The present invention relates to a poly dopamine modified n type semiconductor material in the construction of application of photoelectric sensor in the immune, to construct the photoelectric immunosensor using polydopamine film modified n type semiconductor material wherein the polydopamine has the ability to absorb the visible light, can be used as an effective photosensitizer split charge, electron transfer, thus can increase the photocurrent in response, the sensor at the same time, the structure has two hydroxyl benzene molecular structure of polydopamine, this function and protein amino groups can react to biological probe molecules can be fixed without additional medium, the structure of the photoelectric immunosensor is more simple, to ensure the stability of the photoelectric sensor to immune. The construction of the photoelectric immunosensor has high sensitivity, specificity and stability, suitable for all The detection of proteins can also be used for the detection of other biomolecules such as DNA and cells.
【技术实现步骤摘要】
聚多巴胺修饰n型半导体材料在构建光电免疫传感器中的应用
本专利技术属于生物传感器
,具体涉及聚多巴胺修饰n型半导体材料在构建光电免疫传感器中的应用。
技术介绍
光电免疫传感是一种利用光电流来检测生物分子的方法,其基本原理是发生在光电极表面的抗原-抗体结合反应阻碍光电流的产生,通过检测抗原抗体反应前后同一光电极上的电流响应,就能对抗原进行直接定量检测,且无需任何标记抗体。一般而言光电极上除了需要集成光电转化所需的半导体-敏化染料等外,还需要提供温和友好的界面用于探针抗体的固定,所以构建步骤繁琐,且器件的稳定性和可重复性欠佳,因此,急需一种制备简单,性能可靠的光电免疫传感。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术的目的在于提供一种聚多巴胺修饰n型半导体材料在构建光电免疫传感器中的应用。为达到上述目的,本专利技术提供如下技术方案:1、聚多巴胺修饰n型半导体材料在构建光电免疫传感器中的应用。进一步,所述光电免疫传感器的制作方法为:(1)在FTO玻璃片上生长n型半导体材料:首先,将清洗后的FTO玻璃片导电面朝下斜靠于装有生长液的烧杯壁上,然后,将所述烧杯放入65-95℃水浴锅中0.5-4h,最后,取出所述玻璃片冲洗后吹干,制得n型半导体材料/FTO电极;(2)在n型半导体材料/FTO电极上生长聚多巴胺薄膜:将步骤(1)中制得n型半导体材料/FTO电极浸没在多巴胺溶液中2-24h,取出所述n型半导体材料/FTO电极冲洗后吹干,制得PDA/n型半导体材料/FTO电极;(3)在PDA/n型半导体材料/FTO电极上固定抗体分子:将步骤(2)中制得的PDA/n型半导体材料/FT ...
【技术保护点】
聚多巴胺修饰n型半导体材料在构建光电免疫传感器中的应用。
【技术特征摘要】
1.聚多巴胺修饰n型半导体材料在构建光电免疫传感器中的应用。2.根据权利要求1所述的应用,其特征在于,所述光电免疫传感器的制作方法为:(1)在FTO玻璃片上生长n型半导体材料:首先,将清洗后的FTO玻璃片导电面朝下斜靠于装有生长液的烧杯壁上,然后,将所述烧杯放入65-95℃水浴锅中0.5-4h,最后,取出所述玻璃片冲洗后吹干,制得n型半导体材料/FTO电极;(2)在n型半导体材料/FTO电极上生长聚多巴胺薄膜:将步骤(1)中制得n型半导体材料/FTO电极浸没在多巴胺溶液中2-24h,取出所述n型半导体材料/FTO电极冲洗后吹干,制得PDA/n型半导体材料/FTO电极;(3)在PDA/n型半导体材料/FTO电极上固定抗体分子:将步骤(2)中制得的PDA/n型半导体材料/FTO电极浸没在抗体溶液中0.5-24h,取出所述PDA/n型半导体材料/FTO电极冲洗后再将其浸没在牛血清蛋白溶液中0.25-24h,取出所述PDA/n型半导体材料/FTO电极冲洗后制得光电免疫传感器。3.根据权利要求2所述的应用,其特征在于,步骤(1)中,所述n型半导体材料为氧化锌纳米棒或二氧化钛纳米线中的一种。4.根据权利要求3所述的应用,其特征在于,所述光电免疫传感器的制作方法为:(1)在FTO玻璃片上生长氧化锌纳米棒:首先,将清洗后的FTO玻璃片导电面朝下斜靠于装有生长液的烧杯壁上,然后,将所述烧杯放入75℃水浴锅中2h,最后,取出所述玻璃片冲洗后吹干,制得ZnO/FTO电极;(2)在ZnO/FTO电极上生长聚多巴胺薄膜:将步骤(1)中制得ZnO/FT...
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