用于同步暗场及相位对比检验的系统及方法技术方案

本发明专利技术涉及一种用于同步暗场DF及差分干涉对比DIC检验的检验设备，其包含照明源及经配置以固定样本的样本载物台。所述检验设备包含第一传感器、第二传感器及光学子系统。所述光学子系统包含物镜、一或多个光学元件，所述光学元件经布置以通过所述物镜将来自所述一或多个照明源的照明引导到所述样本的表面。所述物镜经配置以收集来自所述样本的所述表面的信号，其中所述收集到的信号包含来自所述样本的基于散射的信号及/或基于相位的信号。所述检验设备包含一或多个分离光学元件，其经布置以通过沿着DF路径及DIC路径分别引导DF信号及DIC信号，将所述收集到的信号在空间上分离成所述DF信号与所述DIC信号。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】相关申请案的交叉参考本申请案根据35U.S.C.§119(e)主张2014年7月22日申请的标题为“用于同步暗场及相位对比检验的系统及方法(APPARATUSANDMETHODOLOGYFORSIMULTANEOUSDARKFIELDANDPHASECONTRASTINSPECTION)”，专利技术者名为黄传勇(ChuanyongHuang)、李晴(QingLi)、D·佩蒂伯恩(DonaldPettibone)及B·格拉韦斯(BuzzGraves)的序列号为62/027,393号的美国临时申请案的权益，所述美国临时申请案以全文引用的方式并入本文中。
本专利技术大体上涉及缺陷检测及分类，且更特定来说，本专利技术涉及同步暗场检验及差分干涉对比检验。
技术介绍
由于对半导体装置制造过程的容限持续变窄，所以对于经改进的半导体晶片检验工具的需求持续增加。适于晶片检验的检验工具的类型包含利用来自样本(例如，半导体晶片)的散射信息的暗场(DF)检验工具，及利用来自样本的相位信息的差分干涉对比检验工具。通常，在寻找DF及DIC两种信息时，给定的检验工具或显微镜归因于光学组件、光学布局与检测信号中的差本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于同步暗场及差分干涉对比检验的设备，其包括：一或多个照明源；样本载物台，其经配置以固定样本；第一传感器；第二传感器；及光学子系统，其包括：物镜；一或多个光学元件，其经布置以通过所述物镜将来自所述一或多个照明源的照明引导到所述样本的表面，其中所述物镜经配置以收集来自所述样本的所述表面的收集到的信号，其中所述收集到的信号包含来自所述样本的基于散射的信号与基于相位的信号中的至少一者；及一或多个分离光学元件，其经布置以通过沿着暗场路径将暗场信号引导到所述第一传感器，且沿着差分干涉对比路径将差分干涉对比信号引导到所述第二传感器，而将所述收集到的信号在空间上分离成所述暗场信号与所述差分干涉对比信号。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.07.22 US 62/027,393;2015.07.20 US 14/804,2961.一种用于同步暗场及差分干涉对比检验的设备，其包括：一或多个照明源；样本载物台，其经配置以固定样本；第一传感器；第二传感器；及光学子系统，其包括：物镜；一或多个光学元件，其经布置以通过所述物镜将来自所述一或多个照明源的照明引导到所述样本的表面，其中所述物镜经配置以收集来自所述样本的所述表面的收集到的信号，其中所述收集到的信号包含来自所述样本的基于散射的信号与基于相位的信号中的至少一者；及一或多个分离光学元件，其经布置以通过沿着暗场路径将暗场信号引导到所述第一传感器，且沿着差分干涉对比路径将差分干涉对比信号引导到所述第二传感器，而将所述收集到的信号在空间上分离成所述暗场信号与所述差分干涉对比信号。2.根据权利要求1所述的设备，进一步包括：控制器，其以通信方式耦合到所述第一传感器与所述第二传感器，其中所述控制器经配置以：从所述第一传感器接收与所述样本相关联的所述暗场信号的一或多个测量；且从所述第二传感器接收与所述样本相关联的所述差分干涉对比信号的一或多个测量。3.根据权利要求2所述的设备，其中所述控制器进一步经配置以执行数据融合过程，以同步地特征化所述样本的一或多个部分与所述接收到的暗场信号及所述接收到的差分干涉对比信号。4.根据权利要求2所述的设备，其中所述控制器进一步经配置以执行数据融合过程，以独立地特征化所述样本的一或多个部分与所述接收到的暗场信号或所述接收到的差分干涉对比信号中的至少一者。5.根据权利要求1所述的设备，其中所述光学子系统的所述一或多个分离光学元件包括：至少一镜像光瞳屏蔽件，其经配置以将所述暗场信号与所述差分对比信号分离。6.根据权利要求5所述的设备，其中所述光学子系统的所述一或多个分离光学元件包括：至少一镜像光瞳屏蔽件，其经配置以沿着暗场路径反射具有大于所选择的NA阈值的NA的照明，所述镜像光瞳屏蔽件进一步经配置以沿着差分干涉路径传输具有小于所述所选择的NA阈值的NA的照明。7.根据权利要求5所述的设备，其中所述光学子系统的所述一或多个分离光学元件包括：至少一镜像光瞳屏蔽件，其经配置以沿着暗场路径反射具有小于所选择的NA阈值的NA的照明，所述镜像光瞳屏蔽件进一步经配置以沿着差分干涉对比路径传输具有大于所述所选择的NA阈值的NA的照明。8.根据权利要求1所述的设备，其中所述光学子系统的所述一或多个分离光学元件包括：分束器，其经配置以将所述收集到的信号分离成沿着所述暗场路径引导到所述第一传感器的第一部分，与沿着所述差分干涉对比路径引导到所述第二传感器的第二部分。9.根据权利要求1所述的设备，其中所述一或多个照明源包括：一或多个激光器。10.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一传感器包括：一维传感器。11.根据权利要求1所述的设备，其中所述第二传感器包括：二维...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄传勇，李晴，D·佩蒂伯恩，B·格拉韦斯，
申请(专利权)人：科磊股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US