一种顶发射OLED器件折射钝化层的制备方法及其应用技术

本发明专利技术提供了一种顶发射OLED器件折射钝化层的制备方法，包括：步骤一、提供阵列基板，在阵列基板上表面涂布一层光学粘结剂，将所述光学粘结剂通过烘烤固化后形成薄膜，剥离所述薄膜得到透镜薄膜；步骤二、在所述透镜薄膜的上表面制备缓冲层；步骤三、在所述缓冲层上表面制备钝化薄膜，剥离所述钝化薄膜即得顶发射OLED器件折射钝化层。本发明专利技术提供的顶发射折射钝化层，粘贴在器件的顶部，可改变全反射角同时保护阴极，起到隔绝水氧的作用。

Method for preparing refraction passivation layer of top emitting OLED device and application thereof

The present invention provides a method of preparation of top emitting OLED refraction passivation layer comprises the steps of: providing array substrate on the array substrate surface coated with a layer of optical binder, the binder through optical curing to form a thin film, the film was stripped to the lens film; step two, in which the lens on the surface of thin film preparation buffer layer; step three, in the buffer layer were prepared on the surface of passivation film, stripping the passivation film is top emitting OLED refraction passivation layer. The top emitting refraction passivation layer provided by the invention is pasted on the top of the device to change the total reflection angle, and simultaneously protects the cathode to play the role of isolating water and oxygen.

【技术实现步骤摘要】
一种顶发射OLED器件折射钝化层的制备方法及其应用
本专利技术属于电子显示领域，涉及一种顶发射OLED器件折射钝化层的制备方法及其应用。
技术介绍
在目前的照明和显示领域中，由于有机发光二极管(OLED)具有低启动电压、轻薄、自发光等特点，受到越来越多的关注，被广泛研究用于开发照明产品以及面板行业中，以达到低能耗、轻薄和面光源的目的。OLED的发光主要通过激子的复合，然后从发光层出射到空气中。一般的底发射OLED照明器件，光出射的路径为：发光层-阳极-基板-空气，光需要经过四个步骤才可以到达空气入射到人的眼睛。顶发射器件的出光效率比底发射高，但是由于阴极一般采用ITO/Ag/ITO结构，其中ITO的折射率比空气高，会发生全反射的现象导致部分光线不能出射到空气中，造成发光效率的损失。器件一般都会采用光转换的方法提高出光效率，补充色域等。现有技术一般是采用底发射的下转换结构，通过在基板背部制备转换层，使光线出射后通过转换层，补充光能量，提高效率稳定性和色彩的转换，比如偏蓝的色彩，经过转换，可以达到纯蓝的色彩。而在目前顶发射器件中，上转换的结构较少，发光功能单一，且材料本身的光透过率有限，光损失较大。因此，有必要研究一种定发射转换器件，提供顶发射的出光效率，补充色域。
技术实现思路
为了达到上述目的，本专利技术一方面提供了一种顶发射OLED器件折射钝化层的制备方法，包括：步骤一、提供阵列基板，在阵列基板上表面涂布一层光学粘结剂，将所述光学粘结剂通过烘烤固化后形成薄膜结构，剥离所述薄膜结构得到透镜薄膜；步骤二、在所述透镜薄膜的上表面制备缓冲层；步骤三、在所述缓冲层上表面制备钝化薄膜，剥离所述钝化薄膜即得顶发射OLED器件折射钝化层。本专利技术中，所述阵列基板的上表面为与透镜薄膜的上表面相接触的面，透镜薄膜的上表面形状与阵列基板的上表面形状相对。根据本专利技术的优选实施方式，所述钝化薄膜通过聚二甲基硅氧烷类溶液固化得到，所述聚二甲基硅氧烷类溶液中含有纳米颗粒、荧光材料和量子点材料中的一种或多种。具体方法为：配制聚二甲基硅氧烷溶液，在聚二甲基硅氧烷溶液中添加需要的纳米颗粒、荧光材料或量子点材料中的一种或多种，充分混合均匀，然后将上述聚二甲基硅氧烷溶液涂布(旋涂或喷涂)在缓冲层上，进行烘烤固化。烘烤固化条件为本领域常用的烘烤固化条件。根据本专利技术的优选实施方式，所述聚二甲基硅氧烷类溶液包括聚二甲基硅氧烷及其同系物溶液。根据本专利技术的优选实施方式，所述量子点材料的质量分数为10％-40％；所述荧光材料的质量分数为10％-30％；所述纳米颗粒的质量分数为1％-10％。根据本专利技术的优选实施方式，所述量子点材料选自硫化镉、硒化镉和碲化镉中的一种或多种；所述纳米颗粒选自氧化锌、二氧化钛和氧化镁中的一种或多种。所述荧光材料选自本领域常用的荧光发光材料，优选为Alq3。根据本专利技术的优选实施方式，所述光学粘结剂选自有机树脂类粘结剂；所述缓冲层材料选自改性或未改性、掺杂或未掺杂的PEDOT:PSS。根据本专利技术的优选实施方式，所述步骤二中，缓冲层的厚度为1-10nm。根据本专利技术的另一方面，提供了一种顶发射OLED器件，包括基板以及在基板上依次设置的阳极、空穴传输层、发光层、电子传输层和阴极，在所述阴极上还设有根据上述方法制得的顶发射OLED器件折射钝化层。本专利技术提供的顶发射折射钝化层，粘贴在器件的顶部，可改变全反射角同时保护阴极，起到隔绝水氧的作用。折射钝化层采用纳米转印的方法，形成图案化的图形，折射钝化层中加入纳米颗粒以及荧光或者量子点材料，纳米颗粒可对光形成反射，量子点可对光进行补充，对光进行转换，加强色度，提高色域。附图说明图1是顶发射OLED器件折射钝化层制作流程图。图2是顶发射OLED器件结构示意图。其中，1阳极，2空穴传输层，3发光层，4电子传输层，5阴极，6顶发射OLED器件折射钝化层。具体实施方式以下结合实施例对本专利技术进行详细说明，但本专利技术并不受下述实施例限定。实施例1在普通的微透镜阵列基板上涂布一层光学粘结剂，通过烘烤，UV固化，然后形成与阵列形状相对的薄膜结构，将所述薄膜结构进行剥离，得到透镜薄膜。将得到的透镜薄膜中与阵列基板上表面相接触的面记为上表面。在透镜薄膜的上表面旋涂制备缓冲层，所述缓冲层材料选用PEDOT:PSS。配制PDMS(聚二甲基硅氧烷)溶液，在PDMS溶液中添加需要的量子点材料，如硫化镉、硒化镉、碲化镉，质量分数控制在10％-40％，然后加入质量分数为1％-10％的氧化锌纳米颗粒，提高光的反射能力，同时，充分混合分散量子点材料。将混合均匀的PDMS溶液涂布在制备了缓冲层的上表面，然后进行烘烤，热固化后得到钝化薄膜，剥离此钝化薄膜即得到需要的顶发射OLED器件折射钝化层。将顶发射OLED器件折射钝化层粘贴在OLED器件(包括基板以及在基板上依次设置的阳极、空穴传输层、发光层、电子传输层和阴极)的顶部，得到上转换层，并且起到保护阴极的作用。虽然在上文中已经参考了一些实施例对本专利技术进行了描述，然而在不脱离本发范围的情况下，可以对其进行各种改进，本专利技术所披露的各个实施例中的各项特征均可通过任意方式相互结合起来使用，在本说明书中未对这些组合的情况进行穷举性的描述仅仅是出于省略篇幅和节约资源的考虑。因此，本专利技术并不局限于文中公开的特定实施例，而是落入权利要求的范围的所有技术方案。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种顶发射OLED器件折射钝化层的制备方法，包括：步骤一、提供阵列基板，在阵列基板上表面涂布一层光学粘结剂，将所述光学粘结剂通过烘烤固化后形成薄膜结构，剥离所述薄膜结构得到透镜薄膜；步骤二、在所述透镜薄膜的上表面制备缓冲层；步骤三、在所述缓冲层上表面制备钝化薄膜，剥离所述钝化薄膜即得顶发射OLED器件折射钝化层。

【技术特征摘要】
1.一种顶发射OLED器件折射钝化层的制备方法，包括：步骤一、提供阵列基板，在阵列基板上表面涂布一层光学粘结剂，将所述光学粘结剂通过烘烤固化后形成薄膜结构，剥离所述薄膜结构得到透镜薄膜；步骤二、在所述透镜薄膜的上表面制备缓冲层；步骤三、在所述缓冲层上表面制备钝化薄膜，剥离所述钝化薄膜即得顶发射OLED器件折射钝化层。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述透镜薄膜的上表面为与阵列基板的上表面相接触的面，形状与阵列基板上表面的形状相对。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述钝化薄膜通过聚二甲基硅氧烷类溶液固化得到，所述聚二甲基硅氧烷类溶液中含有纳米颗粒、荧光材料和量子点材料中的一种或多种。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述聚二甲基硅氧烷类溶液包括聚二甲基硅氧烷及其同系物溶液。5.根据权利要求3所述的方法，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄辉，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44