激光气体分析器制造技术

本发明专利技术公开了一种激光气体分析器，该激光气体分析器包括：光发射器，其对照射到待测量气体上的激光进行发射；光接收器，其对穿透待测量气体的激光进行接收；多个光轴调整机械装置，其中之一设置在光发射器中，并且其中的另一个设置在光接收器中；主显示器，其设置在光发射器和光接收器之一中，并且在其上显示通过接收穿透待测量气体的激光而获取的测量结果；以及子显示器，其设置在光发射器和光接收器中的另一个中，并且在其上对主显示器上所显示的测量结果的一部分进行显示。

【技术实现步骤摘要】
相关申请的交叉引用本申请要求于2014年12月1日提交的日本专利申请No.2014-243132以及于2015年7月13日提交的日本专利申请No.2015-139847的优先权，所述申请的内容以引用方式并入本文中。
本专利技术的实施例涉及激光气体分析器。
技术介绍
激光气体分析器是这样一种装置，其将激光照射到待测量的气体上，并且基于穿透待测量的气体的激光的吸收光谱对包含在待测量的气体中的成分及其浓度等进行测量。该激光气体分析器被配置为通常包括对用于照射到待测量的气体上的激光进行发射的光发射器以及对穿透待测量的气体的激光进行接收的光接收器。这种激光气体分析器通常安装为使得光发射器和光接收器彼此面对，同时具有布置于它们之间的烟管。通过烟管对待测量的气体进行引导。光轴调整机械装置设置在激光气体分析器的光发射器和光接收器中，它是用于光轴调整的机械装置，并且在周期性或非周期性维护时以及在安装激光气体分析器时执行光发射器与光接收器之间的光轴调整。这是因为，当光发本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种激光气体分析器，包括：光发射器，其对照射到待测量气体上的激光进行发射；光接收器，其对穿透待测量气体的激光进行接收；多个光轴调整机械装置，其中之一设置在所述光发射器中，并且其中的另一个设置在所述光接收器中；主显示器，其设置在所述光发射器和所述光接收器之一中，并且在其上显示通过接收穿透待测量气体的激光而获取的测量结果；以及子显示器，其设置在所述光发射器和所述光接收器中的另一个中，并且在其上对所述主显示器上所显示的测量结果的一部分进行显示。

【技术特征摘要】
2014.12.01 JP 2014-243132;2015.07.13 JP 2015-139841.一种激光气体分析器，包括：
光发射器，其对照射到待测量气体上的激光进行发射；
光接收器，其对穿透待测量气体的激光进行接收；
多个光轴调整机械装置，其中之一设置在所述光发射器中，并
且其中的另一个设置在所述光接收器中；
主显示器，其设置在所述光发射器和所述光接收器之一中，并
且在其上显示通过接收穿透待测量气体的激光而获取的测量结果；以
及
子显示器，其设置在所述光发射器和所述光接收器中的另一个
中，并且在其上对所述主显示器上所显示的测量结果的一部分进行显
示。
2.根据权利要求1所述的激光气体分析器，其中，所述主显示
器至少在其上显示用于表示待测量气体的浓度和激光的透射比的信
息，并且
所述子显示器显示用于表示激光的透射比的信息作为所述测量
结果的一部分。
3.根据权利要求1所述的激光气体分析器，还包括：
计算装置，其设置在所述光发射器和光接收器之一中，并且利
用通过接收穿透待测量气体的激光而获取的光接收信号来计算所述
测量结果。
4.根据权利要求3所述的激光气体分析器，其中
所述主显示器和所述计算装置设置在所述光接收器中，并且
所述子显示器设置在所述光发射器中。
5.根据权利要求1所述的激光气体分析器，还包括存储有激光

\t透射比阈值的存储器，其中所述主显示器和所述子显示器在激光的透
射比不超过所述阈值时以及激光的透射比超过所述阈值时以不同模
式来显示所述测量结果和所述测量结果的一部分。
6.根据权利要求5所述的激光气体分析器，还包括输出端子，
其在外部输出不同的信号，所述信号在激光的透射比不超过所述阈值
时和激光的透射比超过所述阈...

【专利技术属性】
技术研发人员：田村一人，间健太郎，加藤诚，
申请(专利权)人：横河电机株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP