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一种低温制备氮化硅粉体材料的方法技术

技术编号:1478142 阅读:139 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
氮化硅(Si↓[3]N↓[4])粉体材料的制备方法,属于无机非金属粉体材料制备方法技术领域。通过反应、清洗、抽滤、烘干等工艺,制备Si↓[3]N↓[4]粉体,使用的设备简单而且安全性好,温度只有100℃,反应物的转化率为90%以上,反应产物处理简单,制备工艺稳定,生产效率高。产品高温强度高,耐热、耐磨,化学稳定性好;粉体的尺寸在五十纳米到二百纳米之间。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种低温制备氮化硅(Si3N4)粉体的方法,属于无机非金属粉体材料制备方法

技术介绍
氮化硅具有良好的力学性能、高的化学稳定性、较低的密度以及良好的高温性能,抗热冲击,抗蠕变,广泛应用于高接触应力条件下的滑动、滚动轴承及磨球,高温、化学腐蚀条件下工作的结构陶瓷,高效研磨材料,冶金领域的耐火材料等。目前,制备Si3N4粉体材料的方法包括硅的高温氮化、二氧化硅在氨气或氮气中进行碳热还原、CS2与氨气反应、气相反应、有机物高温热分解、高温自蔓延合成、溶剂热合成。但是这些方法一般都需要在1000℃以上的高温进行,有的甚至需要1500℃以上的高温,而且反应时间长,纯度低、成本高,直接影响了Si3N4的应用。
技术实现思路
为克服现有技术的不足,本专利技术提供一种低温制备Si3N4粉体材料的方法。该方法的特点是反应时间短,粉体纯度高,能耗低,产率高,产品化学稳定性好、高温强度高、耐热、耐磨,是一种理想的低温制备氮化硅粉体材料的方法。,以四氯化硅(SiCl4)作硅源、以叠氮钠(NaN3)作氮源,在100℃的低温下制备Si3N4粉体材料的有效方法。通过SiCl4与NaN3之间的反应制备Si3N4的反应式为制备工艺如下(1)在无水无氧手套箱中,用天平称取叠氮钠(NaN3),用移液管量取液态四氯化硅(SiCl4)、装入高温高压不锈钢反应釜中,封釜后,将反应釜在加热炉中加热到100℃~480℃,使两种反应物之间发生化学交换反应。加热炉到温后立即停止加热,使反应釜在炉中自然冷却到室温。(2)反应产物经无水酒精清洗、抽滤,除去残余反应物,直到滤液无色为止;(3)用沸腾的氢氧化钠溶液清洗,以除去可能出现的单质硅;(4)再用去离子水清洗,以除去反应副产物NaCl;(5)所得产物在60℃温度下烘干3小时后,得到灰白色粉末。本专利技术制备的Si3N4粉体,化学稳定性好、高温强度高,耐热、耐磨,产率不低于90%;粉体的尺寸在五十纳米到二百纳米之间。附图说明图1是通过3.0ml SiCl4和7.5g NaN3分别在100℃、300℃、480℃反应后制得的Si3N4粉体的X-射线粉末衍射图。粉体都是由β-Si3N4和α-Si3N4组成,二者之间的相对量随温度升高而增大。具体实施方式实施例1通过SiCl4与NaN3之间的化学交换反应制备Si3N4粉体。在无水无氧手套箱中,用天平称取7.5g NaN3,用移液管量取3.0ml SiCl4,移入50ml反应釜中。封釜后,将反应釜在加热炉中加热到100℃,到100℃后停止加热。反应产物经无水酒精清洗至滤液无色,再用沸腾的氢氧化钠清洗,最后用去离子水清洗至滤液呈中性,然后将产物在60℃烘干3小时后,得到灰白色粉末1.36g。实施例2通过SiCl4与NaN3之间的化学交换反应制备Si3N4粉体。在无水无氧手套箱中,用天平称取7.5g NaN3,用移液管量取3.0ml SiCl4,移入50ml反应釜中。封釜后,将反应釜在加热炉中加热到300℃,到300℃后停止加热。反应产物经无水酒精清洗至滤液无色,再用沸腾的氢氧化钠清洗,最后用去离子水清洗至滤液呈中性,然后将产物在60℃烘干3小时后,得到灰白色粉末1.44g。实施例3通过SiCl4与NaN3之间的化学交换反应制备Si3N4粉体。在无水无氧手套箱中,用天平称取7.5g NaN3,用移液管量取3.0ml SiCl4,移入50ml反应釜中。封釜后,将反应釜在加热炉中加热到480℃,到480℃后停止加热。反应产物经无水酒精清洗至滤液无色,再用沸腾的氢氧化钠清洗,最后用去离子水清洗至滤液呈中性,然后将产物在60℃烘干3小时后,得到灰白色粉末1.44g。权利要求1.一种氮化硅粉体材料的制备方法,其特征在于,以四氯化硅(SiCl4)作硅源、以叠氮钠(NaN3)作氮源,在不锈钢反应釜中进行化学交换反应,对反应产物经过清洗、抽滤、烘干;化学反应式为;制备工艺如下(1)、在无水无氧手套箱中,将四氯化硅(SiCl4)和叠氮钠(NaN3)装入高温高压不锈钢反应釜中,封釜后,将反应釜在加热炉中加热到100℃~480℃,使两种反应物之间发生化学交换反应。加热炉到温后立即停止加热,使反应釜在炉中自然冷却到室温;(2)、反应产物经无水酒精清洗、抽滤,除去残余反应物,直到滤液无色为止;(3)、用沸腾的氢氧化钠溶液清洗,以除去可能出现的单质硅;(4)、再用去离子水清洗,以除去反应副产物NaCl;(5)、所得产物在60℃温度下烘干3小时后,得到灰白色氮化硅粉末。全文摘要氮化硅(Si文档编号C01B21/068GK1562735SQ20041002375公开日2005年1月12日 申请日期2004年3月19日 优先权日2004年3月19日专利技术者白玉俊, 王成国, 李木森, 王正博, 亓永新, 朱波, 王延相 申请人:山东大学本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种氮化硅粉体材料的制备方法,其特征在于,以四氯化硅(SiCl↓[4])作硅源、以叠氮钠(NaN↓[3])作氮源,在不锈钢反应釜中进行化学交换反应,对反应产物经过清洗、抽滤、烘干;化学反应式为:    3SiCl↓[4]+12NaN↓[3]=Si↓[3]N↓[4]+12NaCl+16N↓[2];    制备工艺如下:    (1)、在无水无氧手套箱中,将四氯化硅(SiCl↓[4])和叠氮钠(NaN↓[3])装入高温高压不锈钢反应釜中,封釜后,将反应釜在加热炉中加热到100℃~480℃,使两种反应物之间发生化学交换反应。加热炉到温后立即停止加热,使反应釜在炉中自然冷却到室温;    (2)、反应产物经无水酒精清洗、抽滤,除去残余反应物,直到滤液无色为止;    (3)、用沸腾的氢氧化钠溶液清洗,以除去可能出现的单质硅;    (4)、再用去离子水清洗,以除去反应副产物NaCl;    (5)、所得产物在60℃温度下烘干3小时后,得到灰白色氮化硅粉末。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:白玉俊王成国李木森王正博亓永新朱波王延相
申请(专利权)人:山东大学
类型:发明
国别省市:88[中国|济南]

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