作为抗菌剂的喹啉衍生物制造技术

技术编号:1504443 阅读:188 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
式(Ⅰa)或(Ⅰb)化合物、其药学上可接受的酸加成盐或碱加成盐、其季铵、其立体化学异构形式、其互变异构形式或其N-氧化物形式在制备用于治疗细菌感染的药物中的用途,前提是该细菌感染不是分枝杆菌感染,其中R↑[1]为氢、卤代基、卤代烷基、氰基、羟基、Ar、Het、烷基、烷氧基、烷硫基、烷氧基烷基、烷硫基烷基、Ar-烷基或二(Ar)烷基;p为1、2、3或4;R↑[2]为氢、羟基、硫基、烷氧基、烷氧基烷氧基、烷硫基、单-或二(烷基)氨基或式(Ⅱ)的基团;R↑[3]为烷基、Ar、Ar-烷基、Het或Het-烷基;R↑[4]为氢、烷基或苄基;R↑[5]为氢、卤代基、卤代烷基、羟基、Ar、烷基、烷氧基、烷硫基、烷氧基烷基、烷硫基烷基、Ar-烷基或二(Ar)烷基;或两个相邻的R↑[5]基团可以和它们连结的苯环一起形成萘基;r为1、2、3、4或5;R↑[6]为氢、烷基、Ar或Het;R↑[7]为氢或烷基;R↑[8]为氧代基;或R↑[7]与R↑[8]一起形成基团-CH=CH-N=;Z为CH↓[2]或C(=O)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
式(Ⅰa)和(Ⅰb)的化合物、其药学上可接受的酸加成盐或碱加成盐、其季铵、其立体化学异构形式、其互变异构形式或其N-氧化物形式在制备用于治疗细菌感染的药物中的用途:***其中R↑[1]为氢、卤代基、卤代烷基、氰基、羟基、Ar、Het、烷基、烷氧基、烷硫基、烷氧基烷基、烷硫基烷基、Ar-烷基或二(Ar)烷基;p为等于1、2、3或4的整数;R↑[2]为氢;羟基;巯基;烷氧基、烷氧基烷氧基;烷硫基;单-或二(烷基)氨基或式***的基团,其中Y为CH↓[2]、O、S、N-H或N-烷基;R↑[3]为烷基、Ar、Ar-烷基、Het或Het-烷基;R↑[4]为氢、烷基或苄基;R↑[5]氢、卤代基、卤代烷基、...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:KJLM安德里斯A考尔JEG吉尔蒙特ETJ帕斯奎尔
申请(专利权)人:詹森药业有限公司
类型:发明
国别省市:BE[比利时]

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