【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】,3-d]嘧啶-2,4-二胺化合物的制作方法,3-d]嘧啶-2,4-二胺化合物本专利技术涉及式式(I)的吡啶并嘧啶二胺衍生物:(I)H2N'其中X是下式的基团X-l:或者X是下式的基团X-2:或者X是下式的基团X-3:R'和W各自独立地选自氢,低级烷基,甲氧基低级烷基和羟基低级烷基, 除了 W和R2不能同时为氢之外; W是氢,低级烷基或者苯基;R4是氢,低级烷基,低级烷基磺酰基,苯基,羧基,或者与115—起形成5-7元碳环;R5,在不与W在环中时,是氢,低级垸基,取代的低级烷基,低级烷氧基,取代的低级烷氧基,羟基,羧基,卤素,低级烷硫基,低级烷基亚磺 酰基,低级烷基磺酰基,氨基磺酰基,氰基,硝基,低级垸酰基,芳基, 芳酰基,芳氧基,芳硫基,低级烷基氨基,低级烷酰基氨基,磺酰基氨基, 环烷基,环垸氧基,杂环基,杂环基氧基,杂环基羰基,杂芳基,或者与116—起形成5或者6元芳族环;R6,在不与RS在环中时,是氢,低级烷基,取代的低级烷基,低级烷氧 基,取代的低级烷氧基,羟基,卤素,低级垸硫基,低级烷基亚磺酰基, 低级烷基磺酰基,氨基磺酰基,氰基,硝基,低级垸酰基,芳基, ...
【技术保护点】
式(Ⅰ)的化合物: *** (Ⅰ) 其中X是下式的基团X-1: *** (X-1), 或者X是下式的基团X-2: *** (X-2), 或者X是下式的基团X-3: *** (X-3); R↑[1]和R↑[2]独立地选自氢,低级烷基,甲氧基低级烷基和羟基低级烷基,除了R↑[1]和R↑[2]不能同时为氢之外; R↑[3]是氢,低级烷基或者苯基; R↑[4]是氢,低级烷基,低级烷基磺酰基,苯基,羧基,或者与R↑[5]一起形成5-7元碳环; R↑[5],在不与R↑[4]稠合在环中时,是氢,低级烷基,取代的低级 ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:斯蒂芬约瑟夫贝特尔,阿德里安慧庆张,金庆镇,李士明,克希蒂吉查比尔波海萨卡,员维亚,
申请(专利权)人:霍夫曼拉罗奇有限公司,
类型:发明
国别省市:CH[瑞士]
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