碳青霉烯化合物制造技术

本发明专利技术涉及下述式（Ⅰａ）所示的碳青霉烯化合物。该碳青霉烯化合物优选具有结晶形态，更优选是具有在晶面间距（＊）为１５．６４、９．９３、６．８３、６．５２、５．４４、５．０１、４．７２、４．５０、４．３３、４．２４、３．９８、３．８５、３．５７、３．４１、３．３１、３．１０、２．７６、２．６７处具有峰的粉末Ｘ射线衍射图案的结晶形态。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及作为2-(取代巯基)-lp-曱基碳青霉烯类抗生素的制造 中间体的新型碳青霉烯化合物。本申请基于2005年11月2日提出申请的特愿2005-319343号主张 优先权，在此引用其内容。自1976年发现噻烯霉素以来，人们就集中精力进行碳青霉烯类抗生 素的合成研究，以亚胺培南为代表，开发出许多具有优异抗菌活性的碳青 霉烯化合物。然而，这些碳青霉烯化合物大多具有容易被肾脱氢肽酶-I (DHP-I )代谢的缺点。为此，人们集中精力进行了旨在提高对DHP- I的稳定性的研究， 在1984年由默克公司的研究小组开发出维持优异的抗菌活性，并且化 学、物理性质稳定，且同时还具有对DHP-I的优异抵抗性的1(3-曱基 碳青霉烯类化合物。在这以后，由许多研究小组开发出在碳青霉烯骨架的2位上导入有 取代硫醇的、2-(取代巯基)-ip-甲基碳青霉烯类抗生素， 一部分已经被 实际应用。作为这样的化合物，已开发出例如下式所示的L-627 (比阿培南)
技术介绍
下式所示的S4661 (多利培南):NHS02NH2S4661 O下式所示的SM7338 (美洛培南):等,但是，以往，这些2-(取代巯基本文档来自技高网...

【技术保护点】
下述式（Ⅰａ）：＊＊＊（Ⅰａ）所示的碳青霉烯化合物。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：梶田理，
申请(专利权)人：日本曹达株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]