【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光栅精密加工技术,特别涉及一种未达到精度要求的中阶梯光栅闪耀角再次精密加工方法。
技术介绍
光栅是一种非常重要并且应用非常广泛的分光元件,广泛应用于光谱仪、光通信技术和光检测技术等科学领域。光栅因其色散精度、分辨率和衍射效率等因素代替棱镜作为新一代光谱仪的色散元件。光栅在地质、水质、生物医学方面产生着越来越重要的影响,同时在航天、天文等高精尖领域的应用广泛性和重要性也得到了越来越多的关注和研究。中阶梯光栅是一种特殊的闪耀衍射光栅,具有很高的衍射级次和很大的衍射角,是高档光谱仪器中的一种重要色散元件,利用其较少的线密度和较大的闪耀角工作在较高的闪耀级次,具有很高的光谱分辨率和色散率,实现全光谱闪耀的目的。在中阶梯光栅光谱仪器中,一般选用面阵CCD作为探测器,由于使用了很高衍射级次光谱的信息,因此中阶梯光栅的闪耀角有微量误差,光谱能量分布在面阵CCD上就会有很明显的偏差,影响探测结果。因此,对中阶梯光栅的闪耀角精度要求很高,对于一般电感耦合等离子体原子发射光谱仪(ICP),闪耀角误差需要控制在±0.1°之内。目前,制作中阶梯光栅有两种常用的方式,刻划和复制。刻划中阶梯光栅时,由于刻刀角度、Al膜弹塑性变形等因素无法保证闪耀角达到要求精度;复制中阶梯光栅时,由于环氧树脂胶的冷却收缩,也无法使闪耀角达到要求精度。为了得到符合要求的中阶梯光栅,在制作完成的中阶梯光栅中,经过检测挑选出符合使用要求的中阶梯光栅,而其余的中阶梯光栅就无法使用,造成很大的浪费,提高了仪器的成本。
技术实现思路
本专利技术是针对中阶梯光栅加工次品率高的问题,提出了一种未达到精 ...
【技术保护点】
一种未达到精度要求的中阶梯光栅闪耀角再次精密加工方法,其特征在于,包括闪耀角偏小和闪耀角偏大两种误差的精密加工,闪耀角偏小精密加工步骤如下:1)、将一块闪耀角偏小的中阶梯光栅放置在旋转平台上,调整旋转平台的角度,使光栅面向离子束,光栅面与离子束呈90°‑θb的角度,θb为设计时要求的闪耀角,并且非闪耀面与离子束平行;2)、打开离子束,开始在闪耀面上进行Al原子沉积,以设计的转动速率转动旋转平台,靠近基底的一端渐渐被下方邻近的闪耀面遮挡,转动速率由沉积速率和中阶梯光栅的槽形参数确定,直到转动旋转平台回到水平面,即光栅面与离子束平行;3)、沉积结束,闪耀角修复完成;闪耀角偏大精密加工步骤与闪耀角偏小精密加工步骤相同,仅是Al原子沉积变为离子束刻蚀即可实现闪耀角修复。
【技术特征摘要】
1.一种未达到精度要求的中阶梯光栅闪耀角再次精密加工方法,其特征在于,包括闪耀角偏小和闪耀角偏大两种误差的精密加工,闪耀角偏小精密加工步骤如下:1)、将一块闪耀角偏小的中阶梯光栅放置在旋转平台上,调整旋转平台的角度,使光栅面向离子束,光栅面与离子束呈90°-θb的角度,θb为设计时要求的闪耀角,并且非闪耀面与离子束平行;2)、打开离子...
【专利技术属性】
技术研发人员:黄元申,范娇娇,盛斌,过军军,张大伟,罗露雯,陈国华,
申请(专利权)人:上海理工大学,
类型:发明
国别省市:上海;31
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