光阻雾化处理设备及光阻雾化处理系统技术方案

本发明专利技术公开一种光阻雾化处理设备，其包括：操控座台、容置腔体、样品盒、进气管、紫外灯管以及吸附管；容置腔体设置于操作座台上；样品盒设置于容置腔体中，样品盒用于放置光阻样品；进气管由操作座台穿入容置腔体中，且进气管与样品盒连通，进气管用于将惰性气体通入样品盒中；紫外灯管设置于容置腔体的内表面上，紫外灯管用于对放置于样品盒中的光阻样品进行紫外光曝光；吸附管与样品盒连通，且吸附管穿出容置腔体，吸附管用于收集由惰性气体吹出的经紫外光曝光后的光阻样品的碎裂物。本发明专利技术的光阻雾化处理设备能够对光阻材料进行雾化处理，从而便于光阻材料的雾化表现的评估，以筛选出优质光阻材料，减少因光阻材料导致的损失。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光阻雾化
，具体地讲，涉及一种光阻雾化处理设备及光阻雾化处理系统。
技术介绍
TFT-LCD(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay，薄膜晶体管-液晶显示器)是目前在亮度、对比度、功耗、寿命、体积和重量等综合性能均表现良好的显示器，它的性能优良、大规模生产特性好、自动化程度高且发展空间广阔，已经逐渐占据了显示器领域的主导地位。在TFT-LCD中，液晶面板通常由Array基板(即薄膜晶体管阵列基板)、CF基板(即彩色滤光阵列基板)以及夹在二者之间的液晶构成。在各个基板的制程中，通常在玻璃基板上通过涂布、曝光、显影、烘烤等得到设计的R、G、B、BM(BlackMatrix)、PS(PhotoSpacer)光阻图案。然而在制程中曾有曝光光罩出现雾化的现象，从而导致曝光后的光阻图案产生变异，形状和线宽(CD)出现异常。而导致曝光光罩雾化的原因是在进行曝光时，光阻内残余溶剂将光起始剂碎裂物带出，附着在曝光光罩上，从而导致曝光光罩雾化。因此，在光阻材料评估时亟需一种光阻雾化处理设备对光阻材料进行雾化，以评估光阻材料对曝光光罩的影响。
技术实现思路
为了实现上述目的，本专利技术提供了一种光阻雾化处理设备，其包括：操控座台、容置腔体、样品盒、进气管、紫外灯管以及吸附管；所述容置腔体设置于所述操作座台上；所述样品盒设置于所述容置腔体中，所述样品盒用于放置光阻样品；所述进气管由所述操作座台穿入所述容置腔体中，且所述进气管与所述样品盒连通，所述进气管用于将惰性气体通入所述样品盒中；所述紫外灯管设置于所述容置腔体的内表面上，所述紫外灯管用于对放置于所述样品盒中的光阻样品进行紫外光曝光；所述吸附管与所述样品盒连通，且所述吸附管穿出所述容置腔体，所述吸附管用于收集由所述惰性气体吹出的经紫外光曝光后的光阻样品的碎裂物。进一步地，所述容置腔体包括四个侧壁以及一个顶壁，所述四个侧壁两两相对设置，所述顶壁封闭在所述四个侧壁的一侧，所述操作座台封闭在所述四个侧壁的另一侧，以使所述操作座台的顶表面面向所述顶壁。进一步地，所述四个侧壁中的至少一个被设置为能够打开或关闭。进一步地，所述紫外灯管设置于所述能够打开或关闭的侧壁的内表面上。进一步地，所述进气管由外部穿入所述操作座台中，并由所述操作座台的顶表面穿出，从而穿入所述容置腔体中；所述吸附管由所述容置腔体的顶壁穿出；在所述进气管由所述操作座台的顶表面穿出之后，利用螺母在所述操作座台的顶表面上对所述进气管进行紧固；在所述吸附管由所述容置腔体的顶壁穿出之后，利用螺母在所述顶壁的外表面上对所述吸附管进行紧固。进一步地，所述样品盒呈长方体形，所述样品盒包括：上壁、下壁、左侧壁、右侧壁、前侧壁以及后侧壁，所述进气管连接到所述下壁，所述吸附管连接到所述上壁；在所述进气管连接到所述下壁之后，利用螺母在所述下壁的外表面上紧固所述进气管；在所述吸附管连接到所述上壁之后，利用螺母在所述上壁的外表面上紧固所述吸附管。进一步地，所述左侧壁或其部分和/或所述右侧壁或其部分被设置为能够打开或关闭。进一步地，所述光阻雾化处理设备还包括温度探测器，所述温度探测器设置于所述容置腔体中，以探测所述容置腔体中的温度。进一步地，所述操控座台包括：总气压指示表，用于指示惰性气体源的压力；电源开关，用于控制电源的打开或关闭；控制键盘，用于设定工作温度、光阻样品处理时间以及所述样品盒中的气体流量；温度控制系统，用于将所述容置腔体中的温度保持到所述工作温度；显示屏，用于显示工作过程中的设定参数；启动开关，用于控制对所述样品盒中的光阻样品进行处理的开始或停止。本专利技术还提供了一种光阻雾化处理系统，其包括惰性气体源以及上述的光阻雾化处理设备，所述光阻雾化处理设备的进气管与所述惰性气体源连通。本专利技术的有益效果：本专利技术提供的一种光阻雾化处理设备以及光阻雾化处理系统能够对光阻材料进行雾化处理，从而便于光阻材料的雾化表现的评估，以筛选出优质光阻材料，减少因光阻材料导致的损失。附图说明通过结合附图进行的以下描述，本专利技术的实施例的上述和其它方面、特点和优点将变得更加清楚，附图中：图1是根据本专利技术的实施例的容置腔体的一侧壁处于打开状态的光阻雾化处理设备的示意图；图2是根据本专利技术的实施例的容置腔体的一侧壁处于关闭状态的光阻雾化处理设备的示意图；图3是根据本专利技术的实施例的右侧壁的右部分处于打开状态的样品盒的示意图；图4是根据本专利技术的实施例的右侧壁的右部分处于关闭状态的且放置有光阻样品的样品盒的示意图；图5是根据本专利技术的实施例的光阻雾化处理系统的示意图。具体实施方式以下，将参照附图来详细描述本专利技术的实施例。然而，可以以许多不同的形式来实施本专利技术，并且本专利技术不应该被解释为限制于这里阐述的具体实施例。相反，提供这些实施例是为了解释本专利技术的原理及其实际应用，从而使本领域的其他技术人员能够理解本专利技术的各种实施例和适合于特定预期应用的各种修改。以下，诸如“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”、“顶”、“底”等词语仅仅是为了便于描述实施例，并不是为了限制本专利技术。图1是根据本专利技术的实施例的容置腔体的一侧壁处于打开状态的光阻雾化处理设备的示意图。图2是根据本专利技术的实施例的容置腔体的一侧壁处于关闭状态的光阻雾化处理设备的示意图。参照图1和图2，根据本专利技术的实施例的光阻雾化处理设备100包括：操控座台110、容置腔体120、样品盒130、进气管140、紫外灯管150以及吸附管160；容置腔体120设置于操作座台110上；样品盒130设置于容置腔体120中，样品盒130用于放置光阻样品300；进气管140由操作座台110穿入容置腔体120中，且进气管140与样品盒130连通，进气管140用于将惰性气体通入样品盒130中；紫外灯管150设置于容置腔体120的内表面上，紫外灯管150用于对放置于样品盒130中的光阻样品300进行紫外光曝光；吸附管160与样品盒130连通，且吸附管160穿出容置腔体120，吸附管160用于收集由惰性气体吹出的经紫外光曝光后的光阻样品300的碎裂物300A。具体而言，容置腔体120包括四个侧壁121、122、123、124以及一个顶壁125。侧壁121与侧壁123相对设置，侧壁122与侧壁124相对设置，且侧壁122连接侧壁121和侧壁123的一端，侧壁124连接侧壁121和侧壁123的另一端，这样，四个侧壁121、122、123、124合围后为两端开放且中空的长方体。顶壁125封闭在四个侧壁121、122、123、124的一端，而操控座台110封闭在四个侧壁121、122、123、124的另一端，以使操作座台110的顶表面110A面向顶壁125。也就是说，容置腔体120借用操作座台110作为其封闭四个侧壁121、122、123、124的另一端的“底壁”。此外，四个侧壁121、122、123、124可由透明材质形成，但本专利技术并不限制于此。当然，需要说明的是，容置腔体120也可以包括一个底壁，该底壁与顶壁125面对设置，从而该底壁封闭在四个侧壁121、122、123、124的另一端。当容置腔体120与操作座台110安装时，使容置腔体120的底壁与操作座台110的顶表面110A贴合组装即可。进本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光阻雾化处理设备，其特征在于，包括：操控座台、容置腔体、样品盒、进气管、紫外灯管以及吸附管；所述容置腔体设置于所述操作座台上；所述样品盒设置于所述容置腔体中，所述样品盒用于放置光阻样品；所述进气管由所述操作座台穿入所述容置腔体中，且所述进气管与所述样品盒连通，所述进气管用于将惰性气体通入所述样品盒中；所述紫外灯管设置于所述容置腔体的内表面上，所述紫外灯管用于对放置于所述样品盒中的光阻样品进行紫外光曝光；所述吸附管与所述样品盒连通，且所述吸附管穿出所述容置腔体，所述吸附管用于收集由所述惰性气体吹出的经紫外光曝光后的光阻样品的碎裂物。

【技术特征摘要】
1.一种光阻雾化处理设备，其特征在于，包括：操控座台、容置腔体、样品盒、进气管、紫外灯管以及吸附管；所述容置腔体设置于所述操作座台上；所述样品盒设置于所述容置腔体中，所述样品盒用于放置光阻样品；所述进气管由所述操作座台穿入所述容置腔体中，且所述进气管与所述样品盒连通，所述进气管用于将惰性气体通入所述样品盒中；所述紫外灯管设置于所述容置腔体的内表面上，所述紫外灯管用于对放置于所述样品盒中的光阻样品进行紫外光曝光；所述吸附管与所述样品盒连通，且所述吸附管穿出所述容置腔体，所述吸附管用于收集由所述惰性气体吹出的经紫外光曝光后的光阻样品的碎裂物。2.根据权利要求1所述的光阻雾化处理设备，其特征在于，所述容置腔体包括四个侧壁以及一个顶壁，所述四个侧壁两两相对设置，所述顶壁封闭在所述四个侧壁的一侧，所述操作座台封闭在所述四个侧壁的另一侧，以使所述操作座台的顶表面面向所述顶壁。3.根据权利要求2所述的光阻雾化处理设备，其特征在于，所述四个侧壁中的至少一个被设置为能够打开或关闭。4.根据权利要求3所述的光阻雾化处理设备，其特征在于，所述紫外灯管设置于所述能够打开或关闭的侧壁的内表面上。5.根据权利要求2所述的光阻雾化处理设备，其特征在于，所述进气管由外部穿入所述操作座台中，并由所述操作座台的顶表面穿出，从而穿入所述容置腔体中；所述吸附管由所述容置腔体的顶壁穿出；在所述进气管由所述操作座台的顶表面穿出之后，利用螺母在所述操作座台的顶表面上对所述进气管进...

【专利技术属性】
技术研发人员：巫景铭，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44