N,N-二代羧酸酰胺类的制造方法技术

技术编号:1499875 阅读:193 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供了一种制造式(I)所示的N,N-二代羧酸酰胺类的新方法.它包括在式(Ⅳ)所示的硅烷化合物的存在下,使式(Ⅱ)所示的席夫碱与式(Ⅲ)所示的羧酸衍生物接触,接触过程中有或没有惰性的有机溶剂存在.制造可用于例如医药品、农用化学品、以及它们的起始原料或中间体的制造上的式(I)所示的N,N-二代羧酸酰胺类.(*该技术在2006年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
一种制造式(Ⅰ)所示的N,N-二代羧酸酰胺类的新方法,所述方法包括在式(Ⅳ)所示的硅烷化合物的存在下使式(Ⅱ)所示的席夫碱与式(Ⅲ)所示的羧酸衍生物接触,接触过程中有或没有惰性的有机溶剂存在。 式(Ⅰ)中的R,R1,R2和R3是按权利要求1的规定。 式(Ⅱ)中的R,R1和R2是按上述的规定。 式(Ⅲ)中的R3是按上述的规定,M表示卤(素)原子或 部分。 式(Ⅳ)中的X,Y和Z表示氢原子或卤(素)原子,它们彼此独立。本专利技术涉及一种制造式(Ⅰ)所示的N,N-二代羧酸酰胺的新方法,式(Ⅰ)中的R1,R2和R3是按如下的规定。 制造可用于例如医药品、农用化学品、以及它们的起始原料或中间体的制造上的式(Ⅰ)所示的N,N-二代羧酸酰胺的方法已为众所周知〔参阅日本特许公开NO,4181/1985,于1985年1月10日公布;美国专利号2863752,4372972,4282028,4460603,4521243,4494978,4155744,4456471,3586496和3367847;R.B.瓦格纳(Wagner),H.D.佐克(Zook)“合成有机化学”P.565(1953)约翰·威利&桑斯公司(Tohn wiley&sons,Inc.);A.范可夫(Venkov),M.尼科洛瓦(Nikolova),N.莫洛夫(Mollov)“化学工业”(伦敦),P.808(1982)〕。上述文献中最通常的工业制法是包括了还原式(Ⅱ)所示的席夫 碱式(Ⅱ)中的R,R1和R2是按如下的规定),以及酰化或芳酰化所生成的还原产物,以形成式(Ⅰ)所示的化合物。例如,上面所引证的日本特许公开4181/1985公布了一种制造N,N-二代羧酸酰胺的方法,该法按下列流程图经过还原起始席夫碱阶段和氯乙酰化所生成的还原产物阶段。 在上面的流程图中,A表示氢原子,卤(素)原子,烷基,烷氧基或者硫代烷基;R1、R2和R3表示氢原子,卤(素)原子,烷基,烷氧基或者硫代烷基,它们彼此独立。现有的制造N,N-二代羧酸酰胺的方法(包括上面例举的方法)有若干缺点,如它们的制造步骤复杂。用作起始原料或者中间体的化合物难于获得或者不稳定。另外,目的化合物的得率低。这些缺点使现有的制造方法很难用简单的制造步骤,低成本高得率地获得目的化合物。本专利技术者在改进主要包括上面两个步骤的N,N-二代羧酸酰胺的传统工业制法上已作了多方面研究,从而找到了通过在硅烷化合物存在下使席夫碱和羧酸衍生物接触,便可用一步法以高的得率很容易制取所要求的N,N-二代羧酸酰胺。本专利技术者的研究指出这种新的反应方式可应用到很宽范围的席夫碱和很宽范围的酸酸衍生物进行反应。根据本专利技术提供了一种制造式(Ⅰ)所示的N,N-二代羧酸酰胺的新方法,式(Ⅰ)中的R表示氢原子、烷基、链烯基、烷氧基、 链烯氧基、取代羰基或者三卤代甲基;R1、R2和R3彼此独立,它们表示取代或未取代烷基,取代或未取代链烯基,取代或未取代炔基,取代或未取代芳基,取代或未取代杂芳基,取代或未取代环烷基,取代或未取代环链烯基,或者取代或未取代杂环烷基;R1还可表示氢原子;R和R1以及与它们键合的羰原子一起可形成取代或未取代的环状基。本专利技术所述的一种制造式(Ⅰ)所示的N,N-二代羧酸酰胺的新方法包括在式(Ⅳ)所示的硅烷化合物的存在下使式(Ⅱ)所示的席夫碱与式(Ⅲ)所示的羧酸衍生物接触,接触过程中有或没有惰性的有机溶剂存在。 式(Ⅱ)中的R,R1和R2是按上述的规定。 式(Ⅲ)中的R3是按上述的规定,M表示卤(素)原子或 部分。 式(Ⅸ)中的X,Y和Z表示氢原子或卤(素)原子,它们彼此独立。本专利技术所述的新制法可用下列反应式表示 用所述的新制法通过一步形成式(Ⅰ)所示目的化合物的反应机理没有完全清楚,本专利技术者假设了一种可能的机理,即席夫碱(Ⅱ)和羧酸衍生物(Ⅲ)在硅烷化合物(Ⅳ)的存在下进行反应,形成亚铵(immonium)盐型化合物( )或亚铵(immoinum)盐型化合物和M的加成化合物( )把这作为中间体进一步与硅烷化合物(Ⅳ)反应,形成目的酰胺化合物。另一种可能的机理是席夫碱(Ⅱ)首先和硅烷化合物(Ⅳ)反应,以形成N-甲硅烷化合物( ),然后进行酰化或芳酰化反应,形成目的酰胺化合物。应当明白上面的反应机理仅仅是一种假设,丝毫没有对本专利技术的新制法进行限制,本专利技术的制造方法包括“通过在化合物(Ⅳ)存在下使式(Ⅱ)所示的化合物和式(Ⅲ)所示的化合物接触”导致了这三个组分的反应,从而一步形成式(Ⅰ)所示的目的化合物的一切具体方案。已发现根据本专利技术用新的反应方式,可从式(Ⅱ)所示化合物经一步反应就很容易地制得成本低、得率高、具有工业化价值的式(Ⅱ)所示化合物。本专利技术的目的是提供一种制造式(Ⅰ)所示的N,N-二代羧酸酰胺的方法。本专利技术的上述目的和其它目的,以及本专利技术的优点通过下列说明将显而易见。根据本专利技术的制造方法,在式(Ⅳ)所示的硅烷化合物的存在下使式(Ⅱ)所示的席夫碱与式(Ⅲ)所示的羧酸衍生物接触,接触过程中有或没有情性的有机溶剂存在,用此方法可制取式(Ⅰ)所示的N,N-二代羧酸酰胺。式(Ⅰ)和式(Ⅱ)中的R表示氢原子,烷基,链烯基,烷氧基,链烯氧基,取代的羧基或者三卤代甲基。烷基可以是例如有1-10个碳原子的烷基,最好是1-6个碳原子,烷基的具体的例子是甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基和辛基。链烯基可以是例如有2-6个碳原子的链烯基,最好是2-4个碳原子,链烯基的具体例子是乙烯基、烯丙基、丙烯基、丁烯基、戊烯基和己烯基。烷氧基可以是例如有1-6个碳原子的烷氧基,最好是1-4碳原子,烷氧基的具体例子是甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊氧基、己氧基和辛氧基。链烯氧基可以是例如有2-6个碳原子的链烯氧基,最好是2-4个碳原子,链烯氧基的具体例子是乙烯氧基、烯丙氧基、丙烯氧基、丁烯氧基、戊烯氧基和己烯氧基。取代羰基的例子是有1-8个碳原子的烷基的烷基(取代)羰基,最好是1-4个碳原子。烷氧羰基是具有1-8个碳原子的烷氧基的烷氧羰基,最好是1-4个碳原子。芳基(取代)羰基是有有6-10个碳原子的取代或未取代芳基的芳基(取代)羰基。在上述芳基(取代)羰基中,取代芳基的取代基例子包括有1-6个碳原子的烷基,有2-6个碳原子的链烯基,有2-6个碳原子的炔基,有1-6个碳原子的烷氧基,有1-6个碳原子的硫代烷基,在烷氧基部分有1-4个碳原子的烷氧羰基,在烷基部分有1-4个碳原子的烷羰基,卤(素)原子,氰基,硝基,在每个烷基中有1-4个碳原子的二烷基氨基,三卤代甲基,以及在烷基部分有1-4个碳原子的烷基羰基氧基。有6-10个碳原子的芳基的例子是苯基,萘基,四氢萘基和2,3-二氢化茚基。取代羰基的具体例子包括甲基羰基,乙基羰基,丙基羰基,丁基羰基,甲氧基羰基,乙氧基羰基,丙氧基羰基,丁氧基羰基,苯基羰基,萘基羰基,氯苯基羰基,溴苯基羰基,氟苯基羰基,二氯苯基羰基,氯氟苯基羰基,甲氧苯基羰基,乙氧苯基羰基,甲基硫代苯基羰基,氰基苯基羰基,硝基苯基羰基,(甲基羰基氧基)苯基羰基,(三氟甲基)苯基羰基,(二乙氨基)苯基羰基,(乙氧基羰基)苯基羰基,氯萘基羰基,以及乙氧基萘基羰基。R为三卤代甲基的例子是其中的卤素选取本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制造式(I)所示的N,N-二代羧酸酰胺类的方法,所述方法包括在式(Ⅳ)所示的硅烷化合物的存在下使式(Ⅱ)所示的席夫碱与式(Ⅲ)所示的羧酸衍生物接触,接触过程中有或没有惰性的有机溶剂存在。***...(I)在式(I)中,R表示氢原 子、烷基、链烯基、烷氧基、链烯氧基、取代的羰基或者三卤代甲基;R↑〔1〕,R↑〔2〕和R↑〔3〕(彼此独立)表示取代或未取代烷基、取代或未取代链烯基、取代或未取代炔基、取代或未取代芳基、取代或未取代杂芳基、取代或未取代环烷基、取代或未取代环链烯基、或者取代或未取代杂环烷基;R↑〔1〕还可表示氢原子;R和R↑〔1〕以及与它们键合碳原子一起可形成取代或未取代环状基。***...(Ⅱ)在式(Ⅱ)中的R,R↑〔1〕和R↑〔2〕是按上述的规定。***...(Ⅲ)在式(Ⅱ )中的R↓〔3〕是按上述的规定,M表示卤原子或***部分。***...(Ⅳ)在式(Ⅳ)中的X,Y和Z(彼此独立),表示氢原子或卤原子。

【技术特征摘要】
JP 1985-1-16 NO.4107/851的规定。 式(Ⅱ)中的R,R1和R2是按上述的规定。 式(Ⅲ)中的R3是按上述的规定,M表示卤(素)原子或 部分。 式(Ⅳ)中的X,Y和Z表示氢原子或卤(素)原子,它们彼此独立。本发明涉及一种制造式(Ⅰ)所示的N,N-二代羧酸酰胺的新方法,式(Ⅰ)中的R1,R2和R3是按如下的规定。 制造可用于例如医药品、农用化学品、以及它们的起始原料或中间体的制造上的式(Ⅰ)所示的N,N-二代羧酸酰胺的方法已为众所周知〔参阅日本特许公开NO,4181/1985,于1985年1月10日公布;美国专利号2863752,4372972,4282028,4460603,4521243,4494978,4155744,4456471,3586496和3367847;R.B.瓦格纳(Wagner),H.D.佐克(Zook)“合成有机化学”P.565(1953)约翰·威利&桑斯公司(Tohn wiley&sons,Inc.);A.范可夫(Venkov),M.尼科洛瓦(Nikolova),N.莫洛夫(Mollov)“化学工业”(伦敦),P.808(1982)〕。上述文献中最通常的工业制法是包括了还原式(Ⅱ)所示的席夫 碱式(Ⅱ)中的R,R1和R2是按如下的规定),以及酰化或芳酰化所生成的还原产物,以形成式(Ⅰ)所示的化合物。例如,上面所引证的日本特许公开4181/1985公布了一种制造N,N-二代羧酸酰胺的方法,该法按下列流程图经过还原起始席夫碱阶段和氯乙酰化所生成的还原产物阶段。 在上面的流程图中,A表示氢原子,卤(素)原子,烷基,烷氧基或者硫代烷基;R1、R2和R3表示氢原子,卤(素)原子,烷基,烷氧基或者硫代烷基,它们彼此独立。现有的制造N,N-二代羧酸酰胺的方法(包括上面例举的方法)有若干缺点,如它们的制造步骤复杂。用作起始原料或者中间体的化合物难于获得或者不稳定。另外,目的化合物的得率低。这些缺点使现有的制造方法很难用简单的制造步骤,低成本高得率地获得目的化合物。本发明者在改进主要包括上面两个步骤的N,N-二代羧酸酰胺的传统工业制法上已作了多方面研究,从而找到了通过在硅烷化合物存在下使席夫碱和羧酸衍生物接触,便可用一步法以高的得率很容易制取所要求的N,N-二代羧酸酰胺。本发明者的研究指出这种新的反应方式可应用到很宽范围的席夫碱和很宽范围的酸酸衍生物进行反应。根据本发明提供了一种制造式(Ⅰ)所示的N,N-二代羧酸酰胺的新方法,式(Ⅰ)中的R表示氢原子、烷基、链烯基、烷氧基、 链烯氧基、取代羰基或者三卤代甲基;R1、R2和R3彼此独立,它们表示取代或未取代烷基,取代或未取代链烯基,取代或未取代炔基,取代或未取代芳基,取代或未取代杂芳基,取代或未取代环烷基,取代或未取代环链烯基,或者取代或未取代杂环烷基;R1还可表示氢原子;R和R1以及与它们键合的羰原子一起可形成取代或未取代的环状基。本发明所述的一种制造式(Ⅰ)所示的N,N-二代羧酸酰胺的新方法包括在式(Ⅳ)所示的硅烷化合物的存在下使式(Ⅱ)所示的席夫碱与式(Ⅲ)所示的羧酸衍生物接触,接触过程中有或没有惰性的有机溶剂存在。 式(Ⅱ)中的R,R1和R2是按上述的规定。 式(Ⅲ)中的R3是按上述的规定,M表示卤(素)原子或 部分。 式(Ⅸ)中的X,Y和Z表示氢原子或卤(素)原子,它们彼此独立。本发明所述的新制法可用下列反应式表示 用所述的新制法通过一步形成式(Ⅰ)所示目的化合物的反应机理没有完全清楚,本发明者假设了一种可能的机理,即席夫碱(Ⅱ)和羧酸衍生物(Ⅲ)在硅烷化合物(Ⅳ)的存在下进行反应,形成亚铵(immonium)盐型化合物( )或亚铵(immoinum)盐型化合物和M的加成化合物( )把这作为中间体进一步与硅烷化合物(Ⅳ)反应,形成目的酰胺化合物。另一种可能的机理是席夫碱(Ⅱ)首先和硅烷化合物(Ⅳ)反应,以形成N-甲硅烷化合物( ),然后进行酰化或芳酰化反应,形成目的酰胺化合物。应当明白上面的反应机理仅仅是一种假设,丝毫没有对本发明的新制法进行限制,本发明的制造方法包括“通过在化合物(Ⅳ)存在下使式(Ⅱ)所示的化合物和式(Ⅲ)所示的化合物接触”导致了这三个组分的反应,从而一步形成式(Ⅰ)所示的目的化合物的一切具体方案。已发现根据本发明用新的反应方式,可从式(Ⅱ)所示化合物经一步反应就很容易地制得成本低、得率高、具有工业化价值的式(Ⅱ)所示化合物。本发明的目的是提供一种制造式(Ⅰ)所示的N,N-二代羧酸酰胺的方法。本发明的上述目的和其它目的,以及本发明的优点通过下列说明将显而易见。根据本发明的制造方法,在式(Ⅳ)所示的硅烷化合物的存在下使式(Ⅱ)所示的席夫碱与式(Ⅲ)所示的羧酸衍生物接触,接触过程中有或没有情性的有机溶剂存在,用此方法可制取式(Ⅰ)所示的N,N-二代羧酸酰胺。式(Ⅰ)和式(Ⅱ)中的R表示氢原子,烷基,链烯基,烷氧基,链烯氧基,取代的羧基或者三卤代甲基。烷基可以是例如有1-10个碳原子的烷基,最好是1-6个碳原子,烷基的具体的例子是甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基和辛基。链烯基可以是例如有2-6个碳原子的链烯基,最好是2-4个碳原子,链烯基的具体例子是乙烯基、烯丙基、丙烯基、丁烯基、戊烯基和己烯基。烷氧基可以是例如有1-6个碳原子的烷氧基,最好是1-4碳原子,烷氧基的具体例子是甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊氧基、己氧基和辛氧基。链烯氧基可以是例如有2-6个碳原子的链烯氧基,最好是2-4个碳原子,链烯氧基的具体例子是乙烯氧基、烯丙氧基、丙烯氧基、丁烯氧基、戊烯氧基和己烯氧基。取代羰基的例子是有1-8个碳原子的烷基的烷基(取代)羰基,最好是1-4个碳原子。烷氧羰基是具有1-8个碳原子的烷氧基的烷氧羰基,最好是1-4个碳原子。芳基(取代)羰基是有有6-10个碳原子的取代或未取代芳基的芳基(取代)羰基。在上述芳基(取代)羰基中,取代芳基的取代基例子包括有1-6个碳原子的烷基,有2-6个碳原子的链烯基,有2-6个碳原子的炔基,有1-6个碳原子的烷氧基,有1-6个碳原子的硫代烷基,在烷氧基部分有1-4个碳原子的烷氧羰基,在烷基部分有1-4个碳原子的烷羰基,卤(素)原子,氰基,硝基,在每个烷基中有1-4个碳原子的二烷基氨基,三卤代甲基,以及在烷基部分有1-4个碳原子的烷基羰基氧基。有6-10个碳原子的芳基的例子是苯基,萘基,四氢萘基和2,3-二氢化茚基。取代羰基的具体例子包括甲基羰基,乙基羰基,丙基羰基,丁基羰基,甲氧基羰基,乙氧基羰基,丙氧基羰基,丁氧基羰基,苯基羰基,萘基羰基,氯苯基羰基,溴苯基羰基,氟苯基羰基,二氯苯基羰基,氯氟苯基羰基,甲氧苯基羰基,乙氧苯基羰基,甲基硫代苯基羰基,氰基苯基羰基,硝基苯基羰基,(甲基羰基氧基)苯基羰基,(三氟甲基)苯基羰基,(二乙氨基)苯基羰基,(乙氧基羰基)苯基羰基,氯萘基羰基,以及乙氧基萘基羰基。R为三卤代甲基的例子是其中的卤素选取氯、溴、碘、氟的三卤代甲基,所述三卤代甲基的具体例子是三氯甲基,三溴甲基和三氟甲基。式(Ⅰ),(Ⅱ)和(Ⅲ)中的R1,R2和R3彼此独立,它们表示取代或未取代的烷基,取代或未取代的链烯基,取代或未取代的炔基,取代或未取代的芳基,取代或未取代的杂芳基,取代或未取代的环烷基,取代或未取代的环链烯基,或者取代或未取代的杂环烷基;R1还可表示氢原子;R和R1以及与它们键合的碳原子一起可形成取代或未取代的环状基。R1,R2和R3优先选用有1-15个碳原子的取代或未取代的烷基(最好是1-10个碳原子)、有2-15个碳原子的取代或未取代的链烯基(最好是2-10个碳原子)、有2-15个碳原子的取代或未取代的炔基(最好是2-10个碳原子)、有6-20个碳原子的取代或未取代的芳基(最好是6-15个碳原子)、有2-20个碳原子和1-4个杂原子(杂原子选自氮、氧和硫原子)的取代或未取代杂芳基(最好是2-14个碳原子)、有3-20个碳原子的取代或未取代的环烷基(最好是3-15个碳原子)、有3-20个碳原子的取代或未取代的环链烯基(最好是3-15个碳原子)、有2-20个碳原子和1-4个杂原子(杂原子选自氧和硫原子)的取代或未取代的杂环烷基(最好是2-15个碳原子)。由R和R1以及与它们键合的碳原子一起所形成的取代或未取代的环状基的例子是有4-15个碳原子的环烷基(最好是5-10个碳原子),以及有4-15个碳原子和1-4个氮、氧或硫原子的杂环烷基(最好是5-10个碳原子),所述的环状基的具体例子是环戊基、环己基、环庚基、吡咯烷基、氮杂环己基、四氢呋喃基和四氢吡喃基。在所述的R1、R2和R3基团中可以有的取代基的例子是有1-6个碳原子的烷基、有2-6个碳原子的链烯基、有2-6个碳原子的炔基、有1-6个碳原子的烷氧基、有1-6个碳原子的硫代烷基、有1-4个碳原子的烷氧羰基、有1-4个碳原子的烷基羰基、卤(素)原子、氰基、硝基、在每个烷基部分有1-4个碳原子的二烷基氨基、三卤代甲基、以及在烷基部分有1-4个碳原子的烷基羰基氧基。在工业上广泛应用的有机基团R1、R2和R3的进一步具体的例子如下所指。未取代的烷基是直链或支链的烷基,例如甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一基和十二基。取代烷基是直链或支链的卤代烷基,例如氟代甲基、三氟甲基、氯代甲基、三氯甲基、氯代乙基、溴代乙基、氟代丙基、氯代丙基、氯代丁基、溴代戊基、氯代己基、氟代辛基、三氟乙基和七氟丁基;直链或支链的烷氧基烷基,例如甲氧基甲基、甲氧基乙基、甲氧基丙基、甲氧基丁基、甲氧基戊基、甲氧基己基、乙氧基甲基、乙氧基乙基、乙氧基丙基、乙氧基丁基、丙氧基甲基、丙氧基乙基、丙氧基丙基、丙氧基丁基、丁氧基甲基、丁氧基乙基、丁氧基丙基、丁氧基丁基和戊氧基乙基;苯氧烷基,例如苯氧甲基、苯氧乙基、氯代苯氧丙基和三氯苯氧丙基、氰烷基,例如氰乙基、氰丙基和氰丁基;硝基烷基,例如硝基乙基、硝基丙基、硝基己基和硝基癸基;烷基硫代烷基,例如甲基硫代甲基、甲基硫代乙基、甲基硫代丙基、乙基硫代甲基、乙基硫代乙基、乙基硫代丁基和丙基硫代乙基;芳基烷基,例如苯基甲基、苯基乙基、苯基丙基、甲基苯基甲基和氯苯基甲基;杂芳基烷基,例如噻吩基甲基、噻吩基乙基、甲氧基噻吩基甲基、呋喃基甲基、呋喃基乙基、氯代呋喃基甲基、吡咯基甲基、吡唑基甲基和吡唑基乙基;环烷基烷基,例如环丙基甲基和环己基乙基;以及烷氧基羰基烷基,例如甲氧基羰基甲基、甲氧基羰基乙基、乙氧基羰基甲基、乙氧基羰基乙基和乙氧基羰基丙基。未取代的链烯基是乙烯基、丙烯基、丁烯基、戊烯基、己烯基和辛烯基的各种位置异构体。取代的链烯基是卤代链链基,例如氯代乙烯基、氟代乙烯基、溴代丙烯基、氯代丁烯基、氯代戊烯基和氟代己烯基;烷氧基链烯基,例如甲氧基乙烯基、甲氧基丙烯基、乙氧基丁烯基、乙氧基己烯基和丙氧基丁烯基;以及具它取代的链烯基包括氰基乙烯基、氰基丙烯基、硝基丙烯基、二甲基氨基乙烯基、呋喃基乙烯基和甲基硫代丙烯基。未取代的炔基是乙炔基、丙炔基、丁炔基、戊炔基和己炔基。取代的炔基是氯代丙炔基、溴代丁炔基、甲氧基丁炔基、氰代丙炔基和甲基硫代丁炔基。未取代的芳基是苯基、萘基、蒽基和菲基。取代的芳基是烷基苯基,例如甲基苯基、二甲基苯基、乙基苯基、二乙基苯基、丙基苯基、二丙基苯基、丁基苯基、戊基苯基、己基苯基、甲基乙基苯基、甲基丙基苯基、乙基丙基苯基、甲基丁基苯基、二(溴乙基)苯基和(三氟甲基)苯基;卤苯基,例如氟苯基、二氟苯基、氯苯基、二氯苯基、溴苯基、碘苯基、三氯苯基和氯氟苯基;烷氧基苯基,例如甲氧基苯基、二甲氧基苯基、三甲氧基苯基、乙氧基苯基、二乙氧基苯基、丙氧基苯基和丁氧基苯基;取代的苯基,例如氰基苯基、硝基苯基、氯代(甲基)苯基、氯代(乙氧基)苯基、甲基(甲氧基)苯基、甲基硫代苯基、三氟代甲基苯基、双(氯代乙基氨基)苯基、硝基(甲基)苯基、二苯基、氯代(二甲基)苯基、(二甲基氨基)苯基、乙炔基苯基、氯代(甲氧基)苯基、甲基(丙氧基)苯基、(氯代乙酰基)苯基、甲基(丁氧基)苯基、甲基羰基氧基苯基和乙酰基苯基;取代的萘基,例如甲基萘基、二甲基萘基、乙基萘基、氯代萘基、二氯代萘基、甲氧基萘基、甲基硫代萘基、硝基萘基和氰基萘基。未取代的杂芳基是呋喃基、噻吩基、吡咯基、吡啶基、嘧啶基、苯并呋喃基、苯并噻唑基、吲哚基、喹啉基、噻唑基、吡唑基、苯并噻唑基、噻二唑基和噁唑基。取代的杂芳基是取代的呋喃基,例如甲基呋喃基、二甲基呋喃基、乙基呋喃基、丙基呋喃基、氯代呋喃基、溴代呋喃基、甲氧基呋喃基、乙氧基呋喃基、丙氧基呋喃基、甲基硫代呋喃基、乙基硫代呋喃基和硝基呋喃基;取代的噻吩基,例如甲基噻吩基、乙基噻吩基、丙基噻吩基、丁基噻吩基、氟代噻吩基、氯代噻吩基、溴代噻吩基、碘代噻吩基、甲氧基噻吩基、乙氧基噻吩基、丙氧基噻吩基、甲基硫代噻吩基、乙基硫代噻吩基、硝基噻吩基、二氯代噻吩基和二甲基噻吩基;取代的吡咯基,例如N-甲基吡咯基、N-乙基吡咯基、甲基-N-甲基吡咯基、氯代-N-乙基吡咯基、甲氧基-N-甲基吡咯基、甲氧基吡咯基、乙氧基吡咯基和氯代吡咯基;取代的吡啶基,例如甲基吡啶基、乙基吡啶基、氯代吡啶基和甲氧基吡啶基,取代的苯并呋喃基,例如甲基苯并呋喃基、氯代苯并呋喃基,乙氧基苯并呋喃基、硝基苯并呋喃基、溴代(甲氧基)苯并呋喃基和氯代甲基苯并呋喃基;取代的苯并噻吩基,例如乙基苯并噻吩基、氟代苯并噻吩基、甲氧基苯并噻吩基、硝基苯并噻吩基和氯代苯并噻吩基;取代的喹啉基,例如甲基喹啉基、乙基喹啉基、氯代喹啉基和甲氧基喹啉基;以及其它的取代杂芳基,例如甲基噻唑基、甲基吲哚基、甲基嘧啶基、甲基异噻唑基、乙基咔唑基、二甲基吡咯基、甲基异恶唑基、苯基异恶唑基、甲氧基二氢嘧啶基、甲基噻唑基、甲基恶二唑基、N-甲基-(甲基硫代)三唑基、甲基硫代噻二唑基、甲基噻唑基和甲基噻嗪基。未取代的环烷基是环丙基、环丁基、环戊基和环己基。取代的环烷基是甲基环丙基、乙基环丙基、丙基环丙基、氯代环丙基、甲氧基环丙基、乙氧基环丙基、甲基环丁基、溴代环丁基、甲基硫代环丁基、氯代环戊基、甲基环己基、乙基环己基、氯代环己基、甲氧基环己基、丙氧基环己基、二甲基环己基、二氯代环丙基、氯代环己基,四氢萘基和二氢-2,3-二氢化茚基。未取代的环链烯基是环丁烯基、环戊烯基和环己烯基。取代的环链烯基是甲基环丁烯基、氯代环戊烯基、甲氧基环戊烯基、甲基环己烯基、乙基环己烯基、氯代环已烯基、甲氧基环己烯基、乙氧基环己烯基、三甲基环己烯基、二甲基环己烯基、四甲基环己烯基和丙烯基环己烯基。未取代的杂环烷基是四氢呋喃基、四氢噻吩基、吡咯烷基、四氢吡喃基、四氢硫代吡喃基和氮杂环己基。取代的杂环烷基是N-甲基吡咯烷基、N-乙基吡咯烷基、N-甲基氮杂环己基、二氢吡喃基、二甲基氮杂环己基、二氧戊环基和N-乙基氮杂环己基。有上述基团的化合物,在许多情况下有各种位置异构体,这些位置异构体不需要作任何特别限定同样可用在本发明制造方法的实施中,例如,甲基芳基包括邻-甲基苯基、间-甲基苯基和对-甲基苯基,丁基包括正丁基、仲丁基和特丁基。取代基不限于上述例举的具体例子,可根据需...

【专利技术属性】
技术研发人员:加藤祥三冈本秀则
申请(专利权)人:德山曹达株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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