无碱玻璃基板的制造方法技术

一种无碱玻璃基板的制造方法，其特征在于，该无碱玻璃基板是配合熔化并成形玻璃原料的无碱玻璃基板，该无碱玻璃基板的制造方法的特征在于：使所述无碱玻璃基板含有ＳｎＯ↓［２］和／或Ｓｂ↓［２］Ｏ↓［３］作为澄清剂，并且将玻璃的β－ＯＨ值调节在０．４８５～０．６５／ｍｍ。按质量百分比含有ＳｉＯ↓［２］５０％～７０％、Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］１０％～２５％、Ｂ↓［２］Ｏ↓［３］５％～２０％、ＭｇＯ０％～１０％、ＣａＯ０％～１５％、ＢａＯ０％～１０％、ＳｒＯ０％～１０％、ＺｎＯ０％～５％，含有ＳｎＯ↓［２］和／或Ｓｂ↓［２］Ｏ↓［３］，同时，β－ＯＨ值在０．４８５／ｍｍ以上。

Method for producing alkali free glass substrate

A method for manufacturing alkali free glass substrate, which is characterized in that the alkali free glass substrate is non alkali glass substrate with the melting and forming of glass raw materials, manufacturing method is characterized in that the alkali free glass substrate: the alkali free glass substrate containing SnO: 2 and / or Sb: 2 O: 3 as a clarifying agent, and a glass of beta OH adjustment in 0.485 ~ 0.65 / mm. According to the mass percentage of SiO containing 2 ~ 70%: 50%, Al: 2 O: 3, B: 10% ~ 25% - 2 O: 3 5% ~ 20%, MgO0% ~ 10%, CaO0% ~ 15%, BaO0% ~ 10%, SrO0% ~ 10%, ZnO0% ~ 5%, SnO contains: 2 and / or Sb: 2 O: 3, at the same time, the OH value in the 0.485 beta / mm.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，特别涉及可用作显示器等 的透明玻璃基板的。
技术介绍
以往，作为液晶显示器等的透明玻璃基板，使用无碱玻璃。在用于显 示器用途的无碱玻璃中，除耐热性、耐药剂性等特性外，要求无成为表面 缺陷的泡。作为如此的无碱玻璃，以往提出了多种玻璃，例如在特开平6—263473 号公报、特表2001 — 500098号公报中，公开了铝硅酸盐系的无碱玻璃。为得到无泡的玻璃，利用澄清气体，从玻璃熔液中驱逐玻璃反应时产 生的气体，另外在均质化熔化时，需要再次利用产生的澄清气体，增大泡 层径，使其上浮，由此去除残余的微小泡。可是，用作液晶显示器用玻璃基板的无碱玻璃，玻璃熔液的粘度高， 与含有碱成分的玻璃相比，可用更高温度熔化。在此种的无碱玻璃基板中， 通常在1300 1500'C引起玻璃化反应，在1500'C以上的高温下进行脱泡、 均质化。因此，在澄清剂中，广泛使用能够在宽的温度范围(1300 1700。C范围)产生澄清气体的AS203。但是，AS203的毒性非常强，在玻璃的制造工序或废玻璃的处理时， 有可能污染环境，其使用正受到限制。
技术实现思路
本专利技术的目的是，提供一种作为澄清剂即使不使用八8203，也不存在 成为表面缺陷的泡的。本专利技术者等，进行了多种实验，结果发现，作为澄清剂，使用Sb203或Sn02，另外，通过将玻璃中的水分量调节到一定值以上，能够达到上述目的。艮口，本专利技术的配合熔化并成形玻璃原料的中，使所述无碱玻璃基板含有Sn02和/或Sb203作为澄清剂，并且将玻璃的 e —OH值调节在0.485 0.65/mm。优选，将玻璃的e—OH值调节在0.5 0.65/mm。优选，配合玻璃原料，以形成按质量百分比含有Si02 50% 70%、 A1203 10% 25%、 B2O35% 20%、 MgO0% 10%、 CaO0% 15%、 BaO 0% 10%、 SrO0% 10%、 ZnO0。/。 5。/。的玻璃。优选，调节八8203含量使其在0.4质量％以下。优选，调节SnO2含量使在0.057。 l质量n/。。优选，调节51)203含量使在0.05% 3质量°/。。优选，调节残留在玻璃中的氯成分含有量，将其换算成Cl2时在0.1质 量％以下。优选，成形为面积在0.5n^以上的基板。优选，该是液晶显示器的透明玻璃基板的制 造方法。优选，利用溢流顺流法进行成形。本专利技术的无碱玻璃基板，由于既不含AS203，也无成为表面缺陷的泡，因此正好适合作为显示器用透明玻璃基板。特别是，如果是大型的基板， 由于能够提高良品率，更非常有利。通过提高e —OH值可以减少B203量，从而可以改善化学耐久性。具体实施方式在特表2001 — 500098号公报中，公开了通过将e —OH值设定在低于 0.5 / mm，优选低于0.45 / mm，能够防止从铂界面产生的泡的方法。但是， 在特表2001—500098号公报中，完全没有考虑去除熔化初期(即，玻璃化反应时等)产生的泡，即所谓的澄清性改进。另夕卜，特表2001 — 500098号 公报中公开的P —OH值的水平，是在通常的熔化条件下得到的水分量。 换句话讲，与以往的无碱玻璃具有的e—OH值相同。值得惊奇的是，弄清了通过将P—OH值设定在一定值以上，能提高 澄清性。即，在本专利技术中，能够以在通常的熔化条件下难得到高水准，调 整玻璃中的水分量。由此，可以补充在作为AS203的代用澄清剂，采用Sn02 或Sb203时的澄清不足。玻璃中的水分，由于具有降低玻璃粘度的作用， 因此通过大量含有，能够易于熔化、澄清。此外，其自身也作为一种澄清 气体，在泡中扩散，具有容易增大泡径，使其上浮的作用。如果详细讲，与AS203相比，由于Sb203的澄清气体的产生温度区低， 所以如果采用Sb203，有在高温区(均质熔化温度区等)澄清气体不足的倾向。因此，在本专利技术中，在玻璃中含有大量的水分。如果大量存在水分， 由于在该温度区，以澄清气体向泡中扩散水分，由此能够补充澄清气体量的不足。此外，与AS203相比，由于Sn02的澄清气体的产生温度区高，所 以如果采用Sn02，有在低温区(均质熔化温度区等)澄清气体不足的倾向。 但是，大量的水分的存在降低玻璃的粘度，易于在低温区熔化，结果能够 提高澄清性。玻璃中的水分量，按3—OH值表示，在0.485 /mm以上，优选P — OH值在0.5/mm以上，最优选0.51 / mm以上。玻璃中的水分量越高，越 降低玻璃的粘度，此外，由于增加水分向泡中的扩散量，所以能够改善澄清性。从熔化性改善的角度考虑，P—OH值越高越好，但是，另一面，有 越高越降低变形点的倾向。从此方面的情况考虑，e—OH值的上限优选 在0.65/mm以下，更优选在0.6 / mm以下。另外，表示玻璃中的水分量的e—oH值，可以采用以下的公式求出。P—OH = (1/X) loglO (T,/丁2) X:玻璃厚度(mm)T1:在参照波长3846cm—1 (2600nm)的透过率(％)T2:在羟基吸收波长3600cm—1 (2800nm)附近的最小透过率(％)此外，本专利技术的玻璃基板，优选铝硅酸盐系玻璃，更具体地，作为基本组成，最好由按质量百分比含有Si02 50% 70%、 A1203 10% 25%、B2O3 5% 20%、 MgO 0% 10%、 CaO 0% 15%、 BaO 0% 10%、 SrO 0% 10%、 ZnO0。/。 5。/。的无碱玻璃构成。另夕卜，在本专利技术中，所谓的"无碱"， 意思是碱金属氧化物(Li20、 Na20、 K20)在0.2质量％以下。 将无碱玻璃基板的组成限定在上述范围的理由，如下 Si02是形成玻璃网格的成分，其含量为50% 70%，优选55% 70%， 更优选55% 65%。如果SiO2小于50y。，耐药剂性恶化，同时降低变形点， 恶化耐热性。如果大于70%，高温粘度增高，恶化熔化性，同时容易析出 方晶石的反玻璃化物(失透物)。八1203是提高玻璃的耐热性、抗反玻璃化性(耐失透性)的成分，其 含量为10% 25%，优选10% 20%，更优选13% 18%。如果^203小于 10%，反玻璃化温度显著升高，在玻璃中容易产生反玻璃化，耐药剂性恶 化，如果大于25%，降低耐酸性，特别是耐缓冲的氟酸性，容易在玻璃基 板表面产生白浊。B203具有作为熔剂的作用，是降低粘性、易于熔化的成分，其含量为 5% 20%，优选5% 15%，更优选8.5% 12%。如果8203小于5%，作为 溶剂的效果不显著。另夕卜，如果8203增多，有降低耐酸性的倾向。特别是 如果大于15%，降低耐盐酸性，同时降低变形点，恶化耐热性。如上所述，B203是影响玻璃的耐酸性的成分，如果降低其含量，能够提高耐酸性。在用于液晶显示器的透明玻璃基板的表面，能成膜金属膜或 ITO膜。膜的图形，由于利用酸的腐蚀形成，所以要求玻璃具有高的耐酸 性。因此，最好降低B203的含量。而且，在PRTR法的指定化学物质中列 举硼(B)，从环境方面考虑，也最好降低B203的使用量。但是，如果单 -地降低8203量，降低熔化性，有泡增加等问题的顾虑。对此，在本专利技术 中，由于将玻璃的e—OH值设定在高水准，所以能够抑本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种无碱玻璃基板的制造方法，该无碱玻璃基板是配合熔化并成形玻璃原料的无碱玻璃基板，该无碱玻璃基板的制造方法的特征在于：使所述无碱玻璃基板含有ＳｎＯ↓［２］和／或Ｓｂ↓［２］Ｏ↓［３］作为澄清剂，并且将玻璃的β－ＯＨ值调节在０．４８５～０．６５／ｍｍ。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：成田利治，高谷辰弥，笘本雅博，
申请(专利权)人：日本电气硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]