【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及用于提取高分辨率图像的光路改变单元、模块和方法,记录用于执行其的程序的记录介质、以及用于检测半导体基板上的图案的装置。
技术介绍
在各种图像相关的应用领域中需要高分辨率图像,且用于获得图像的拍摄装置可应用于各种检测仪器、成像设备、通信设备等。例如,在航空拍摄或卫星拍摄中,需要高分辨率图像以详细地显示地貌;在医学领域中,需要高分辨率图像以做出精确的诊断;在与军事目的相关的领域中,需要高分辨率图像以进行目标识别。然而,由于光学设备或图像传感器的物理限制,可获得的图像的最大分辨率基本上是有限的,且由于各种问题,难以利用物理的方法获得高分辨率。针对所述提到的原因,利用信号处理技术代替物理方法从多个低分辨率图像恢复出高分辨率图像的方法已经被研究很长时间。例如,根据韩国专利公开No.2013-0047326,通过在偏移图像传感器的同时捕获图像而获得多个低分辨率图像,然后通过融合获得的低分辨率图像输出最终的图像。然而,在此相关的技术中,存在需要用于移动图像传感器的额外空间的问题,因此在空间利用率方面是不可取的。
技术实现思路
本专利技术的目的旨在提出能够通过简单方便 ...
【技术保护点】
一种用于提取高分辨率图像的光路改变单元,其中,光源发出的光经过固定物体入射到图像传感器上,其中光路改变单元允许图像传感器基于入射光获取具有第一分辨率的第一图像,并且其中基于第一图像提取具有第二分辨率的第二图像,其中第二分辨率高于第一分辨率,所述光路改变单元包括:主体部;以及可移动地连接至所述主体部的光路改变部,所述光路改变部的移动允许所述图像传感器获取多个不同的第一图像,所述多个不同的第一图像用于提取所述第二图像,其中,通过所述光路改变部的移动,入射到所述图像传感器上的光路被移动小于所述图像传感器的单元像素的距离,以及其中,根据所述光路改变部的移动,所述固定物体被偏移地成像 ...
【技术特征摘要】
2015.07.27 KR 10-2015-0105691;2015.07.27 KR 10-2011.一种用于提取高分辨率图像的光路改变单元,其中,光源发出的光经过固定物体入射到图像传感器上,其中光路改变单元允许图像传感器基于入射光获取具有第一分辨率的第一图像,并且其中基于第一图像提取具有第二分辨率的第二图像,其中第二分辨率高于第一分辨率,所述光路改变单元包括:主体部;以及可移动地连接至所述主体部的光路改变部,所述光路改变部的移动允许所述图像传感器获取多个不同的第一图像,所述多个不同的第一图像用于提取所述第二图像,其中,通过所述光路改变部的移动,入射到所述图像传感器上的光路被移动小于所述图像传感器的单元像素的距离,以及其中,根据所述光路改变部的移动,所述固定物体被偏移地成像在所述图像传感器的成像表面上。2.根据权利要求1所述的光路改变单元,其中,所述光路改变部将入射到所述图像传感器上的光路移动与假设单元像素的尺寸对应的单元间距的M(M为自然数)倍,其中,所述单元像素被平均分成N×N(N为自然数)份。3.根据权利要求1所述的光路改变单元,其中,通过基于第一轴在第一方向上的旋转运动,所述光路改变部将入射到所述图像传感器上的光路在水平方向上移动与假设单元像素的尺寸对应的单元间距的一倍,其中,所述单元像素被平均分成N×N(N为自然数)份,其中,通过基于与所述第一轴垂直的第二轴在第二方向上的旋转运动,所述光路改变部将入射到所述图像传感器上的光路在竖直方向上移动与假设单元像素的尺寸对应的单元间距的一倍,其中,所述单元像素被平均分成N×N(N为自然数)份,其中根据N的值调整基于第一轴在第一方向上的旋转运动的次数和基于第二轴在第二方向上的旋转运动的次数。4.根据权利要求1所述的光路改变单元,其中,所述光路改变部使得所述物体能够在水平方向、竖直方向及所述水平方向和所述竖直方向之间的对角线方向中的至少一个方向上偏移地成像在所述成像表面上。5.根据权利要求4所述的光路改变单元,其中,所述光路改变部通过第一方向上的旋转运动使所述物体能够在所述水平方向上偏移地成像,通过第二方向上的旋转运动使所述物体能够在所述竖直方向上偏移地成像,通过第一方向上的旋转运动和第二方向上的旋转运动使所述物体能够在所述对角线方向上偏移地成像。6.根据权利要求1所述的光路改变单元,其中,所述光路改变部保持入射到所述图像传感器上的光路与由所述光源发出的光入射的入射光的光路平行。7.根据权利要求1所述的光路改变单元,其中,根据所述光路改变部基于所述主体部的移动程度和所述光路改变部的折射率及厚度中的至少一个确定入射到所述图像传感器上的光路。8.根据权利要求1所述的光路改变单元,其中,所述光路改变部与所述主体部连接,以基于第一侧端面在第一方向上旋转且基于与所述第一侧端面相邻的第二侧端面...
【专利技术属性】
技术研发人员:睦翰尚,崔学范,
申请(专利权)人:恩逼真股份有限公司,
类型:发明
国别省市:韩国;KR
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