【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开内容的实施例总体上涉及用于集成电路(IC)组件的材料的领域,并且更具体而言,涉及具有天线的多层封装件。
技术介绍
低耗损封装衬底上的高性能无线收音机(例如,毫米波收音机)的集成出现了多种挑战。例如,厚电介质层可以用在辐射元件(例如,天线和下层接地平面)之间,以便于用于集成天线以覆盖宽频带(例如,在7GHz至60GHz左右),其可能会产生超厚的封装衬底。多种低耗损的衬底材料可以在集成无线收音机的频率下提供更好的电气性能,然而这种低耗损衬底材料可以更加有柔性,并且如天线集成的超厚层,可能不具有要处理的足够机械稳定性。例如,柔性材料可能对封装翘曲变形更加敏感。因此,目前的解决方案可以采用更刚性的材料,例如,低温共烧陶瓷(LTCC),其还可以是更昂贵的材料。在一些情况下,增加衬底材料的机械刚性的材料可能会增加表面粗糙度,这可能在更高频率的下导致增加的导体耗损。具有更低耗损和表面粗糙度的更薄和/或更便宜的结构上刚性的结构可能是可取的。附图说明通过结合附图的以下具体实施方式将容易理解实施例。为了便于描述,相同的附图标记标示相同的结构元件。通过示例的方式而非通过限制的方式在附图的图中示出实施例。图1示意性地示出了根据一些实施例的示例性集成电路(IC)组件的截面侧视图。图2示意性地示出了根据一些实施例的多层封装组件的截面侧视图。图3示意性地示出了根据一些实施例的与管芯耦合的多层封装组件的截面侧视图。图4示意性地示出了根据一些实施例的制造多层封装组件的方法的流程图。图5示意性地示出了根据一些实施例的另一个多层封装组件的截面侧视图。图6示意性地示出了根据一些实施例的另 ...
【技术保护点】
一种集成电路(IC)封装组件,包括:第一层,其具有第一侧和被设置为与所述第一侧相对的第二侧;第二层,其与所述第一层的所述第一侧耦合;一个或多个天线元件,其与所述第二层耦合;以及第三层,其与所述第一层的所述第二侧耦合,其中,所述第一层是具有拉伸模量的增强层,所述第一层的所述拉伸模量比所述第二层和所述第三层的拉伸模量大。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种集成电路(IC)封装组件,包括:第一层,其具有第一侧和被设置为与所述第一侧相对的第二侧;第二层,其与所述第一层的所述第一侧耦合;一个或多个天线元件,其与所述第二层耦合;以及第三层,其与所述第一层的所述第二侧耦合,其中,所述第一层是具有拉伸模量的增强层,所述第一层的所述拉伸模量比所述第二层和所述第三层的拉伸模量大。2.根据权利要求1所述的IC封装组件,其中:所述第二层和所述第三层具有相同的材料成分;并且所述第二层和所述第三层的表面粗糙度比所述第一层的表面粗糙度小。3.根据权利要求1所述的IC封装组件,其中:所述第一层包括液晶聚合物(LCP)或预浸材料;并且所述第二层和所述第三层包括液晶聚合物(LCP)或基于环氧树脂的材料。4.根据权利要求3所述的IC封装组件,其中:所述第一层包括具有玻璃的LCP;并且所述第二层和所述第三层包括无玻璃的LCP。5.根据权利要求1所述的IC封装组件,其中:所述一个或多个天线元件包括形成在所述第二层上的一个或多个电镀金属特征。6.根据权利要求1所述的IC封装组件,其中,所述第三层的第一侧与所述第一层的所述第二侧耦合,所述IC封装组件还包括:电气布线特征,其设置在所述第三层的第二侧上,所述第三层的所述第二侧被设置为与所述第三层的所述第一侧相对;以及过孔结构或电镀穿孔结构,其与所述电气布线特征以及所述一个或多个天线元件耦合,所述过孔结构或电镀穿孔结构延伸穿过所述第一层、所述第二层以及所述第三层。7.根据权利要求1-6中的任一项所述的IC封装组件,其中:所述第一层限定了在水平方向上延伸的平面;并且在所述水平方向上没有用于发送电信号的电镀金属特征直接设置在所述第一层上。8.根据权利要求1-6中的任一项所述的IC封装组件,其中,所述一个或多个天线元件包括第一电容元件,所述IC封装组件还包括:第二电容元件,其与所述第三层直接耦合,其中,所述第一电容元件和所述第二电容元件是多层电容耦合天线的部件。9.根据权利要求1-6中的任一项所述的IC封装组件,还包括:第四层,其具有第一侧和被设置为与所述第一侧相对的第二侧;第五层,其与所述第四层的所述第一侧耦合;以及第六层,其与所述第四层的所述第二侧耦合,其中,所述第四层是具有拉伸模量的增强层,所述第四层的所述拉伸模量比所述第五层和所述第六层的拉伸模量大,其中,所述第五层与所述第三层耦合。10.根据权利要求1-6中的任一项所述的IC封装组件,还包括:天线接地层,其与所述第三层耦合;以及射频(RF)管芯,其与所述天线接地层耦合。11.一种制造多...
【专利技术属性】
技术研发人员:T·卡姆嘎因,A·A·埃尔谢尔比尼,T·W·弗兰克,
申请(专利权)人:英特尔公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
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