水箱组件及恒湿机制造技术

本发明专利技术提供了一种水箱组件及恒湿机。水箱组件包括水箱、检测设备和除污设备。其中，水箱用于储存加湿用的水，检测设备设置在水箱上，用于检测水箱的透光率是否低于预定值，除污设备设置在水箱上，并与检测设备连接，除污设备用于接收检测设备的检测信号，并对水箱内的污垢进行清除。在使用时，当检测设备检测到水箱的透光率小于预定值时，则判断水箱内的污垢超标。除污设备接收到检测设备的检测信号，启动清除污垢，以实现水箱组件的自清洁，既节省人力，还能确保水箱组件的正常使用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及空气调节
，具体而言，涉及一种水箱组件及恒湿机。
技术介绍
恒温恒湿机主要为电子零部件、工业材料、成品在研发、生产和检验各环节的试验提供恒定湿热、复杂高低温交变等试验环境和试验条件，适用于电子电器、通讯、化工、五金、橡胶、玩具等各行业。目前，恒温恒湿机的加湿系统普遍采用电极加湿系统。电极加湿的原理是将电极棒插入电极罐水面下，接通电源，借助水中的离子移动将水加热至沸腾，产生水蒸汽的产生量大小则取于电极罐中水位的高低，即电极棒插入水中的深度或面积，蒸汽喷杆均匀分布于空调箱或风管中，经空气吸收而达到加湿的目的。可以说电极加湿系统结构简单，使用方便。上述的电机加湿系统在使用过程中容器里面的液态水在通电电极的作用下，逐渐变成水蒸汽。当水质不好时，容易在容器表面产生出一层水垢污秽。该水垢会随时间的推移而增厚，达到一定程度时容易堵塞阀门，甚至降低加湿效果。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一种水箱组件及恒湿机，以解决现有技术中水箱里产生水垢后影响水箱使用的问题。为了实现上述目的，根据本专利技术的一个方面，提供了一种水箱组件，包括水箱、检测设备和除污设备。水箱用于储存加湿用的水；检测设备设置在水箱上，用于检测水箱的透光率是否低于预定值；除污设备设置在水箱上，与检测设备连接，除污设备用于接收检测设备的检测信号，并对水箱内的污垢进行清除。进一步地，水箱上具有透光结构，检测设备包括设置在水箱上的光敏检测器，光敏检测器用于检测透光结构的透光率。进一步地，检测设备还包括光源，光源设置在水箱上，光源用于透过透光结构向光敏检测器照射光线。进一步地，水箱整体由透光结构构成。进一步地，光源和光敏检测器设置在水箱的外部，并与透光结构对应设置。进一步地，除污设备包括超声波去污器，超声波去污器安装在水箱上。进一步地，水箱的底部设置有排污口，排污口用于排出水箱内的污垢。进一步地，除污设备还包括清洗喷嘴，清洗喷嘴设置在水箱内。进一步地，清洗喷嘴为多个，多个清洗喷嘴在水箱内间隔设置。进一步地，水箱组件还包括水位控制装置，水箱上设置有进水口，水位控制装置设置在进水口上。为了实现上述目的，根据本专利技术的一个方面，提供了一种恒湿机，包括水箱组件，水箱组件为上述的水箱组件。进一步地，恒湿机包括电极，电极设置在水箱组件的水箱中，电极用于产生水蒸气。应用本专利技术的技术方案，在使用时，当检测设备检测到水箱的透光率小于预定值时，则判断水箱内的污垢超标。除污设备接收到检测设备的检测信号，启动清除污垢，以实现水箱组件的自清洁，既节省人力，还能确保水箱组件的正常使用。除了上面所描述的目的、特征和优点之外，本专利技术还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图，对本专利技术作进一步详细的说明。附图说明构成本专利技术的一部分的说明书附图用来提供对本专利技术的进一步理解，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中：图1示出了根据本专利技术的恒湿机的实施例的结构示意图。其中，上述附图包括以下附图标记：10、水箱；11、排污口；20、电极；30、检测设备；31、光敏检测器；32、光源；40、除污设备；41、超声波去污器；42、清洗喷嘴；50、水位控制装置。具体实施方式需要说明的是，在不冲突的情况下，本专利技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本专利技术。为了使本
的人员更好地理解本专利技术方案，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本专利技术保护的范围。需要说明的是，本专利技术的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的术语在适当情况下可以互换，以便这里描述的本专利技术的实施例。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。除非另外具体说明，否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本专利技术的范围。同时，应当明白，为了便于描述，附图中所示出的各个部分的尺寸并不是按照实际的比例关系绘制的。对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法和设备应当被视为授权说明书的一部分。在这里示出和讨论的所有示例中，任何具体值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制。因此，示例性实施例的其它示例可以具有不同的值。应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等，用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是，空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的器件被倒置，则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而，示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位)，并且对这里所使用的空间相对描述做出相应解释。在本专利技术的描述中，需要理解的是，方位词如“前、后、上、下、左、右”、“横向、竖向、垂直、水平”和“顶、底”等所指示的方位或位置关系通常是基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，在未作相反说明的情况下，这些方位词并不指示和暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位或者以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术保护范围的限制；方位词“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内外。图1示出了本专利技术的水箱组件的实施例一的结构，水箱组件包括水箱10、检测设备30和除污设备40。其中，水箱10用于储存加湿用的水，检测设备30设置在水箱10上，用于检测水箱10的透光率是否低于预定值，除污设备40设置在水箱10上，并与检测设备30连接，除污设备40用于接收检测设备30的检测信号，并对水箱10内的污垢进行清除。在使用时，当检测设备30检测到水箱10的透光率小于预定值时，则判断水箱10内的污垢超标。除污设备40接收到检测设备30的检测信号，启动清除污垢，以实现水箱组件的自清洁，既节省人力，还能确保水箱组件的正常使用。在实施例一的技术方案中，水箱1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种水箱组件，其特征在于，包括：水箱(10)，用于储存加湿用的水；检测设备(30)，设置在所述水箱(10)上，用于检测所述水箱(10)的透光率是否低于预定值；除污设备(40)，设置在所述水箱(10)上，与所述检测设备(30)连接，所述除污设备(40)用于接收所述检测设备(30)的检测信号，并对所述水箱(10)内的污垢进行清除。

【技术特征摘要】
1.一种水箱组件，其特征在于，包括：水箱(10)，用于储存加湿用的水；检测设备(30)，设置在所述水箱(10)上，用于检测所述水箱(10)的透光率是否低于预定值；除污设备(40)，设置在所述水箱(10)上，与所述检测设备(30)连接，所述除污设备(40)用于接收所述检测设备(30)的检测信号，并对所述水箱(10)内的污垢进行清除。2.根据权利要求1所述的水箱组件，其特征在于，所述水箱(10)上具有透光结构，所述检测设备(30)包括设置在所述水箱(10)上的光敏检测器(31)，所述光敏检测器(31)用于检测所述透光结构的透光率。3.根据权利要求2所述的水箱组件，其特征在于，所述检测设备(30)还包括光源(32)，所述光源(32)设置在所述水箱(10)上，所述光源(32)用于透过所述透光结构向所述光敏检测器(31)照射光线。4.根据权利要求2所述的水箱组件，其特征在于，所述水箱(10)整体由所述透光结构构成。5.根据权利要求3所述的水箱组件，其特征在于，所述光源(32)和所述光敏检测器(31)设置在所述水箱(10)的外部，并与所述透光结构对应设置。6.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘桂鹏，玉维友，邓忠文，贺小林，唐杰，
申请(专利权)人：珠海格力电器股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44