检测系统技术方案

本实用新型专利技术实施例涉及一种检测系统,包括：屏蔽箱和平台装置；屏蔽箱包括箱体和屏蔽门，箱体和屏蔽门均由屏蔽层构成；平台装置容置于屏蔽箱内，包括系统底板、X光机平台、放射源平台、探测器平台和转动滤波架；系统底板具有第一导轨、第二导轨和第三导轨；X光机平台包括第一移动平台和X光机；第一移动平台滑设在第一导轨上；X光机设置于第一移动平台上；放射源平台包括第二移动平台和放射源固定夹具；第二移动平台滑设在第二导轨上；放射源固定夹具设置于第二移动平台上；探测器平台包括第三移动平台和探测器；第三移动平台滑设在第三导轨上；探测器设置于第三移动平台上，接收X射线束和放射源射线；转动滤波架包括连接部和支撑杆。

detecting system

The embodiment of the utility model relates to a detection system, including: shielding box and platform device; the shielding box comprises a box body and a shielding door, the box body and the shielding door is composed of shielding layer; platform device arranged in the shielding box, including the system board, X machine platform, platform, platform and radiation source detector rotation filter frame system; the first floor has second rails, and third rails; X machine platform includes a first mobile platform and X machine; the first mobile platform in the first slide rail is arranged on the first machine; X mobile platform; source platform includes second mobile platform and radiation source fixed fixture; second sliding rails on the mobile platform in second; radiation the source of the fixture is arranged on the second mobile platform; the detector platform includes third mobile platforms and detectors; third mobile platform in the third slide rail The detector is arranged on the third mobile platform to receive the X ray beam and the radiation source ray.

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种辐射监测
，尤其涉及一种检测系统。
技术介绍
环境核辐射监测是指对核设施周围环境中已存在的辐射水平、环境介质中放射性核素的含量，以及为评价公众剂量所需的环境参数、社会状况进行的监测。目前我国常见环境剂量仪表的检测下限一般在20nSv/h，环境本底下限则在10nSv/h左右。在环境核辐射监测中，环境剂量监测仪表校准优劣决定工作人员的安全。环境监测用仪表检定规程(JJG521-2006)中规定，环境级监测仪表能量响应区间为50keV～1.5MeV，测量环境γ辐射的剂量率仪，其量程下限至1×10-8Gy/h，上限至1×10-2Gy/h。因此开展环境监测仪表的校准和形势评价需要一个极低的本底水平。检测系统用于环境监测仪表的检定、校准与检测，常用于工业无损检测等领域。但现有的检测系统调整过程复杂，很难通过简单操作就实现放射源、过滤片及仪表的三点一线，尤其是在放射源放置于较长导轨上行程可变情况下，更是不易实现，因而会影响到检测效果和准确度；同时，现有检测系统不便于进行放射源及仪表的位置调整，在使用过程中更换放射源，或发生震动、碰撞等原因造成位置改变后，需要很复杂的操作才能进行位置复位。
技术实现思路
本技术的目的是针对现有技术的缺陷，提供一种检测系统，可以实现一个较低本底的实验环境，屏蔽宇宙射线的软成分和环境中40K、238U和232Th衰变链中各元素的放射性，且能够根据需要对放射源和仪表的位置进行精确调整，操作简单，可控性高。为实现上述目的，本技术提供了一种检测系统，所述检测系统包括：屏蔽箱和平台装置；所述屏蔽箱包括箱体和屏蔽门，所述屏蔽门安装在所述箱体上；所述箱体和屏蔽门均由屏蔽层构成，所述屏蔽层包括第一屏蔽层、第二屏蔽层、第三屏蔽层和第四屏蔽层；其中，所述第一屏蔽层为铅层；所述第二屏蔽层为镉层，设置于所述第一屏蔽层的内侧；所述第三屏蔽层为不锈钢层，设置于所述第二屏蔽层的内侧；所述第四屏蔽层为聚乙烯层，设置于所述第三屏蔽层的内侧；所述平台装置容置于所述屏蔽箱内，包括系统底板、X光机平台、放射源平台、探测器平台和转动滤波架；其中，所述系统底板具有第一导轨、第二导轨和第三导轨；所述第二导轨与所述第一导轨长度相等，且所述第二导轨平行于所述第一导轨设置；所述第三导轨垂直于所述第一导轨和第二导轨设置在所述第一导轨和第二导轨的一端；所述第三导轨的长度大于所述第一导轨和第二导轨之间的距离；所述X光机平台包括：第一移动平台，所述第一移动平台滑设在所述第一导轨上；第一移动平台的移动量程为0～80cm；X光机，设置于所述第一移动平台上，水平出射X射线束；所述放射源平台包括：第二移动平台，所述第二移动平台滑设在所述第二导轨上；第二移动平台的移动量程为0～80cm；放射源固定夹具，设置于所述第二移动平台上，放射源固定在所述放射源固定夹具上；所述探测器平台包括：第三移动平台，所述第三移动平台滑设在所述第三导轨上；第三移动平台的移动量程为0～70cm；探测器，设置于所述第三移动平台上，接收所述X射线束和放射源射线；所述转动滤波架包括：连接部，设置于所述系统底板上并位于所述第一导轨和第二导轨之间；所述连接部的一端与所述系统底板铰接；所述连接部在平行所述系统底板所在平面转动；支撑杆，所述支撑杆的一端与所述连接部的另一端相接，并垂直于所述系统底板设置；所述支撑杆的另一端具有过滤片固定器；所述连接部旋转带动所述支撑杆旋转至第一位置，使所述X射线束的中心、过滤片固定器中心和探测器中心在同一直线上；所述连接部旋转带动所述支撑杆旋转至第二位置，使所述放射源射线的中心、过滤片固定器中心和探测器中心在同一直线上。优选的，所述第一屏蔽层的厚度为30mm；所述第二屏蔽层的厚度为0.8mm；所述第三屏蔽层的厚度为0.7mm；所述第四屏蔽层的厚度为3mm。优选的，所述箱体具有屏蔽门安装面，所述屏蔽门安装面的上端和底端分别设有滑轨，所述屏蔽门的上端和底端分别设有滑槽，所述滑槽上设有滑轮，所述滑轮在所述滑轨上移动，从而带动所述屏蔽门在所述箱体上滑移。优选的，所述第一移动平台、第二移动平台、第三移动平台均包括：第一底座，滑设在相应导轨上，由第一电机驱动，沿相应导轨方向运动；滑轨，安装在所述第一底座上，与相应导轨方向垂直；第二底座，平行所述第一底座滑设在所述滑轨上，由第二电机驱动，沿所述滑轨运动；所述第二底座上设置有多个第一固定柱；升降装置，设置于所述第二底座上；所述升降装置包括升降驱动电机、升降驱动杆和升降平台；所述升降平台具有第一螺纹孔和多个第二通孔；所述升降驱动杆通过所述第一螺纹孔穿设于所述升降平台；所述多个第一固定柱穿设于所述多个第二通孔内；所述升降驱动电机驱动所述升降驱动杆转动，带动所述升降平台在垂直于所述第二底座所在平面的方向运动；所述升降平台上设置有多个第二固定柱；第三底座，架设在所述第一固定柱上；所述第三底座上具有多个第三通孔；所述多个第二固定柱经由所述多个第三通孔穿设于所述第三底座上；运动台，架设在所述第二固定柱上，与所述升降平台同步运动。进一步优选的，所述平台装置还包括俯仰台，设置于所述运动台上；所述俯仰台包括第一台面、第二台面和俯仰调节螺栓；所述第二台面与所述运动台相接，固定于所述运动台上；所述第一台面通过所述俯仰调节螺栓架设于所述第二台面的上方；其中，所述第一台面设有多个第四通孔，所述第四通孔为螺纹结构；所述第二台面设有与所述第四通孔数量相同的螺栓插槽；所述第四通孔与所述螺栓插槽的位置一一对应；所述俯仰调节螺栓的中部与所述第四通孔螺纹连接，所述俯仰调节螺栓的一端设置于所述螺栓插槽内；所述第一台面根据所述俯仰调节螺栓转动产生相应倾斜。进一步优选的，所述平台装置还包括旋转台，设置于所述运动台和俯仰台之间；所述旋转台包括旋转驱动电机、固定部和旋转盘；所述旋转盘设置于所述固定部上；所述旋转驱动电机驱动所述旋转盘在所述固定部上旋转。进一步优选的，所述平台装置还包括激光校准器，所述激光校准器包括夹设部和激光发射器，所述激光发射器固定在所述夹设部的一端，所述夹设部的另一端具有夹爪，所述夹爪夹持所述第一台面的边缘，使所述激光发射器的激光出射方向平行所述第一台面所在平面。优选的，所述放射源包括241Am、137Cs、60Co中的一种。本技术实施例提供的检测系统，可以实现一个较低本底的实验环境，屏蔽宇宙射线的软成分和环境中40K、238U和232Th衰变链中各元素的放射性，且能够根据需要对放射源和仪表的位置进行精确调整，操作简单，可控性高。附图说明图1为本技术实施例提供的屏蔽箱的结构示意图；图2为本技术实施例提供的箱体的结构示意图；图3为本技术实施例提供的平台系统的结构示意图；图4为本技术实施例提供的系统底板的结构示意图；图5为本技术实施例提供的X光机平台的结构示意图；图6为本技术实施例提供的放射源平台的结构示意图；图7为本技术实施例提供的放射源固定夹具的结构示意图；图8为本技术实施例提供的探测器平台的结构示意图；图9为本技术实施例提供的第一底座的结构示意图；图10为本技术实施例提供的转动滤波架的结构示意图；图11为本技术实施例提供的俯仰台和激光校准器的结构示意图本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种检测系统，其特征在于，所述检测系统包括：屏蔽箱和平台装置；所述屏蔽箱包括箱体和屏蔽门，所述屏蔽门安装在所述箱体上；所述箱体和屏蔽门均由屏蔽层构成，所述屏蔽层包括第一屏蔽层、第二屏蔽层、第三屏蔽层和第四屏蔽层；其中，所述第一屏蔽层为铅层；所述第二屏蔽层为镉层，设置于所述第一屏蔽层的内侧；所述第三屏蔽层为不锈钢层，设置于所述第二屏蔽层的内侧；所述第四屏蔽层为聚乙烯层，设置于所述第三屏蔽层的内侧；所述平台装置容置于所述屏蔽箱内，包括系统底板、X光机平台、放射源平台、探测器平台和转动滤波架；其中，所述系统底板具有第一导轨、第二导轨和第三导轨；所述第二导轨与所述第一导轨长度相等，且所述第二导轨平行于所述第一导轨设置；所述第三导轨垂直于所述第一导轨和第二导轨设置在所述第一导轨和第二导轨的一端；所述第三导轨的长度大于所述第一导轨和第二导轨之间的距离；所述X光机平台包括：第一移动平台，所述第一移动平台滑设在所述第一导轨上；第一移动平台的移动量程为0～80cm；X光机，设置于所述第一移动平台上，水平出射X射线束；所述放射源平台包括：第二移动平台，所述第二移动平台滑设在所述第二导轨上；第二移动平台的移动量程为0～80cm；放射源固定夹具，设置于所述第二移动平台上，放射源固定在所述放射源固定夹具上；所述探测器平台包括：第三移动平台，所述第三移动平台滑设在所述第三导轨上；第三移动平台的移动量程为0～70cm；探测器，设置于所述第三移动平台上，接收所述X射线束和放射源射线；所述转动滤波架包括：连接部，设置于所述系统底板上并位于所述第一导轨和第二导轨之间；所述连接部的一端与所述系统底板铰接；所述连接部在平行所述系统底板所在平面转动；支撑杆，所述支撑杆的一端与所述连接部的另一端相接，并垂直于所述系统底板设置；所述支撑杆的另一端具有过滤片固定器；所述连接部旋转带动所述支撑杆旋转至第一位置，使所述X射线束的中心、过滤片固定器中心和探测器中心在同一直线上；所述连接部旋转带动所述支撑杆旋转至第二位置，使所述放射源射线的中心、过滤片固定器中心和探测器中心在同一直线上。...

【技术特征摘要】
1.一种检测系统，其特征在于，所述检测系统包括：屏蔽箱和平台装置；所述屏蔽箱包括箱体和屏蔽门，所述屏蔽门安装在所述箱体上；所述箱体和屏蔽门均由屏蔽层构成，所述屏蔽层包括第一屏蔽层、第二屏蔽层、第三屏蔽层和第四屏蔽层；其中，所述第一屏蔽层为铅层；所述第二屏蔽层为镉层，设置于所述第一屏蔽层的内侧；所述第三屏蔽层为不锈钢层，设置于所述第二屏蔽层的内侧；所述第四屏蔽层为聚乙烯层，设置于所述第三屏蔽层的内侧；所述平台装置容置于所述屏蔽箱内，包括系统底板、X光机平台、放射源平台、探测器平台和转动滤波架；其中，所述系统底板具有第一导轨、第二导轨和第三导轨；所述第二导轨与所述第一导轨长度相等，且所述第二导轨平行于所述第一导轨设置；所述第三导轨垂直于所述第一导轨和第二导轨设置在所述第一导轨和第二导轨的一端；所述第三导轨的长度大于所述第一导轨和第二导轨之间的距离；所述X光机平台包括：第一移动平台，所述第一移动平台滑设在所述第一导轨上；第一移动平台的移动量程为0～80cm；X光机，设置于所述第一移动平台上，水平出射X射线束；所述放射源平台包括：第二移动平台，所述第二移动平台滑设在所述第二导轨上；第二移动平台的移动量程为0～80cm；放射源固定夹具，设置于所述第二移动平台上，放射源固定在所述放射源固定夹具上；所述探测器平台包括：第三移动平台，所述第三移动平台滑设在所述第三导轨上；第三移动平台的移动量程为0～70cm；探测器，设置于所述第三移动平台上，接收所述X射线束和放射源射线；所述转动滤波架包括：连接部，设置于所述系统底板上并位于所述第一导轨和第二导轨之间；所述连接部的一端与所述系统底板铰接；所述连接部在平行所述系统底板所在平面转动；支撑杆，所述支撑杆的一端与所述连接部的另一端相接，并垂直于所述系统底板设置；所述支撑杆的另一端具有过滤片固定器；所述连接部旋转带动所述支撑杆旋转至第一位置，使所述X射线束的中心、过滤片固定器中心和探测器中心在同一直线上；所述连接部旋转带动所述支撑杆旋转至第二位置，使所述放射源射线的中心、过滤片固定器中心和探测器中心在同一直线上。2.根据权利要求1所述的检测系统，其特征在于，所述第一屏蔽层的厚度为30mm；所述第二屏蔽层的厚度为0.8mm；所述第三屏蔽层的厚度为0.7mm；所述第四屏蔽层的厚度为3mm。3.根据权利要求1所述的检测系统，其特征在于，所述箱体具有屏蔽门安装面，所述屏蔽门安装面的上端和底端分别设有滑轨，所述屏蔽门的上端和底端分别设...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴金杰，霍彬彬，廖振宇，
申请(专利权)人：中国计量科学研究院，
类型：新型
国别省市：北京;11