氰基邻氨基苯甲酰胺杀虫剂制造技术

式Ⅰ化合物和其农业化学上可接受的盐和所有的立体异构体和互变异构体形式可用作农药活性成分并可按照本身已知的方法制备，其中的取代基如权利要求１中定义。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】专利说明氰基邻氨基苯甲酰胺杀虫剂 本专利技术涉及新的邻氨基苯甲酰胺衍生物，其制备方法，含有所述化合物的组合物，及其防治昆虫或蜱螨目的典型生物的用途。 具有杀虫性能的邻氨基苯甲酰胺衍生物是已知的，描述于例如WO04/067528中。现已发现了具有杀虫性能，特别是用于防治昆虫和蜱螨目的成员的新的氰基取代的邻氨基苯甲酰胺衍生物。 因此，本专利技术涉及式I化合物 其中 各E和Z，可以相同或不同，代表氧或硫； A是C1-C6亚烷基，C2-C6亚烯基，C2-C6亚炔基，或二价的三元至十元单环或稠合双环系，所述环可以是部分饱和或全饱和的并且可含有1-4个选自氮、氧和硫的杂原子，每个环系不能含有超过两个的氧原子和超过两个的硫原子； 三元至十元环系本身以及C1-C6亚烷基，C2-C6亚烯基和C2-C6亚炔基可能被卤素，氰基，硝基，羟基，C1-C6烷基，C2-C6烯基，C2-C6炔基，C3-C6环烷基，C5-C7环烯基，C5-C8环炔基，C1-C6卤代烷基，C2-C6卤代烯基，C2-C6卤代炔基，C3-C6卤代环烷基，C5-C7卤代环烯基，C5-C8卤代环炔基，C1-C4烷氧基，C1-C4卤代烷氧基，C1-C4烷硫基，C1-C4卤代烷硫基，C1-C4烷基亚磺酰基，C1-C4烷基磺酰基，C1-C4烷基氨基，C2-C4二烷基氨基，C3-C6环烷基氨基，C1-C6烷基-C3-C6环烷基氨基，C2-C4烷基羰基，C2-C6烷氧基羰基，C2-C6烷基氨基羰基，C3-C6二烷基氨基羰基，C2-C6烷氧基羰氧基，C2-C6烷基氨基羰氧基，C3-C6二烷基氨基羰氧基或C3-C6三烷基甲硅烷基单-、二-或三取代，或可被 三元至十元单环或稠合双环系单-、二-或三取代，所述单环或稠合双环系可以是芳族、部分饱和或全饱和的并且可含有1-4个选自氮、氧和硫的杂原子，每个环系不能含有超过2个的氧原子和超过2个的硫原子，该三元至十元单环或稠合双环系本身可被卤素，氰基，硝基，羟基，C1-C6烷基，C2-C6烯基，C2-C6炔基，C3-C6环烷基，C5-C7环烯基，C5-C8环炔基，C1-C6卤代烷基，C2-C6卤代烯基，C2-C6卤代炔基，C3-C6卤代环烷基，C5-C7卤代环烯基，C5-C8卤代环炔基，C1-C4烷氧基，C1-C4卤代烷氧基，C1-C4烷硫基，C1-C4卤代烷硫基，C1-C4烷基亚磺酰基，C1-C4烷基磺酰基，C1-C4烷基氨基，C2-C4二烷基氨基，C3-C6环烷基氨基，C1-C6烷基-C3-C6环烷基氨基，C2-C4烷基羰基，C2-C6烷氧基羰基，C2-C6烷基氨基羰基，C3-C6二烷基氨基羰基，C2-C6烷氧基羰氧基，C2-C6烷基氨基羰氧基，C3-C6二烷基氨基羰氧基，C3-C6三烷基甲硅烷基或苯基单-、二或三取代，所述苯基可能又被羟基，C1-C6烷基，C1-C6卤代烷基，C1-C6-烷硫基，C1-C6卤代烷硫基，C3-C6烯硫基，C3-C6卤代烯硫基，C3-C6炔硫基，C1-C3烷氧基-C1-C3烷硫基，C2-C4烷基羰基-C1-C3烷硫基，C2-C4烷氧基羰基-C1-C3烷硫基，氰基-C1-C3烷硫基，C1-C6烷基亚磺酰基，C1-C6卤代烷基亚磺酰基，C1-C6烷基磺酰基，C1-C6卤代烷基磺酰基，氨基磺酰基，C1-C2烷基氨基磺酰基，N，N-二(C1-C2烷基)氨基磺酰基，二(C1-C4烷基)氨基，卤素，氰基或硝基取代；环系中的氮原子上的取代基不是卤素； X是氧，NH或C1-C4烷基-N； Y是三元至十元单环或稠合双环系，所述单环或稠合双环可以是部分饱和或全饱和的并且可含有1-4个选自氮、氧和硫的杂原子，每个环系不能含有超过2个的氧原子和超过2个的硫原子； 所述三元至十元环系本身可被卤素，氰基，硝基，羟基，C1-C6烷基，C2-C6烯基，C2-C6炔基，C3-C6环烷基，C5-C7环烯基，C5-C8环炔基，C1-C6卤代烷基，C2-C6卤代烯基，C2-C6卤代炔基，C3-C6卤代环烷基，C5-C7卤代环烯基，C5-C8卤代环炔基，C1-C4烷氧基，C1-C4卤代烷氧基，C1-C4烷硫基，C1-C4卤代烷硫基，C1-C4烷基亚磺酰基，C1-C4烷基磺酰基，C1-C4烷基氨基，C2-C4二烷基氨基，C3-C6环烷基氨基，C1-C6烷基-C3-C6环烷基氨基，C2-C4烷基羰基，C2-C6烷氧基羰基，C2-C6烷基氨基羰基，C3-C6二烷基氨基羰基，C2-C6烷氧基羰氧基，C2-C6烷基氨基羰氧基，C3-C6二烷基氨基羰氧基或C3-C6三烷基甲硅烷基单-、二-或三取代，或被三元至十元单环或稠合双环系单-、二-或三取代，所述三元或十元单环或稠合双环系可以是芳族的、部分饱和或全饱和的并且可含有1-4个选自氮、氧和硫的杂原子，每个环系不能含有超过2个的氧原子和超过2个的硫原子，所述三元至十元环系本身可被卤素，氰基，硝基，羟基，C1-C6烷基，C2-C6烯基，C2-C6炔基，C3-C6环烷基，C5-C7环烯基，C5-C8环炔基，C1-C6卤代烷基，C2-C6卤代烯基，C2-C6卤代炔基，C3-C6卤代环烷基，C5-C7卤代环烯基，C5-C8卤代环炔基，C1-C4烷氧基，C1-C4卤代烷氧基，C1-C4烷硫基，C1-C4卤代烷硫基，C1-C4烷基亚磺酰基，C1-C4烷基磺酰基，C1-C4烷基氨基，C2-C4二烷基氨基，C3-C6环烷基氨基，C1-C6烷基-C3-C6环烷基氨基，C2-C4烷基羰基，C2-C6烷氧基羰基，C2-C6烷基氨基羰基，C3-C6二烷基氨基羰基，C2-C6烷氧基羰氧基，C2-C6烷基氨基羰氧基，C3-C6二烷基氨基羰氧基，C3-C6三烷基甲硅烷基或苯基单-、二-或三取代，所述苯基可能又被羟基，C1-C6烷基，C1-C6卤代烷基，C1-C6烷硫基，C1-C6卤代烷硫基，C3-C6烯硫基，C3-C6卤代烯硫基，C3-C6炔硫基，C1-C3烷氧基-C1-C3烷硫基，C2-C4烷基羰基-C1-C3烷硫基，C2-C4烷氧基羰基-C1-C3烷硫基，氰基-C1-C3烷硫基，C1-C6烷基亚磺酰基，C1-C6卤代烷基亚磺酰基，C1-C6烷基磺酰基，C1-C6卤代烷基磺酰基，氨基磺酰基，C1-C2烷基氨基磺酰基，N，N-二(C1-C2烷基)氨基磺酰基，二(C1-C4烷基)氨基，卤素，氰基或硝基取代；环系中的氮原子上的取代基不是卤素； p是0或1； q是0或1； B是三元至四元环系，所述环系是全部或部分饱和的并且可含有选自氮、氧和硫的杂原子，并且该三元至四元环系本身可被卤素，氰基，硝基，羟基，C1-C6烷基，C2-C6烯基，C2-C6炔基，C3-C6环烷基，C5-C7环烯基，C5-C8环炔基，C1-C6卤代烷基，C2-C6卤代烯基，C2-C6卤代炔基，C3-C6卤代环烷基，C5-C7卤代环烯基，C5-C8卤代环炔基，C1-C4烷氧基，C1-C4卤代烷氧基，C1-C4烷硫基，C1-C4卤代烷硫基，C1-C4烷基亚磺酰基，C1-C4烷基磺酰基，C1-C4烷基氨基，C2-C4二烷基氨基，C1-C6环烷基氨基，C1-C6烷基-C3-C6环烷基氨基，C2-C4烷基羰基，C2本文档来自技高网...

【技术保护点】
式Ⅰ化合物　　　　＊＊＊　　（Ⅰ），　　　　其中　　　　各Ｅ和Ｚ，可以相同或不同，代表氧或硫；　　　　Ａ是Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］亚烷基，Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］亚烯基，Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］亚炔基，或二价的三元至十元单环或稠合双环系，所述环系可以是部分饱和或全饱和的，并可含有１－４个选自氮、氧和硫的杂原子，每个环系不能含有超过２个的氧原子和２个的硫原子；　　　　该三元至十元环系本身以及Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］亚烷基，Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］亚烯基和Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］亚炔基可被卤素，氰基，硝基，羟基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基，Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］烯基，Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］炔基，Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］环烷基，Ｃ↓［５］－Ｃ↓［７］环烯基，Ｃ↓［５］－Ｃ↓［８］环炔基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］卤代烷基，Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］卤代烯基，Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］卤代炔基，Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］卤代环烷基，Ｃ↓［５］－Ｃ↓［７］卤代环烯基，Ｃ↓［５］－Ｃ↓［８］卤代环炔基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷氧基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］卤代烷氧基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷硫基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］卤代烷硫基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基亚磺酰基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基磺酰基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基氨基，Ｃ↓［２］－Ｃ↓［４］二烷基氨基，Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］环烷基氨基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基－Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］环烷基氨基，Ｃ↓［２］－Ｃ↓［４］烷基羰基，Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］烷氧基羰基，Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］烷基氨基羰基，Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］二烷基氨基羰基，Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］烷氧基羰氧基，Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］烷基氨基羰氧基，Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］二烷基氨基羰氧基或Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］三烷基甲硅烷基单－、二－或三取代，或被　　　　三元至十元单环或稠合双环系单－、二－或三取代，所述环系可以是芳族、部分饱和或全饱和的并可含有１－４个选自氮、氧和硫的杂原子，每个环系不能含有超过２个的氧原子和超过２个的硫原子，该三元至十元环系本身可被卤素，氰基，硝基，羟基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷基，Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］烯基，Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］炔基，Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］环烷基，Ｃ↓［５］－Ｃ↓［７］环烯基，Ｃ↓［５］－Ｃ↓［８］环炔基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］卤烷基，Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］卤代烯基，Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］卤代炔基...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：A简格纳特，A奥苏里万，M姆哈尔巴什，S特拉，RG霍尔，
申请(专利权)人：先正达参股股份有限公司，
类型：发明
国别省市：CH[瑞士]