【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
下列通式(Ⅰ)所表示的三芳基羧酸衍生物或其盐,***(Ⅰ)式中的符号的意义如下:A:芳基或杂芳基;此处,所述芳基或杂芳基可以被选自下述G组所示基团中的1到3个相同或不同的基团所取代;G组:卤素、- CN、-NO↓[2]、低级烷基、卤代低级烷基、-O-R↑[1]、-O-卤代低级烷基、-O-CO-R↑[1]、-O-苄基、-O-苯基、-NR↑[2]R↑[3]、-NH-CO-R↑[1]、-CO↓[2]-R↑[1]、-CO-R↑[1]、-CO-NR↑[2]R↑[3]、-CO-苯基、-S-R↑[1]、-SO↓[2]-低级烷基、-SO↓[2]-苯基、-NH-SO↓[2]-萘-NR↑[2]R↑[3]、苯基、环烷基、及-低级亚烷基-O-R↑[1];R↑[1]:H或低级烷基; R↑[2]及R↑[3]:可以相同或不同,各自表示H或低级烷基,其中,R↑[2]及R↑[3]连同与其结合的氮原子一起可以形成单环的含氮饱和杂环;以及,B:单环杂芳基,该单环杂芳基可以被选自低级烷基、-OH及卤素的基团所取代。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:佐藤淳司,服部和之,洼田浩一,宗像亮介,浅野亨,前田顺子,川上政胜,神川晃雄,
申请(专利权)人:安斯泰来制药株式会社,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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