【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及太阳能电池制造
,具体涉及一种网栅异质结太阳能电池及其工艺。
技术介绍
现有技术的太阳能电池主要包括如下三层:由硅片构成的基座,基座上的基底,基底上沉积的金属薄膜,其透光率受到金属薄膜的限制和遮挡,无法进一步的提高透光率,减少遮光面积,因此也限制了太阳能电池效率的进一步提升。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足,本专利技术的目的在于提供一种网栅异质结太阳能电池及其工艺,解决现有技术的太阳能电池无法进一步提高透光率,减少遮光面积,无法进一步提高太阳能电池的转换效率,降低成本的缺点。本专利技术第一目的在于提供一种网栅异质结太阳能电池,包括太阳能电池的基座和基底,上述基座和基底之间设有带图形的基座网栅,上述基底的表面选择性沉积有与上述基座网栅形状图形大小一致的薄膜型金属网栅。本专利技术进一步设置为,上述基底包括但不限于5吋、6吋硅片;基底材料包括但不限于单晶和多晶硅片。本专利技术进一步设置为,上述基座网栅或金属网栅的栅线由细栅和代替主栅的焊点或方块电极组成。本专利技术进一步设置为,上述细栅包括直线但不限于直线。本专利技术进一步设置为,细栅的宽度在20微米到1000微米之间,纵向和横向数量在3到150根之间.细栅的高度在10微米到100微米之间。本专利技术进一步设置为,上述焊点的形状包括但不限于正方形,外形尺寸在0.1毫米X0.1毫米到50毫米乘50毫米之间,上述焊点的高度在10微米到300微米之间。本专利技术进一步设置为,焊点在电池片内包括但不限于3X1分布,数量在1到100之间。本专利技术的第二目的在于提供一种网栅异质结太阳能电池的工艺,其 ...
【技术保护点】
网栅异质结太阳能电池, 包括太阳能电池的基座和基底,其特征在于:所述基座和基底之间设有带图形的基座网栅,所述基底的表面选择性沉积有与所述基座网栅形状图形大小一致的薄膜型金属网栅。
【技术特征摘要】
1.网栅异质结太阳能电池,包括太阳能电池的基座和基底,其特征在于:所述基座和基底之间设有带图形的基座网栅,所述基底的表面选择性沉积有与所述基座网栅形状图形大小一致的薄膜型金属网栅。2.根据权利要求1所述的网栅异质结太阳能电池,其特征在于:所述基底包括但不限于5吋、6吋硅片;基底材料包括但不限于单晶和多晶硅片。3.根据权利要求1所述的网栅异质结太阳能电池,其特征在于:所述基座网栅或金属网栅的栅线由细栅和代替主栅的焊点或方块电极组成。4.根据权利要求3所述的网栅异质结太阳能电池,其特征在于:所述细栅包括直线但不限于直线。5.根据权利要求3所述的网栅异质结太阳能电池,其特征在于:细栅的宽度在20微米到1000微米之间,纵向和横向数量在3到150根之间.细栅的高度在10微米到100微米之间。6...
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