电磁炉煮水壶定位结构制造技术

本发明专利技术涉及茶具技术领域，更具体地，涉及一种电磁炉煮水壶定位结构，其，包括电磁炉和放置于电磁炉炉面上的煮水壶，其特征在于，所述电磁炉炉面的中部上设有定位件，所述煮水壶的底面设有与定位件相互配合的凹陷部。本发明专利技术电磁炉煮水壶定位结构，其分别在电磁炉和煮水壶的接触面上设置相互配合固定的定位件和凹陷部，直接将煮水壶放置在电磁炉炉面即可固定而不易滑动，避免碰翻，方便设置自动加水，也减少了煮水壶滑移造成的电磁炉热量能量损耗，该定位结构便于将煮水壶稳定地固定在电磁炉炉面上，有效避免了煮水壶滑离电磁炉炉面中心的情况。

Positioning structure for kettle of electromagnetic oven

The present invention relates to the technical field of tea, more specifically, relates to a cooker kettle positioning structure, which comprises an electromagnetic oven and placed on the electromagnetic oven on the surface of the kettle, which is characterized in that the electromagnetic furnace is the central part of the positioning piece is arranged on the kettle, the bottom surface of a concave part cooperate with the positioning piece. The electromagnetic oven cooking kettle positioning structure, which are in the electromagnetic oven and cooking kettle arranged on the contact surface with each other fixed positioning part and a concave part, directly to the boiling kettle placed in the electromagnetic furnace face can be fixed and not easy to slide, avoid overturning, easy to set up automatic water, also reduces the heat energy loss electromagnetic stove cooking kettle caused by the slip, the positioning structure can be stably fixed in the kettle on the surface of the electromagnetic oven, avoid the kettle slipping away from the center of the electromagnetic oven.

【技术实现步骤摘要】
电磁炉煮水壶定位结构
本专利技术涉及茶具
，更具体地，涉及一种电磁炉煮水壶定位结构。
技术介绍
现有市面上的电磁炉面板都是一平面微晶板，电磁炉面与煮水壶之间一般不存在定位和固定结构，如果电磁炉没有水平放置，煮水壶很容易滑开。虽然只要煮水壶在电磁炉所产生的磁场范围内就可以发生反应，但是当煮水壶滑离中心位置后，电磁感应面积会相应减少，功率也会相应降低，甚至当煮水壶内的水烧开时，使用者不小心碰到煮水壶，会有撞落烫伤的风险。现有中国专利公告号为CN204394218U公开的一种电磁炉磁吸式固定壶，包括电磁炉、水壶、加水器，所述加水器具有导引臂，所述电磁炉与水壶通过磁性组件进行磁吸式固定。这种电磁炉煮水壶的煮水壶与电磁炉之间是通过磁性组件进行固定的，实际在生产制造过程中较为不便，且会对电磁炉内的电路板等造成影响，通常通过外部构件进行煮水壶与电磁炉之间的固定较为理想。
技术实现思路
本专利技术为克服上述现有技术所述的至少一种缺陷，提供一种电磁炉煮水壶定位结构，其便于将煮水壶稳定地固定在电磁炉炉面上，有效避免了煮水壶滑离电磁炉炉面中心的情况。为解决上述技术问题，本专利技术采用的技术方案是：提供一种电磁炉煮水壶定位结构，包括电磁炉和放置于电磁炉炉面上的煮水壶，所述电磁炉炉面的中部上设有定位件，所述煮水壶的底面设有与定位件相互配合的凹陷部。进一步地，所述定位件为弧形凸起，与之相互配合的凹陷部为弧形凹陷。更进一步地，所述弧形凸起的最顶端距离所述电磁炉炉面的高度为0.5~2.0cm，所述弧形凹陷的凹陷深度至少等于弧形凸起距离电磁炉炉面的高度。作为一个实施方式，所述定位件设有若干个，若干个所述定位件均匀分布在所述电磁炉炉面上；所述凹陷部设置的个数至少等于所述定位件的个数，且与所述定位件相互配合。优选地，所述定位件呈一道或多道矩形或环形分布。作为一个实施方式，所述定位件为环状的弧形凸起，与之相互配合的凹陷部位环状的弧形凹陷。优选地，所述定位件设有若干个，若干个所述定位件呈同心圆分布在所述电磁炉炉面上；所述凹陷部设置的个数至少等于所述定位件的个数，且与所述定位件相互配合。可选地，所述定位件与所述电磁炉炉面一体成型，凹陷部与所述煮水壶一体成型。与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：本专利技术电磁炉煮水壶定位结构，其分别在电磁炉和煮水壶的接触面上设置相互配合固定的定位件和凹陷部，直接将煮水壶放置在电磁炉炉面即可固定而不易滑动，避免碰翻，方便设置自动加水，也减少了煮水壶滑移造成的电磁炉热量能量损耗，该定位结构便于将煮水壶稳定地固定在电磁炉炉面上，有效避免了煮水壶滑离电磁炉炉面中心的情况。附图说明图1为实施例一电磁炉煮水壶定位结构的整体结构示意图。图2为实施例一电磁炉煮水壶定位结构的拆分结构示意图。图3为实施例二电磁炉煮水壶定位结构的电磁炉炉面的结构示意图。图4为实施例二电磁炉煮水壶定位结构的煮水壶底面的结构示意图。图5为实施例二电磁炉煮水壶定位结构的电磁炉炉面的又一结构示意图。图6为实施例二电磁炉煮水壶定位结构的煮水壶底面的又一结构示意图。图7为实施例三电磁炉煮水壶定位结构的电磁炉炉面的结构示意图。图8为实施例三电磁炉煮水壶定位结构的煮水壶底面的结构示意图。具体实施方式下面结合具体实施方式对本专利技术作进一步的说明。其中，附图仅用于示例性说明，不能理解为对本专利的限制；为了更好地说明本专利技术的实施例，附图某些部件会有省略、放大或缩小，并不代表实际产品的尺寸；对本领域技术人员来说，附图中某些公知结构及其说明可能省略是可以理解的。本专利技术实施例的附图中相同或相似的标号对应相同或相似的部件；在本专利技术的描述中，需要理解的是，若有术语“上”、“下”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此附图中描述位置关系的用语仅用于示例性说明，不能理解为对本专利的限制。并且，上述部分术语除了可以用于表示方位或位置关系以外，还可能用于表示其他含义，例如术语“上”在某些情况下也可能用于表示某种依附关系或连接关系。此外，若有“第一”、“第二”等术语仅用于描述目的，主要是用于区分不同的装置、元件或组成部分（具体的种类和构造可能相同也可能不同），并非用于表明或暗示所指示装置、元件或组成部分的相对重要性和数量，而不能理解为指示或者暗示相对重要性。实施例一如图1、图2所示为本专利技术电磁炉煮水壶定位结构的第一实施例。如图1、图2所示，该定位结构包括电磁炉1和放置于电磁炉1的炉面上的煮水壶2，电磁炉炉面的中部上设有定位件11，煮水壶2的底面设有与定位件相互配合的凹陷部21。其中，如图1所示，定位件为弧形凸起，与之相互配合的凹陷部为弧形凹陷。弧形结构的设计，便于生产制造，在使用过程中电磁炉1与煮水壶2的相互配合固定也更为流畅自然。可以理解的是，弧形结构的设计也不是无尺寸限制的，若弧形结构设计得太浅，则无法达到真正的煮水壶2定位效果，仍旧容易滑离电磁炉1炉面；但若弧形结构设计得太深，拿取又不方便，并且甚至会造成难于清洁的情况。在本实施例中，弧形凸起的最顶端距离电磁炉1炉面的高度H为0.5~2.0cm，弧形凹陷的凹陷深度至少等于弧形凸起距离电磁炉1炉面的高度H，但一般将凹陷深度做得恰好能与前述高度相配合。经过大量的试验证明，在实际使用中，一般将弧形凸起的最顶端距离电磁炉1炉面的高度H设计为0.9cm时，使用效果较佳，煮水壶在装有一定量水的情况下，倾斜至30°不会滑移电磁炉炉面中心。该电磁炉煮水壶定位结构，其分别在电磁炉1和煮水壶2的接触面上设置相互配合固定的定位件和凹陷部，直接将煮水壶2放置在电磁炉1炉面即可固定而不易滑动，避免碰翻，方便设置自动加水，也减少了煮水壶2滑移造成的电磁炉1热量能量损耗，该定位结构便于将煮水壶2稳定地固定在电磁炉1炉面上，有效避免了煮水壶2滑离电磁炉1炉面中心的情况。实施例二如图3至图6所示为本专利技术电磁炉煮水壶定位结构的第二实施例，作为对实施例一的改进，如图3所示，定位件11设有多个，这多个定位件11以电磁炉1炉面中心为中心平均分布在电磁炉1炉面上；相应地，凹陷部21设置的个数与定位件11的个数相同，且与定位件11相互配合。当然，凹陷部21的个数还可以设置更多个，可以根据实际需要进行确定。这些定位件的分布形态可以不是固定唯一的设计。如图3所示，定位件11可以呈一道环形分布，或如图5所示呈一道矩形分布，甚至也可以呈多道矩形或环形分布，相应地，如图4、图6所示，凹陷部与之相对应设计。但实际使用时，可以采取最简便的生产制造方式，采用实施例一的结构设计。实施例三如图7、图8所示为本专利技术电磁炉煮水壶定位结构的第三实施例，作为对实施例一的改进，与实施例二不同的是，本实施例的定位件11为环状的弧形凸起，与之相互配合的凹陷部位21环状的弧形凹陷。同样地，本实施例的定位件也可以设置多个（图未示），这多个定位件可以呈同心圆分布在电磁炉炉面上；相应地，凹陷部设置的个数也至少等于定位件的个数，且与定位件相互配合。上述实施例中，为了增加生产、制造及使用的便利性，定位件与电磁炉炉面一体成型，凹陷部与煮水壶一体成型。该电磁炉本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电磁炉煮水壶定位结构，包括电磁炉和放置于电磁炉炉面上的煮水壶，其特征在于，所述电磁炉炉面的中部上设有定位件，所述煮水壶的底面设有与定位件相互配合的凹陷部。

【技术特征摘要】
1.一种电磁炉煮水壶定位结构，包括电磁炉和放置于电磁炉炉面上的煮水壶，其特征在于，所述电磁炉炉面的中部上设有定位件，所述煮水壶的底面设有与定位件相互配合的凹陷部。2.根据权利要求1所述的电磁炉煮水壶定位结构，其特征在于，所述定位件为弧形凸起，与之相互配合的凹陷部为弧形凹陷。3.根据权利要求2所述的电磁炉煮水壶定位结构，其特征在于，所述弧形凸起的最顶端距离所述电磁炉炉面的高度为0.5~2.0cm，所述弧形凹陷的凹陷深度至少等于弧形凸起距离电磁炉炉面的高度。4.根据权利要求3所述的电磁炉煮水壶定位结构，其特征在于，所述定位件设有若干个，若干个所述定位件均匀分布在所述电磁炉炉面上；所述凹陷部设置的个...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈俊平，
申请(专利权)人：广东海利集团有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44