检查装置及磁光晶体的配置方法制造方法及图纸

本发明专利技术的一个方面的检查装置包含：光源，其输出光；MO晶体，其与半导体器件(D)相对地配置；物镜，其将自光源输出的光汇聚于MO晶体；保持器，其保持MO晶体；可挠性构件，其介于MO晶体与保持器之间；及物镜驱动部，其通过使保持器沿物镜的光轴方向移动，而使MO晶体抵接于半导体器件(D)；当MO晶体抵接于半导体器件(D)时，可通过可挠性构件的挠曲，而使MO晶体中的光的入射面于该入射面相对于与物镜的光轴正交的面的倾斜角度为物镜的孔径角以下的范围内，相对于与光轴正交的面倾斜。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术的一个方面涉及一种利用光探测技术的检查装置及磁光晶体的配置方法。
技术介绍
作为检查集成电路等测量对象物的技术，存在光探测技术，该光探测技术是将自光源出射的光照射至测量对象物，并通过光传感器检测出来自测量对象物的测量光(反射光)而获得检测信号。在此种光探测技术中，已知有如下方法：将磁光(MO：Magneto-Optical)晶体(例如参照专利文献1及2)与测量对象物的光照射面相对地配置，而检测出与MO晶体的磁光效应相对应的反射光，由此获得检测信号。[现有技术文献][专利文献]专利文献1：日本特开2005-241489号公报[非专利文献]非专利文献1：《利用脉冲激光的磁场波形测定》J.Magn.SOC.Jpn.,35,273-276(2011)
技术实现思路
[专利技术要解决的技术问题]在上述利用MO晶体的方法中，如图13所示，MO晶体被固定在聚光用途中使用的透镜(例如物镜)的透镜面。继而，使该透镜靠近测量对象物的光照射面，而测量由测量对象物产生的磁场。然而，当测量对象物倾斜时，有时无法使测量对象物与MO晶体的距离充分靠近。在此情形时，有可能因检测灵敏度变差等而导致检测信号的检本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种检查装置，其包括：光源，其输出光；磁光晶体，其与测量对象物相对地配置；透镜部，其将所述光汇聚于所述磁光晶体；保持器部，其保持所述磁光晶体；可挠性构件，其介于所述磁光晶体与所述保持器部之间；及驱动部，其通过使所述保持器部沿所述透镜部的光轴方向移动，而使所述磁光晶体抵接于所述测量对象物；所述磁光晶体抵接于所述测量对象物时，通过所述可挠性构件的挠曲，而使所述磁光晶体中的所述光的入射面可在所述入射面相对于与所述光轴正交的面的倾斜角度为所述透镜部的孔径角以下的范围内倾斜。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.06.04 JP 2014-1155681.一种检查装置，其包括：光源，其输出光；磁光晶体，其与测量对象物相对地配置；透镜部，其将所述光汇聚于所述磁光晶体；保持器部，其保持所述磁光晶体；可挠性构件，其介于所述磁光晶体与所述保持器部之间；及驱动部，其通过使所述保持器部沿所述透镜部的光轴方向移动，而使所述磁光晶体抵接于所述测量对象物；所述磁光晶体抵接于所述测量对象物时，通过所述可挠性构件的挠曲，而使所述磁光晶体中的所述光的入射面可在所述入射面相对于与所述光轴正交的面的倾斜角度为所述透镜部的孔径角以下的范围内倾斜。2.如权利要求1所述的检查装置，其中，所述可挠性构件在所述光轴方向上介于所述保持器部与所述磁光晶体之间。3.如权利要求2所述的检查装置，其中，在所述保持器部形成有使来自所述光源的所述光透过的开口部，并且从所述光轴方向观察时，所述磁光晶体存在于所述开口部的区域内。4.如权利要求3所述的检查装置，其中，在所述可挠性构件上，在所述开口部与所述磁光晶体之间形成有使所述光透...

【专利技术属性】
技术研发人员：中村共则，
申请(专利权)人：浜松光子学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP