The invention relates to a sealing method of a chip component and a preparation method thereof. The invention comprises the following steps: an end electrode is prepared on the end face of the ceramic body by magnetron sputtering; a nickel layer is electroplated on the surface of the end electrode; the tin layer is electroplated on the surface of the nickel layer. Preparation method of end sealing method of the chip components and the chip components, by magnetron sputtering in the end of the ceramic body by end electrodes can improve the device surface smooth degree; then in the end surface of the electrode layer of nickel plating and tin layer on the inner electrode, can play a protective role in. When welding can reduce the destruction of high temperature on the inner electrode.
【技术实现步骤摘要】
片式元器件的封端方法及制备方法
本专利技术涉及电子元件领域,特别是涉及片式元器件的封端方法及制备方法。
技术介绍
随着科技的发展,电子产品日新月异,一些具有新特性、新功能的产品开始展现良好的应用价值。为了满足新产品的技术发展趋势,对积层式元器件的形状、外观等方面提出了新的要求,需要对传统片式积层式元器件的生产工艺进行调整。传统的片式元器件难以兼顾表面光滑的问题和在焊接时内电极易损坏的问题。
技术实现思路
基于此,有必要针对片式元器件难以兼顾表面光滑的问题和在焊接时内电极易损坏的问题,提供一种片式元器件的封端方法及制备方法。一种片式元器件的封端方法,包括以下步骤:采用磁控溅射的方式在陶瓷体的端面制备端电极;在所述端电极的表面电镀形成镍层;在所述镍层的表面电镀形成锡层。在其中一个实施方式中,所述磁控溅射的靶材为镍铬合金。在其中一个实施方式中,所述磁控溅射的功率为200W~260W,磁控溅射的时间为5min~20min,加热的温度为200℃~400℃。在其中一个实施方式中,所述磁控溅射在保护性气体气氛下进行,所述保护气体的流量为30sccm~60sccm。在其中一个实施方式中,所述端电极的厚度为0.45μm~0.55μm。在其中一个实施方式中,所述采用磁控溅射的方式在所述陶瓷体的端面制备端电极的步骤前还包括步骤:对所述陶瓷体的端面进行打磨处理。在其中一个实施方式中,在所述端电极的表面电镀形成镍层的步骤中,电镀的时间为60min~120min。在其中一个实施方式中,在所述镍层的表面电镀形成锡层的步骤中,电镀的时间为60min~120min。在其中一个实施方式中,所述镍 ...
【技术保护点】
一种片式元器件的封端方法,其特征在于,包括以下步骤:采用磁控溅射的方式在陶瓷体的端面制备端电极;在所述端电极的表面电镀形成镍层;在所述镍层的表面电镀形成锡层。
【技术特征摘要】
1.一种片式元器件的封端方法,其特征在于,包括以下步骤:采用磁控溅射的方式在陶瓷体的端面制备端电极;在所述端电极的表面电镀形成镍层;在所述镍层的表面电镀形成锡层。2.根据权利要求1所述的片式元器件的封端方法,其特征在于,所述磁控溅射的靶材为镍铬合金。3.根据权利要求1所述的片式元器件的封端方法,其特征在于,所述磁控溅射的功率为200W~260W,磁控溅射的时间为5min~20min,加热的温度为200℃~400℃。4.根据权利要求1所述的片式元器件的封端方法,其特征在于,所述磁控溅射在保护性气体气氛下进行,所述保护气体的流量为30sccm~60sccm。5.根据权利要求1所述的片式元器件的封端方法,其特征在于,所述端电极的厚度为0.45μm~0.55μm。6.根据权利要求1所述的片式元器件的封端方法,其特征在于,所述采用磁控溅射的方式在所述陶瓷体的端面制备端电极的步骤前还包括步骤:对所述陶瓷体的端面进行打磨处理。7.根据权利要求1所述的片...
【专利技术属性】
技术研发人员:农剑,周超,付振晓,沓世我,伍秀波,王建明,李保昌,
申请(专利权)人:广东风华高新科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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