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电介质陶瓷组合物及电子部件制造技术

技术编号:1487090 阅读:188 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术为电介质陶瓷组合物和电子部件。本发明专利技术涉及一种电介质陶瓷组合物,其含有BaTiO↓[3]、BaZrO↓[3]、R氧化物(R为稀土类元素),相对于100mol的BaTiO↓[3],BaZrO↓[3]的含量为A mol,R氧化物的含量为C mol时,满足40≤A≤65mol、4≤C≤15mol,且同时满足式(1)和(2)。本发明专利技术可提供IR寿命长,可适用于额定电压高(例如100V以上)的中高压用途的电介质陶瓷组合物。式(1)...0.0038A-0.147≤B≤0.004A+0.04(B为BaZrO↓[3]的X射线衍射最大峰强度与BaTiO↓[3]的X射线衍射最大峰强度之比)、式(2)...0.0041C-0.0115≤D≤0.0046C+0.084(D为R氧化物的X射线衍射最大峰强度与BaTiO↓[3]的X射线衍射最大峰强度之比)。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及具有耐还原性的电介质陶瓷组合物、以及电介质层具有该电介质 陶瓷组合物的电子部件。更详细地说,本专利技术涉,用于额定电压高的(例如100V以上)中髙压用途的电介质陶瓷组合物以及电子部件。
技术介绍
作为电子部件的一个例子的叠层陶瓷电容器例如是将包含规定的电介质陶 瓷组合物的陶瓷生片(,y—^一卜)与规定图案的内部电极层交替层叠,然后一体化得到生芯片(歹i;一y于、"/),将该生芯片同时烧成而制造的。叠层陶 瓷电容器的内部电极层要通过烧成与陶瓷电介质一体化,所以必须选择不与陶 瓷电介质反应的材料。因此,作为构成内部电t鹏的材料,以往不得不l顿钼、 钯等高价贵金属。但Ji^来,开发了可^ffi镍、铜等廉价贱金属的电介质陶瓷组合物,实现 了大幅度的赫斷氏。一方面,随着电子电路的高密度化,对电子部件小型化的要求高,雖陶瓷 电容器正在急m小型和大容量化。与之相伴随地,叠层陶瓷电容器向着每层 电介质层的薄层化方向发展,需要即使薄层化也可维持电容器的可靠性的电介 质陶瓷组,。尤其是在高额定电压(例如ioov以上)下使用的中髙压用电容 器的小型和大容量化,对构成电介质层的电介质陶瓷组,本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电介质陶瓷组合物,其含有Ba↓[m]TiO↓[2+m](其中m满足0.99≤m≤1.01)、Ba↓[n]ZrO↓[2+n](其中n满足0.99≤n≤1.01)、R的氧化物(其中R为选自Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb和Lu中的至少一种), 其特征在于:相对于上述Ba↓[m]TiO↓[2+m]100mol,上述Ba↓[n]ZrO↓[2+n]的含量为A mol、上述R的氧化物的含量为C mol时,上述A以B a↓[n]ZrO↓[2+n]计,满足40≤A≤65mol,上述C以R↓[2]O↓[3]计,满足4≤C≤15mo...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:关秀明阿满三四郎宫内真理
申请(专利权)人:TDK株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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