用作组胺-3受体的配体的萘衍生物制造技术

技术编号:1510367 阅读:176 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及结构式为(Ⅰ)的化合物及其药学上可接受的盐,其中A、R↑[1]和R↑[2]如说明书和权利要求书所定义,本发明专利技术还涉及这类化合物的制备过程以及含有这类化合物的药物组合物。这些化合物用于治疗和/或预防与H3受体的调节相关的疾病。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术系涉及新的萘衍生物、它们的制备、含有这些萘衍生物的药物组合物及它们作为药物的用途。本专利技术的活性化合物用于治疗肥胖症和其它某些疾病。尤其是,本专利技术涉及具有如下结构通式的化合物及其药学上可接受的盐, 其中R1是选自下组基团氢,低级烷基,未取代的苯基,或被独立地选自下组基团的一个或两个基团取代的苯基低级烷基、低级卤代烷氧基和低级羟烷基;低级苯基烷基,其中的苯环是未取代的,或是被独立地选自下组基团的一个或两个基团所取代低级烷基、卤素、低级烷氧基和低级羟烷基;以及低级烷氧基烷基;R2是选自下组基团氢,低级烷基,环烷基,低级环烷基烷基,低级羟烷基,低级烷氧基烷基,低级烷基硫烷基烷基,低级二烷基氨基烷基,未取代的苯基,或被独立地选自下组基团的一个或两个基团取代的苯基低级烷基、卤素、低级烷氧基和低级羟烷基,低级苯基烷基,其中的苯环是未取代的,或是被独立地选自下组基团的一个或两个基团所取代低级烷基、卤素、低级烷氧基和低级羟烷基;未取代的吡咯烷基,或被选自低级烷基或卤素的取代基取代的吡咯烷基;低级杂芳基烷基,其中的杂芳环是未取代的,或是被一个或两个低级烷基所取代;以及低级杂环烷基本文档来自技高网...

【技术保护点】
具有如下结构通式的化合物及其药学上可接受的盐,***Ⅰ其中R↑[1]是选自下组基团:氢,低级烷基,未取代的苯基,或被独立地选自下组基团的一个或两个基团取代的苯基:低级烷基、低级卤代烷氧基和低级羟烷基;低级苯基烷基,其中的苯环是未取代的,或是被独立地选自下组基团的一个或两个基团所取代;低级烷基、卤素、低级烷氧基和低级羟烷基;以及低级烷氧基烷基;R↑[2]是选自下组基团:氢,低级烷基,环烷基,低级环烷基烷基,低级羟烷基,低级烷氧基烷基,低级烷基硫烷基烷基,低级二烷基氨基烷基,未取代的苯基,或被独立地选自下组基团的一个或两个基团取代的苯基:低级烷基、卤素、低级烷氧基和低级羟烷基,低级苯基烷基,其中的...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:S加蒂麦克阿瑟C赫特尔MH内科文JM普兰凯尔S拉夫O罗什罗莎玛丽亚罗德里格斯萨尔米恩托F舒勒
申请(专利权)人:霍夫曼拉罗奇有限公司
类型:发明
国别省市:CH[瑞士]

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