用于制造涂层的方法以及具有涂层的光电子半导体部件技术

说明一种用于制造涂层的方法，其包括以下步骤：提供具有盖面（4a）和主涂层方向（Z）的材料源（4），提供具有盖面（1a）的衬底保持器（1），提供至少一个基础层（2），所述基础层具有在衬底的盖面（1a）上的背向衬底保持器（1）的涂层面（2a），将衬底保持器（1）安装在旋转臂（3）上，所述旋转臂沿着旋转臂（3）的主延伸方向具有长度（3L），调节旋转臂（3）的长度（3L），使得法向角（

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于制造涂层的方法以及具有涂层的光电子半导体部件
要解决的任务在于，说明一种用于制造一致覆盖的涂层的方法。另一个要解决的任务在于，说明一种具有一致覆盖的涂层的光电子半导体部件。
技术实现思路
说明一种用于制造涂层的方法。该涂层例如可以是光电子半导体部件的金属层、半导体层或绝缘层。该涂层优选地是薄的、即例如最高10μm厚的由具有优选少的杂质的材料构成的层。即该层优选地由上述材料组成并且例如具有最高3%、特别是最高1%的杂质。涂层优选地利用以下材料构成，该材料可以利用作为材料源的蒸镀源来提供。根据方法的至少一种实施方式，首先提供具有蒸发面和主涂层方向的材料源。材料源例如在其内部中包含用于涂层的材料。如果涂层多种材料或多种材料组分，则也可以使用多个材料源或具有多种材料的材料源。用于涂层的至少一种材料例如通过加热或通过利用带电粒子轰击从材料源分离出来。材料源的主辐射沿着主涂层方向进行。换句话说，由材料源发出的材料流沿着主涂层方向是最大的。材料流可以沿着材料源的蒸发面的至少一个延伸方向、即垂直于主辐射方向是最小的。根据方法的至少一种实施方式，提供具有盖面的衬底保持器。优选地平坦地构造盖面。换句本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于制造涂层的方法，具有以下步骤：‑ 提供具有盖面（4a）和主涂层方向（Z）的材料源（4），‑ 提供具有盖面（1a）的衬底保持器（1），‑ 提供至少一个基础层（2），所述基础层具有在衬底的盖面（1a）上的背向衬底保持器（1）的涂层面（2a），‑ 将衬底保持器（1）安装在旋转臂（3）上，所述旋转臂沿着旋转臂（3）的主延伸方向具有长度（3L），‑ 调节旋转臂（3）的长度（3L），使得基础层（2）的涂层面（2a）的通过涂层面（2a）上的样本点（2p）的面法线与样本向量所成的法向角（

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.06.13 DE 102014108348.21.用于制造涂层的方法，具有以下步骤：-提供具有盖面（4a）和主涂层方向（Z）的材料源（4），-提供具有盖面（1a）的衬底保持器（1），-提供至少一个基础层（2），所述基础层具有在衬底的盖面（1a）上的背向衬底保持器（1）的涂层面（2a），-将衬底保持器（1）安装在旋转臂（3）上，所述旋转臂沿着旋转臂（3）的主延伸方向具有长度（3L），-调节旋转臂（3）的长度（3L），使得基础层（2）的涂层面（2a）的通过涂层面（2a）上的样本点（2p）的面法线与样本向量所成的法向角（）在整个方法期间最小为30°并且最高为75°，所述样本向量通过从材料源（4）的盖面（4a）上的一点（4m）至涂层面（2a）上的样本点（2p）的连接向量（42）给出，-借助材料源（4）将至少一个涂层（22）施加在基础层（2）的具有涂层面（2a）的侧上，其中-衬底保持器（1）在涂层（22）的涂层过程期间围绕着衬底旋转轴旋转，所述衬底旋转轴沿着旋转臂（3）的主延伸方向伸展。2.根据前述权利要求所述的方法，其中-衬底保持器（1）附加地围绕着总旋转轴旋转，所述总旋转轴在制造公差的范围内沿着材料源的主涂层方向（Z）伸展，-围绕着衬底旋转轴的旋转以第一旋转频率（ω1）进行并且围绕着总旋转轴的旋转以第二旋转频率（ω2）进行，其中第一旋转频率（ω1）大于第二旋转频率（ω2），-提供至少两个衬底（1），并且-所述至少两个衬底（1）和材料源（4）没有布置在共同的球表面上。3.根据前述权利要求之一所述的方法，其中衬底保持器（1）附加地围绕着总旋转轴旋转，所述总旋转轴在制造公差的范围内沿着材料源的主涂层方向（Z）伸展。4.根据前述权利要求之一所述的方法，其中围绕着衬底旋转轴的旋转以第一旋转频率（ω1）进行并且围绕着总旋转轴的旋转以第二旋转频率（ω2）进行，其中第一旋转频率（ω1）大于第二旋转频率（ω2）。5.根据前述权利要求之一所述的方法，其中涂层面（2a）上的任意点被选择为涂层面（2a）上的样本点（2p）。6.根据前述权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：M莱姆贝格尔，M施马尔，J伊科诺莫夫，
申请(专利权)人：奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE