中任一项所述的化合物。[5]根据[4]所述的着色剂,其还包含绿色颜料。[6]根据[5]所述的着色剂,其中,绿色颜料为选自卤化铜酞菁颜料及卤化锌酞菁颜料中的至少一种。[7]根据[5]或[6]所述的着色剂,其中,绿色颜料为选自氯化铜酞菁颜料、溴化铜酞菁颜料及溴化锌酞菁颜料中的至少一种。[8]根据[5]~[7]中任一项所述的着色剂,其中,绿色颜料为选自C.I.颜料绿36及C.I.颜料绿58中的至少一种。[9]一种着色固化性树脂组合物,其包含[4]~[8]中任一项所述的着色剂、树脂、聚合性化合物及聚合引发剂。[10]一种滤色器,其由[9]所述的着色固化性树脂组合物形成。[11]一种液晶显示装置,其包含[10]所述的滤色器。专利技术效果在由包含本专利技术的化合物的着色固化性树脂组合物形成滤色器的情况下,可以抑制着色剂的升华。具体实施方式<式(Z)所示的化合物(以下有时称作化合物(Z)。)>[化5][式(Z)中,R1及R2分别独立地表示氢原子、碳数1~20的1价饱和烃基、芳基、包含丙烯酰基的基团、包含甲基丙烯酰基的基团或包含硅原子的基团。R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及R10分别独立地表示氢原子、卤素原子、氰基、羧基、硝基、碳数1~20的烷基、碳数1~20的烷氧基、包含丙烯酰基的基团、包含甲基丙烯酰基的基团或包含硅原子的基团。其中,R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及R10中的至少1个为包含丙烯酰基的基团、包含甲基丙烯酰基的基团或包含硅原子的基团。]作为R1及R2所示的碳数1~20的1价饱和烃基,可列举:甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基、正壬基、正癸基、正十二烷基、正十六烷基及二十烷基等碳数1~20的直链状烷基;异丙基、异丁基、仲丁基、叔丁基、异戊基、新戊基及2-乙基己基等碳数3~20的支链状烷基;等碳数1~20的烷基;环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基、环辛基及三环癸基等碳数3~20的脂环式饱和烃基。作为R1及R2所示的芳基,可列举苯基、邻甲苯基、间甲苯基、对甲苯基、2,3-二甲基苯基、2,4-二甲基苯基、2,5-二甲基苯基、2,6-二甲基苯基、3,4-二甲基苯基、3,5-二甲基苯基、2-乙基苯基、3-乙基苯基、4-乙基苯基等可以被烷基等取代的苯基,优选为甲苯基或二甲基苯基。作为R1及R2,分别独立地优选为碳数1~20的烷基,更优选为碳数1~4的直链状烷基或碳数5~10的支链状烷基,更优选为乙基或2-乙基己基,进一步优选为乙基。*-NR1R2(*表示与碳原子的键合端)优选为下式所示的基团。[化6]作为R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及R10所示的碳数1~20的烷基,可列举甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、己基、庚基、2-乙基己基、辛基、环丙基、环丁基、环戊基、环己基及甲基环己基。作为R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及R10所示的碳数1~20的烷氧基,可列举甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊氧基、己氧基、庚氧基及辛氧基。作为R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及R10所示的卤素原子,可列举氟原子、氯原子及溴原子。其中,R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及R10中的至少1个为包含丙烯酰基的基团、包含甲基丙烯酰基的基团或包含硅原子的基团。R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及R10所示的包含丙烯酰基的基团或包含甲基丙烯酰基的基团是指:具有至少1个丙烯酰基或甲基丙烯酰基作为基团的构成单元的基团。包含丙烯酰基的基团的碳数通常为3~16,优选为3~12,更优选为3~8。包含甲基丙烯酰基的基团的碳数通常为4~17,优选为4~13,更优选为4~9。包含丙烯酰基的基团优选为包含丙烯酰氧基的基团。包含甲基丙烯酰基的基团优选为包含甲基丙烯酰氧基的基团。作为包含丙烯酰基的基团或包含甲基丙烯酰基的基团,优选为式(Z2)所示的基团。[化7]*-R15A-R15A(Z2)[式中,R15A表示碳数1~10的亚烷基,该亚烷基中所含的-CH2-可以被-O-、-CO-、-NR11-、-OCO-、-COO-、-OCONH-、-CONH-或-NHCO-置换,该亚烷基中所含的氢原子可以被可具有羟基的碳数1~4的烷基取代。R11表示氢原子或碳数1~20的1价饱和烃基。R16A表示丙烯酰基或甲基丙烯酰基。*表示与氮原子或碳原子的键合端。]作为R15A所示的碳数1~10的亚烷基,可列举亚甲基、亚乙基、三亚甲基、四亚甲基、五亚甲基、六亚甲基、亚异丙基、亚异丁基、2-甲基三亚甲基、亚异戊基、亚异己基、亚异辛基及2-乙基亚己基,优选碳数1~6的亚烷基,更优选碳数1~4的亚烷基。作本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种式(Z)所示的化合物,

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.09.12 JP 2014-1860171.一种式(Z)所示的化合物,式(Z)中,R1及R2分别独立地表示氢原子、碳数1~20的1价饱和烃基、芳基、包含丙烯酰基的基团、包含甲基丙烯酰基的基团或包含硅原子的基团,R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及R10分别独立地表示氢原子、卤素原子、氰基、羧基、硝基、碳数1~20的烷基、碳数1~20的烷氧基、包含丙烯酰基的基团、包含甲基丙烯酰基的基团或包含硅原子的基团,其中,R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及R10中的至少1个为包含丙烯酰基的基团、包含甲基丙烯酰基的基团或包含硅原子的基团。2.根据权利要求1所述的化合物,其中,包含硅原子的基团为式(Z1)所示的基团,式(Z1)中,R11A表示单键或碳数1~10的亚烷基,该亚烷基中所含的-CH2-可以被-O-、-CO-、-NR10-、-OCO-、-COO-、-OCONH-、-CONH-或-NHCO-置换,该亚烷基中所含的氢原子可以被可具有羟基的碳数1~4的烷基取代,R10表示氢原子或碳数1~20的1价饱和烃基,R12A、R13A及R14A分别独立地表示氢原子、羟基、碳数1~4的烷基或碳数1~4的烷氧基,*表示与氮原子或碳原子的键合端。3.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员:芦田彻
申请(专利权)人:住友化学株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

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