【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光学和光电
,涉及纳米光电器件、表面等离子体激发、纳米聚焦和矢量场,特别是一种高空间分辨率、高灵敏度、能产生强纵向偏振电场的金属光电探针。
技术介绍
产生具有大纵向偏振电场分量的纳米聚焦强场,对于提高单分子成像、热辅助磁记录、纳米光刻及诱发热电子至关重要。目前已有多种增强纳米聚焦的金属结构,其中最常用的是金属纳米线性锥形结构,但是线性纳米结构的聚焦存在局限性,能通过改变曲率半径对光场进行聚焦,不具有非线性特性,使得对表面等离激元的研究和应用存在局限性。因此我们提出研究对数型非线性金属纳米锥结构。
技术实现思路
本专利技术目的是为产生具有大纵向偏振电场分量的纳米聚焦矢量场,提供一种高空间分辨率和高灵敏度的对数型非线性金属纳米锥探针。本专利技术提供的高空间分辨率和高灵敏度的对数型非线性金属纳米锥探针,由对数型金属纳米非线性锥形结构构成,该探针在柱状坐标系的结构方程h(ρ,θ)为:其中:ρ和θ分别是柱状坐标系下的半径和角度,h0是预设的高度参数,R是底面半径,h0和R的大小在纳米量级。N为对数型非线性因子,且24≤N≤27,N为正整数。所述的对数型非线性金属纳米锥探针。当入射光(特别是径向偏振光)照射对数型金属纳米锥探针底面时,在金属表面激发表面等离激元,并沿着对数型非线性金属纳米锥的弯曲表面向顶端传播,并不断压缩和聚焦,形成高度局域的纳米聚焦强场。所述的对数型非线性金属纳米锥探针,由于该探针的结构为对数型非线性结构,表面等离激元沿曲面表面传播在顶端形成强度达4个数量级的纳米聚焦电场。所述的对数型非线性金属纳米锥探针,在金属材料和其结构参数确定 ...
【技术保护点】
一种能提高空间分辨率和灵敏度以及能产生强纵向偏振电场对数型非线性金属纳米锥探针,其特征在于该对数型非线性金属纳米锥探针由金属纳米非线性锥形结构构成,该探针在柱状坐标系下的结构方程h(ρ,θ)为:其中:ρ和θ分别是柱状坐标系下的半径和角度,h0是预设的高度参数,R是底面半径,N为对数型非线性因子,且24≤N≤27,N为正整数,h0和R的大小在纳米量级;当入射光,特别是径向偏振光照射对数型非线性金属纳米锥探针底面时,在金属表面激发表面等离激元,并沿着对数型非线性金属纳米锥的弯曲表面向顶端传播,并不断压缩和聚焦,形成高度局域的纳米聚焦强场。
【技术特征摘要】
2016.08.05 CN 20161064094441.一种能提高空间分辨率和灵敏度以及能产生强纵向偏振电场对数型非线性金属纳米锥探针,其特征在于该对数型非线性金属纳米锥探针由金属纳米非线性锥形结构构成,该探针在柱状坐标系下的结构方程h(ρ,θ)为:其中:ρ和θ分别是柱状坐标系下的半径和角度,h0是预设的高度参数,R是底面半径,N为对数型非线性因子,且24≤N≤27,N为正整数,h0和R的大小在纳米量级;当入射光,特别是径向偏振光照...
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