用于制造涂层的方法以及具有涂层的光电子半导体部件技术

说明一种用于制造涂层的方法，其包括以下步骤：提供具有盖面（4a）和主涂层方向（Z）的材料源（4），提供具有盖面（1a）的衬底保持器（1），提供至少一个基础层（2），所述基础层具有在衬底的盖面（1a）上的背向衬底保持器（1）的涂层面（2a），将衬底保持器（1）安装在旋转臂（3）上，所述旋转臂沿着旋转臂（3）的主延伸方向具有长度（3L），调节旋转臂（3）的长度（3L），使得法向角（

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于制造涂层的方法以及具有涂层的光电子半导体部件
要解决的任务在于，说明一种用于制造一致覆盖的涂层的方法。另一个要解决的任务在于，说明一种具有一致覆盖的涂层的光电子半导体部件。
技术实现思路
说明一种用于制造涂层的方法。该涂层例如可以是光电子半导体部件的金属层、半导体层或绝缘层。该涂层优选地是薄的、即例如最高10μm厚的由具有优选少的杂质的材料构成的层。即该层优选地由上述材料组成并且例如具有最高3%、特别是最高1%的杂质。涂层优选地利用以下材料构成，该材料可以利用作为材料源的蒸镀源来提供。根据方法的至少一种实施方式，首先提供具有蒸发面和主涂层方向的材料源。材料源例如在其内部中包含用于涂层的材料。如果涂层多种材料或多种材料组分，则也可以使用多个材料源或具有多种材料的材料源。用于涂层的至少一种材料例如通过加热或通过利用带电粒子轰击从材料源分离出来。材料源的主辐射沿着主涂层方向进行。换句话说，由材料源发出的材料流沿着主涂层方向是最大的。材料流可以沿着材料源的蒸发面的至少一个延伸方向、即垂直于主辐射方向是最小的。根据方法的至少一种实施方式，提供具有盖面的衬底保持器。优选地平坦地构造盖面。换句话说，盖面的走向与经过盖面伸展的所设想的数学平面偏差了垂直于上述平面的转盘的厚度的最高±10%、优选最高±5%。衬底保持器的盖面朝向材料源。盖面的假想延长在此与主涂层方向成小于90°的角度。衬底保持器当前例如可以是转盘。通常可以的是，衬底保持器由机械自身支撑的材料构成。换句话说，对于传输衬底保持器不需要其他支撑元件，以便保护衬底保持器以免破坏。衬底保持器就此可以由多个层构造，其中衬底保持器的盖面可以利用半导体材料来构成。例如衬底保持器的盖面包括硅。根据方法的至少一种实施方式，在衬底保持器的盖面上布置基础层。基础层具有背向衬底保持器的涂层面。基础层因此可以是待涂覆的元件、例如待涂覆的衬底。涂层面朝向材料源。因此从材料源蒸发的材料可以被施加到涂层面上。此外，基础层优选地具有四个侧面。名称“涂层面”的选择在此不应该意味着，仅仅该面配备有涂层。更确切地说，基础层的侧面也优选地配备有涂层。涂层面更确切地说是主涂层面、即那些由于其相对于材料源的位置或由于其几何尺寸在数量上被沉积材料源的大部分材料的面。例如以长方体、平截方棱锥体或平截圆锥体的形状构造基础层。四个侧面在此可以将基础层的涂层面和朝向衬底保持器的盖面的底面相互连接。基础层例如可以是还没有完成的光电子半导体部件。基础层因此可以包括光电子半导体部件的层和/或结构。根据方法的至少一种实施方式，衬底保持器被安装在具有主延伸方向的旋转臂上。旋转臂被安装在衬底保持器的背向衬底保持器的底面上。旋转臂优选地与衬底保持器的底面固定连接。旋转臂的主延伸方向垂直于衬底底面伸展。旋转臂沿着其主延伸方向具有一个长度。例如旋转臂在其背向衬底保持器的末端处被安装在转动关节上。该固定例如可以机械地借助螺栓连接来实现。衬底保持器的衬底旋转轴的假想延长优选地沿着旋转臂的主延伸方向伸展。衬底旋转轴在此从衬底的盖面延伸至底面。衬底旋转轴优选地经过衬底重心伸展。名称“重心”在此并且在下文中不应该理解为几何上精确的重心，而是仅仅理解为制造公差范围内的重心。例如该重心与几何上精确的重心偏差了衬底直径的高达15%、优选地高达10%。根据方法的至少一种实施方式，调节旋转臂的长度。该调节例如可以通过选择具有相应长度的旋转臂来实现。此外，长度可以借助沿远离衬底保持器的方向移动转动关节或通过移动旋转臂在转动关节上的固定点来实现。根据方法的至少一种实施方式，调节旋转臂的长度，使得法向角在整个方法期间最小为30°并且最高为75°。优选地，法向角最小为40°并且最高为60°。法向角在此是基础层的涂层面的经过涂层面上的样本点的面法线与样本向量所成的角度。样本向量通过从材料源的蒸发面上的任意点至基础层的涂层面上的样本点的连接向量给出。优选地，作为材料源的蒸发面上的点不选择任意点，而是选择主涂层方向经过其伸展的点。例如法向角可以是旋转臂沿着材料源方向的假想延长与从材料源至旋转臂的固定点的连接向量所成的角度。根据方法的至少一种实施方式，现在将至少一个涂层施加在基础层的具有涂层面的侧上。该施加在下文中也称为“涂层过程”并且在涂层时间期间进行。涂层具有涂层厚度。在此并且在下文中分别可以将涂层的背向基础层的外表面至盖面的或者至位于该涂层之下的基础层的侧面之一的最小间距理解为涂层厚度。涂层的施加借助材料源实现。例如借助材料源蒸镀涂层。涂覆在涂层时间期间进行，其中优选地如此长地选择涂层时间，使得产生基础层的涂层面和/或侧面的完全覆盖。基础层的“完全覆盖”在此并且在下文中意指，基础层的背向衬底保持器的所有裸露的外表面在涂覆之后不再可接近并且所有面被涂层覆盖。涂层因此特别是整体的层并且不包括未与涂层的材料相互连接的多种材料。根据方法的至少一种实施方式，衬底保持器在涂覆至少一个涂层期间围绕着衬底旋转轴旋转。该旋转优选地以恒定的旋转频率进行。换句话说，在涂层时间或涂层过程期间不改变旋转频率。衬底旋转轴沿着旋转臂的主延伸方向伸展。优选地，在此旋转臂围绕着自身旋转。旋转臂的自旋转例如可以利用旋转关节来实现，旋转臂被安装在该旋转关节上。在此应该注意，法向角在涂层过程期间由于衬底保持器的旋转而变化。这所基于的原因在于，沿着其进行旋转的衬底旋转轴通常不经过基础层伸展。参照衬底旋转轴的位置，基础层例如在制造方法开始时更靠近材料源。由于旋转，基础层在涂层过程期间在以后的时间点、参照衬底旋转轴的位置更远离材料源。基础层与材料源的间距由于围绕着衬底旋转轴的旋转因此在时间上是可变的。这导致样本向量的改变并且因此导致法向角的改变。尽管可变，法向角在整个制造方法期间最小为30°并且最高为75°。根据用于制造涂层的方法的至少一种实施方式，该方法利用以下步骤实现：-提供具有盖面和主涂层方向的材料源，-提供具有盖面的衬底保持器，-提供至少一个基础层，该基础层具有在衬底的盖面上的背向衬底保持器的涂层面，-将衬底保持器安装在旋转臂上，该旋转臂沿着旋转臂的主延伸方向具有一个长度，-调节旋转臂的长度，使得基础层的涂层面的通过涂层面上的样本点的面法线与样本向量所成的角度在整个方法期间最小为30°并且最高为75°，该样本向量通过从材料源的盖面上的一点至涂层面上的样本点的连接向量给出，-借助材料源在基础层的具有涂层面的侧上涂覆至少一个涂层，其中-衬底保持器在涂覆涂层期间围绕着衬底旋转轴旋转，该衬底旋转轴沿着旋转臂的主延伸方向伸展。在这里描述的方法中，特别是遵循以下思想，即通过准确地调节旋转臂的长度使得法向角最小为30°并且最高为75°，可以实现基础层的均匀的上成形。因此能够实现基础层的角和/或棱的一致覆盖。此外，能够实现无裂缝的并且因此气密密封的涂层的制造。根据方法的至少一种实施方式，衬底保持器附加地围绕着总旋转轴旋转，该总旋转轴在制造公差的范围内沿着材料源的主涂层方向伸展。优选地，旋转在整个涂层过程期间进行。借助围绕着总旋转轴的旋转，可以补偿从材料源蒸发的材料流中的不均匀性。通过围绕着衬底旋转轴和总旋转轴的同时旋转，当前实现均匀的一致的涂层。通过围绕着衬底旋转轴的旋转特别是得出以下可能性，本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于制造涂层的方法，具有以下步骤：‑ 提供具有盖面（4a）和主涂层方向（Z）的材料源（4），‑ 提供具有盖面（1a）的衬底保持器（1），‑ 提供至少一个基础层（2），所述基础层具有在衬底的盖面（1a）上的背向衬底保持器（1）的涂层面（2a），‑ 将衬底保持器（1）安装在旋转臂（3）上，所述旋转臂沿着旋转臂（3）的主延伸方向具有长度（3L），‑ 调节旋转臂（3）的长度（3L），使得基础层（2）的涂层面（2a）的通过涂层面（2a）上的样本点（2p）的面法线与样本向量所成的法向角（

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.06.13 DE 102014108348.21.用于制造涂层的方法，具有以下步骤：-提供具有盖面（4a）和主涂层方向（Z）的材料源（4），-提供具有盖面（1a）的衬底保持器（1），-提供至少一个基础层（2），所述基础层具有在衬底的盖面（1a）上的背向衬底保持器（1）的涂层面（2a），-将衬底保持器（1）安装在旋转臂（3）上，所述旋转臂沿着旋转臂（3）的主延伸方向具有长度（3L），-调节旋转臂（3）的长度（3L），使得基础层（2）的涂层面（2a）的通过涂层面（2a）上的样本点（2p）的面法线与样本向量所成的法向角（）在整个方法期间最小为30°并且最高为75°，所述样本向量通过从材料源（4）的盖面（4a）上的一点（4m）至涂层面（2a）上的样本点（2p）的连接向量（42）给出，-借助材料源（4）将至少一个涂层（22）施加在基础层（2）的具有涂层面（2a）的侧上，其中-衬底保持器（1）在涂层（22）的涂层过程期间围绕着衬底旋转轴旋转，所述衬底旋转轴沿着旋转臂（3）的主延伸方向伸展。2.根据前述权利要求所述的方法，其中-衬底保持器（1）附加地围绕着总旋转轴旋转，所述总旋转轴在制造公差的范围内沿着材料源的主涂层方向（Z）伸展，-围绕着衬底旋转轴的旋转以第一旋转频率（ω1）进行并且围绕着总旋转轴的旋转以第二旋转频率（ω2）进行，其中第一旋转频率（ω1）大于第二旋转频率（ω2），-提供至少两个衬底（1），并且-所述至少两个衬底（1）和材料源（4）没有布置在共同的球表面上。3.根据前述权利要求之一所述的方法，其中衬底保持器（1）附加地围绕着总旋转轴旋转，所述总旋转轴在制造公差的范围内沿着材料源的主涂层方向（Z）伸展。4.根据前述权利要求之一所述的方法，其中围绕着衬底旋转轴的旋转以第一旋转频率（ω1）进行并且围绕着总旋转轴的旋转以第二旋转频率（ω2）进行，其中第一旋转频率（ω1）大于第二旋转频率（ω2）。5.根据前述权利要求之一所述的方法，其中涂层面（2a）上的任意点被选择为涂层面（2a）上的样本点（2p）。6.根据前述权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：M莱姆贝格尔，M施马尔，J伊科诺莫夫，
申请(专利权)人：奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE