暗室洗片后处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提出一种暗室洗片后处理装置，包括外壳、洗片架支撑装置和搅拌装置；所述外壳上端面具有开口，所述洗片架支撑装置包括有至少两根支撑杆，各支撑杆相互平行固定在所述开口上，每根所述支撑杆上均设置有固定凹槽，洗片架的架杆两端分别固定在相邻两根支撑杆的相对的固定凹槽上，洗片架的置片部伸入到所述外壳内部，所述搅拌装置内置在所述外壳内部并用以在洗片时搅拌清洗液体。本发明专利技术单独用于洗片后的胶片冲洗工艺，冲洗更干净，缩短洗片后处理时间，提高整体洗片工作效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及暗室洗片后处理技术，特别涉及的是一种适用于压力管道、压力容器、储气罐、液化石油气管道等X射线探伤后的洗片后处理工作，可与洗片设备搭配使用的暗室洗片后处理装置。
技术介绍
在压力管道、压力容器、储气罐、液化石油气管道等需要密封的部件上，若存在裂缝会引起泄露、爆炸等危险事故，因而需要定期的检查，通常是采用X射线探伤检测，探伤后的胶片需要进行经过预先水洗、显影、停显、定影和水洗等一系列工艺的处理，现有的洗片机一般集成了以上的工艺处理，但是洗片后处理的效率较低，一般需要20-30分钟左右才会把底片的表面颗粒清洗干净，影响整体的洗片工作效率，而且洗片机体积较大也不太便于移动，所以传统的洗片机对冲洗胶片的工作有很大的局限性。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种暗室洗片后处理装置，单独用于洗片后的胶片冲洗工艺，冲洗更干净，缩短洗片后处理时间，提高整体洗片工作效率。为解决上述问题，本专利技术提出一种暗室洗片后处理装置，包括外壳、洗片架支撑装置和搅拌装置；所述外壳上端面具有开口，所述洗片架支撑装置包括有至少两根支撑杆，各支撑杆相互平行固定在所述开口上，每根所述支撑杆上均设置有固定凹槽，洗片架的架杆两端分别固定在相邻两根支撑杆的相对的固定凹槽上，洗片架的置片部伸入到所述外壳内部，所述搅拌装置内置在所述外壳内部并用以在洗片时搅拌清洗液体。根据本专利技术的一个实施例，每根所述支撑杆均设置有两排固定凹槽，每排所述固定凹槽设置在支撑杆的上端面的杆边沿上，各支撑杆之间对于固定凹槽的排布位置相同。根据本专利技术的一个实施例，在所述外壳上的下方位置处设有用以排出清洗废液的排液孔。根据本专利技术的一个实施例，在所述外壳的上端面上位于开口旁边的位置处还设有用以盛放清洁液的盛放部件。根据本专利技术的一个实施例，所述盛放部件上开设有出液孔，所述出液孔的孔道延伸至所述外壳内部。根据本专利技术的一个实施例，在所述外壳内部靠近上方位置处设置有用以测量清洗液体的温度的温度计。根据本专利技术的一个实施例，在所述外壳内部靠近上方位置处设置有U型卡，所述温度计固定在所述U型卡中。根据本专利技术的一个实施例，在所述外壳上对应能够观察到所述温度计的位置处设有透明观察窗。根据本专利技术的一个实施例，还包括U型拉杆，所述U型拉杆的U型开口两端分别连接在所述外壳的相对的两个外侧面上，所述U型拉杆相对于所述外壳的放置面朝上倾斜。根据本专利技术的一个实施例，所述U型拉杆和所述外壳通过滑动锁紧装置连接，所述滑动锁紧装置包括设置在所述外壳上的上滑块、设置在所述U型拉杆上的下滑块和锁紧件，所述上滑块和下滑块配合滑动连接，所述锁紧件将连接的上滑块和下滑块锁紧。根据本专利技术的一个实施例，在所述外壳底部设置有行走轮。根据本专利技术的一个实施例，在所述外壳外部还设置有计时器和启闭所述计时器的开关装置。根据本专利技术的一个实施例，在所述外壳的开口边沿对应固定支撑杆的位置处开设有半月凹槽，所述支撑杆的两个端部上设有配合所述半月凹槽连接的半月凸台。采用上述技术方案后，本专利技术相比现有技术具有以下有益效果：本专利技术的暗室洗片后处理装置单独用于胶片洗片后进行冲洗后处理，外壳内部用来盛装冲刷胶片的清洗液体，在外壳的开口上设置洗片架支撑装置，洗片架上固定有洗片后的胶片，洗片架可以通过固定凹槽简易地放置到支撑杆上，从而洗片架的置片部可以伸入到外壳内部，从而胶片可以由外壳内的清洗液体进行清洗，通过搅拌装置对清洗液体进行搅拌，本专利技术的暗室洗片后处理装置可以加速清洗过程，冲洗更干净，缩短洗片后处理时间，提高整体洗片工作效率。附图说明图1为本专利技术实施例的暗室洗片后处理装置的结构示意图；图2为本专利技术实施例的暗室洗片后处理装置的俯视结构示意图；图3为本专利技术实施例的洗片架支撑装置的结构示意图；图4为本专利技术实施例的暗室洗片后处理装置的内侧局部图；图5为本专利技术实施例的暗室洗片后处理装置的外侧局部图；图6为本专利技术实施例的下滑块的结构示意图；图7为本专利技术实施例的U型拉杆的结构示意图。图中标记说明：1-洗片架，2-透明观察窗，3-固定凹槽，4-洗片架支撑装置，5-U型拉杆，6-下滑块，7-上滑块，8-锁紧件，9-电源插头，10-排液孔，11-开关装置，12-计时器，13-搅拌装置，14-盛放部件，15-半月凸台，16-半月凹槽，17-温度计，18-U型卡，19-出液孔，20-外壳，21-行走轮。具体实施方式为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本专利技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术。但是本专利技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本专利技术内涵的情况下做类似推广，因此本专利技术不受下面公开的具体实施的限制。参看图1和图2，本实施例的暗室洗片后处理装置，包括外壳20、洗片架支撑装置4和搅拌装置13。在进行洗片后处理(也就是冲洗胶片)时，外壳20内盛装有清洗液体，清洗液体一般可以为清水等物质，清洗液体的高度最佳的是将胶片整体没入清洗液体中。外壳20上端面具有开口，洗片架支撑装置4设置在开口处，从而洗片架1朝向外壳20内部放置在洗片架支撑装置4上。洗片架支撑装置4包括有至少两根支撑杆，各支撑杆相互平行地固定在开口上，每根支撑杆上均设置有固定凹槽3，洗片架1的架杆两端分别固定在相邻两根支撑杆的相对的固定凹槽3上，洗片架1的置片部伸入到外壳20内部。参看图1-3，支撑杆之间的间距能够使得洗片架1的架杆两端正好分别置于两根支撑杆的固定凹槽3中，每根支撑杆均设置有两排固定凹槽3，每排固定凹槽3设置在支撑杆的上端面的杆边沿上，各支撑杆之间对于固定凹槽3的排布位置相同，如此可以在两根相邻支撑杆之间放置多个洗片架1，同时冲洗多个胶片，提高冲洗效率。较佳的，每排的固定凹槽3均匀间隔排布，每排的固定凹槽3之间具有一定的距离。参看图3-5，支撑杆和外壳20通过半月凹槽16和半月凸台15连接，半月凹槽16设置在外壳20的开口边沿对应固定支撑杆的位置处，半月凸台15设置在支撑杆的两个端部上，半月凹槽16和半月凸台15配合连接。可以方便支撑杆的安装和拆卸，同时也可以适用于不同长度的架杆的洗片架1的放置。参看图2，搅拌装置13内置在外壳20内部，搅拌装置13可以在洗片时搅拌清洗液体，加速本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种暗室洗片后处理装置，其特征在于，包括外壳、洗片架支撑装置和搅拌装置；所述外壳上端面具有开口，所述洗片架支撑装置包括有至少两根支撑杆，各支撑杆相互平行固定在所述开口上，每根所述支撑杆上均设置有固定凹槽，洗片架的架杆两端分别固定在相邻两根支撑杆的相对的固定凹槽上，洗片架的置片部伸入到所述外壳内部，所述搅拌装置内置在所述外壳内部并用以在洗片时搅拌清洗液体。

【技术特征摘要】
1.一种暗室洗片后处理装置，其特征在于，包括外壳、洗片架支撑装置和
搅拌装置；所述外壳上端面具有开口，所述洗片架支撑装置包括有至少两根支
撑杆，各支撑杆相互平行固定在所述开口上，每根所述支撑杆上均设置有固定
凹槽，洗片架的架杆两端分别固定在相邻两根支撑杆的相对的固定凹槽上，洗
片架的置片部伸入到所述外壳内部，所述搅拌装置内置在所述外壳内部并用以
在洗片时搅拌清洗液体。
2.如权利要求1所述的暗室洗片后处理装置，其特征在于，每根所述支撑
杆均设置有两排固定凹槽，每排所述固定凹槽设置在支撑杆的上端面的杆边沿
上，各支撑杆之间对于固定凹槽的排布位置相同。
3.如权利要求1所述的暗室洗片后处理装置，其特征在于，在所述外壳上
的下方位置处设有用以排出清洗废液的排液孔。
4.如权利要求1所述的暗室洗片后处理装置，其特征在于，在所述外壳的
上端面上位于开口旁边的位置处还设有用以盛放清洁液的盛放部件。
5.如权利要求4所述的暗室洗片后处理装置，其特征在于，所述盛放部件
上开设有出液孔，所述出液孔的孔道延伸至所述外壳内部。
6.如权利要求1所述的暗室洗片后处理装置，其特征在于，在所述外壳内
部靠近上方位置处设置有用以测量清洗液体的温度的温度计。
7.如权利要求6所述的暗室...

【专利技术属性】
技术研发人员：华容，夏子涛，林嵩，刘文祖，魏脐亮，韩业壮，
申请(专利权)人：上海应用技术学院，
类型：发明
国别省市：上海;31