用于打印OLED显示器件的凹槽结构及OLED显示器件的制作方法技术

本发明专利技术提供了一种用于打印OLED显示器件的凹槽结构及OLED显示器件的制作方法，通过将围拢成凹槽的堤坝划分为层叠设置的第一分支堤坝层、及第二分支堤坝层，所述第一分支堤坝层围拢成凹槽的倾斜内周面与空穴注入层墨水形成的接触角范围为10°～45°，所述第二分支堤坝层围拢成凹槽的倾斜内周面与空穴注入层墨水形成的接触角范围为30°～60°，所述第二分支堤坝层围拢成凹槽的倾斜内周面与空穴传输层墨水及发光功能层墨水形成的接触角范围为10°～45°，从而限制空穴注入层四周向上攀爬的高度，使形成的空穴注入层的上表面平整或中间略微凸起，能够防止空穴注入层边缘漏电，提升OLED显示器件的品质。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种用于打印OLED显示器件的凹槽结构及OLED显示器件的制作方法。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLightEmittingDisplay，OLED)显示器件具有自发光、驱动电压低、发光效率高、响应时间短、清晰度与对比度高、近180°视角、使用温度范围宽，可实现柔性显示与大面积全色显示等诸多优点，被业界公认为是最有发展潜力的显示装置。OLED显示器件的结构一般包括：基板、设于基板上的阳极、设于阳极上的阴极以及夹在阳极与阴极之间的有机功能层。其中有机功能层，一般包括空穴注入层(HoleInjectionLayer，HIL)、空穴传输层(HoleTransportLayer，HTL)、发光功能层(EmissiveLayer，EML)、电子注入层(ElectronInjectionLayer，EIL)、及电子传输层(ElectronTransportLayer，ETL)。OLED显示器件的发光原理为半导体材料和有机发光材料在电场驱动下，通过载流子注入和复合导致发光。OLED显示器件的制作方法通常为，先在基板上形成阳极，在该阳极上依次形成有机功能层及阴极，其中阴极与阳极的材料通常采用氧化铟锡(ITO)。有机功能层的制备方式通常包括真空热蒸镀(VacuumThermalEvaporation)与溶液成膜(SolutionProcess)两种。所谓溶液成膜即是把所需材料经过处理，比如分散成纳米级的微小颗粒，然后溶解在相应的溶液中形成墨水，再应用成膜设备将该墨水沉积在基板表面，带溶剂挥发后，即可在基板表面形成所需薄膜。成膜的具体方式又可以细分为喷墨打印(Ink-jetPrinting)、连续打印(NozzlePrinting)、滚筒打印(RollerPrinting)、旋转涂布(SpinCoating)等。在应用于打印成膜工艺的基板上，通常会制作凹槽，用来限制住墨水，通过干燥烘烤后，墨水收缩在该凹槽限制的范围内形成薄膜。请参阅图1，所述凹槽120由设于基板100、及ITO阳极130四周边缘上的堤坝110围成，通过在凹槽120内沉积墨水，形成空穴注入层140、空穴传输层150、及发光功能层160。请参阅图2，由于不同墨水的亲水性不同，对于亲水性较好的墨水，会在堤坝110的倾斜内周面上爬坡较高，通常最下层的空穴注入层的导电性是各有机功能层中最好的，当最下层的空穴注入层墨水爬坡较高时，会导致空穴注入层边缘薄膜较薄的地方产生漏电，导致OLED显示器件的品质下降。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种用于打印OLED显示器件的凹槽结构，能够防止OLED显示器件的空穴注入层边缘漏电，提升OLED显示器件的品质。本专利技术的目的还在于提供一种OLED显示器件的制作方法，能够防止OLED显示器件的空穴注入层边缘漏电，提升OLED显示器件的品质。为实现上述目的，本专利技术提供了一种用于打印OLED显示器件的凹槽结构，该凹槽结构位于基板上，包括堤坝、及由堤坝围拢成的凹槽；所述堤坝包括：第一分支堤坝层、及层叠于所述第一分支堤坝层上的第二分支堤坝层；所述第一分支堤坝层围拢成凹槽的倾斜内周面与OLED显示器件的空穴注入层墨水形成的接触角范围为10°～45°，所述第二分支堤坝层围拢成凹槽的倾斜内周面与OLED显示器件的空穴注入层墨水形成的接触角范围为30°～60°，所述第二分支堤坝层围拢成凹槽的倾斜内周面与OLED显示器件的空穴传输层墨水及发光功能层墨水形成的接触角范围为10°～45°。所述基板上设有阳极，所述围拢成凹槽的堤坝设于所述阳极的四周边缘及基板上。所述第一分支堤坝层的上表面与阳极之间的高度差范围为50nm～800nm，所述堤坝的厚度小于3微米。所述阳极的材料为ITO。所述堤坝围拢成凹槽的倾斜内周面与基板之间的夹角为30°～60°，所述凹槽的宽度自下往上逐渐增大。本专利技术还提供一种OLED显示器件的制作方法，包括如下步骤：步骤1、提供一基板、第一分支堤坝层材料及第二分支堤坝层材料；步骤2、在所述基板上制作阳极，使用所述第一分支堤坝层材料及第二分支堤坝层材料通过涂布、干燥、及蚀刻工艺在基板上依次制作层叠设置的第一分支堤坝层及第二分支堤坝层，形成设于所述阳极的四周边缘及基板上的堤坝，所述堤坝围拢成凹槽；步骤3、提供空穴注入层墨水，将空穴注入层墨水滴入凹槽内，所述空穴注入层墨水与所述第一分支堤坝层围拢成凹槽的倾斜内周面形成的接触角范围为10°～45°，所述空穴注入层墨水与所述第二分支堤坝层围拢成凹槽的倾斜内周面形成的接触角范围为30°～60°，干燥烘烤后形成空穴注入层；步骤4、提供空穴传输层墨水，将空穴传输层墨水滴入凹槽内，所述空穴传输层墨水与所述第二分支堤坝层围拢成凹槽的倾斜内周面形成的接触角范围为10°～45°，干燥烘烤后形成层叠于所述空穴注入层上的空穴传输层；步骤5、提供发光功能层墨水，将发光功能层墨水滴入凹槽内，所述发光功能层墨水与所述第二分支堤坝层围拢成凹槽的倾斜内周面形成的接触角范围为10°～45°，干燥烘烤后形成层叠于所述空穴传输层上的发光功能层；步骤6、在所述发光功能层上依次制作电子传输层、电子注入层、及阴极。所述阳极与阴极的材料均为ITO。所述步骤2中，第一分支堤坝层的上表面与阳极之间的高度差范围为50nm～800nm，所述堤坝的厚度小于3μm。所述电子传输层及电子注入层的制作方法为真空蒸镀。所述步骤2中堤坝围拢成凹槽的倾斜内周面与基板之间的夹角为30°～60°，所述凹槽的宽度自下往上逐渐增大。本专利技术的有益效果：本专利技术提供了一种用于打印OLED显示器件的凹槽结构，通过将围拢成凹槽的堤坝划分为层叠设置的第一分支堤坝层、及第二分支堤坝层，所述第一分支堤坝层围拢成凹槽的倾斜内周面与空穴注入层墨水形成的接触角范围为10°～45°，所述第二分支堤坝层围拢成凹槽的倾斜内周面与空穴注入层墨水形成的接触角范围为30°～60°，所述第二分支堤坝层围拢成凹槽的倾斜内周面与空穴传输层墨水及发光功能层墨水形成的接触角范围为10°～45°，从而限制空穴注入层四周向上攀爬的高度，使形成的空穴注入层的上表面平整或中间略微凸起，能够防止空穴注入层边缘漏电，提升OLED显示器件的品质。本专利技术还提供一种OLED显示器件的制作方法，能够防止OLED显示器件的空穴注入层边缘漏电，提升OLED显示器件的品质。附图说明为了能更进一步了解本专利技术的特征以及
技术实现思路
，请参阅以下有关本专利技术的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本专利技术加以限制。附图中，图1为现有的通过打印成膜方式制备有机功能层的OLED显示器件的结构示意图；图2为现有的打印成膜方式中当空穴注入层墨水在围成凹槽的堤坝的倾斜内周面上爬升过高时，空穴注入层墨水与凹槽的关系示意图；图3为本专利技术的用于打印OLED显示器件的凹槽结构的结构示意图暨本专利技术的OLED显示器件制作方法的步骤2的示意图；图4为本专利技术的OLED显示器件制作方法的步骤3至步骤5的示意图；图5为本专利技术的OLED显示器件制作方法的流程图。具体实施方式为更进一步阐述本专利技术所采取的技术手段及其效果，以下结合本专利技术的优选实施例及其附图进行详细描述。请参阅图3，本专利技术提供一种用于打印OLED显示器本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于打印OLED显示器件的凹槽结构，位于基板(1)上，其特征在于，包括堤坝(2)、及由堤坝(2)围拢成的凹槽(3)；所述堤坝(2)包括：第一分支堤坝层(21)、及层叠于所述第一分支堤坝层(21)上的第二分支堤坝层(22)；所述第一分支堤坝层(21)围拢成凹槽(3)的倾斜内周面与OLED显示器件的空穴注入层墨水形成的接触角范围为10°～45°，所述第二分支堤坝层(22)围拢成凹槽(3)的倾斜内周面与OLED显示器件的空穴注入层墨水形成的接触角范围为30°～60°，所述第二分支堤坝层(22)围拢成凹槽(3)的倾斜内周面与OLED显示器件的空穴传输层墨水及发光功能层墨水形成的接触角范围为10°～45°。

【技术特征摘要】
1.一种用于打印OLED显示器件的凹槽结构，位于基板(1)上，其特征在于，包括堤坝(2)、及由堤坝(2)围拢成的凹槽(3)；所述堤坝(2)包括：第一分支堤坝层(21)、及层叠于所述第一分支堤坝层(21)上的第二分支堤坝层(22)；所述第一分支堤坝层(21)围拢成凹槽(3)的倾斜内周面与OLED显示器件的空穴注入层墨水形成的接触角范围为10°～45°，所述第二分支堤坝层(22)围拢成凹槽(3)的倾斜内周面与OLED显示器件的空穴注入层墨水形成的接触角范围为30°～60°，所述第二分支堤坝层(22)围拢成凹槽(3)的倾斜内周面与OLED显示器件的空穴传输层墨水及发光功能层墨水形成的接触角范围为10°～45°。2.如权利要求1所述的用于打印OLED显示器件的凹槽结构，其特征在于，所述基板(1)上设有阳极(11)，所述围拢成凹槽(3)的堤坝(2)设于所述阳极(11)的四周边缘及基板(1)上。3.如权利要求2所述的用于打印OLED显示器件的凹槽结构，其特征在于，所述第一分支堤坝层(21)的上表面与阳极(11)之间的高度差范围为50nm～800nm，所述堤坝(2)的厚度小于3微米。4.如权利要求2所述的用于打印OLED显示器件的凹槽结构，其特征在于，所述阳极(11)的材料为ITO。5.如权利要求1所述的用于打印OLED显示器件的凹槽结构，其特征在于，所述堤坝(2)围拢成凹槽(3)的倾斜内周面与基板(1)之间的夹角为30°～60°，所述凹槽(3)的宽度自下往上逐渐增大。6.一种OLED显示器件的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1、提供一基板(1)、第一分支堤坝层材料及第二分支堤坝层材料；步骤2、在所述基板(1)上制作阳极(11)，使用所述第一分支堤坝层材料及第二分支堤坝层材料通过涂布、干燥、及蚀刻工艺在基板(1)上依次制作层叠设置的第一分支堤坝层(...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘亚伟，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44