设备、保护片及抗菌膜制造技术

本发明专利技术提供一种设备、保护片及抗菌膜。本发明专利技术的设备在外表面的至少一部分设有亲水加工部，其中，亲水加工部含有亲水性聚合物及含银的抗菌剂，亲水加工部的表面的水接触角为80°以下，从而亲水性及抗菌性优异。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种设备、保护片及抗菌膜，涉及一种在外表面的至少一部分设有亲水加工部的设备、保护片、及至少一部分为亲水性的抗菌膜。
技术介绍
放射线摄像装置，尤其移动式放射线摄像装置(电子盒)或CR(ComputedRadiography：计算机X线摄影)暗盒、乳房X射线摄影装置等多个患者或医疗从事人员所接触的医疗装置，若在装置表面附着有污染物质的状态放置，则细菌有可能繁殖。为了抑制细菌的繁殖，使用乙醇水溶液或次氯酸钠水溶液的消毒药适当地进行消毒，但污染物质固着于表面时等，清洗消毒有可能变得不充分。因此，期待容易抹擦污染物质的技术。例如，专利文献1中公开有在医疗设备或装置的外表面安装有实施了防水加工的缓冲材的技术。根据该技术，具有污染物质难以附着的优点。然而，消毒液的消毒效果是通过消毒液滞留一定时间而得到的，因此如专利文献1中所公开的技术那样，在消毒液不渗透的表面有可能无法得到充分的消毒效果。作为针对这些课题的解决手段，专利文献2中提出有在插入体内的器件的情况下具有亲水性及抗菌性的涂层。专利文献2中公开有通过使含有亲水性聚合物、光引发剂、含金属银(Ag)的粒子、及载体液的调配物进行固化而得到的涂层。并且，专利文献2中所公开的由调配物形成的涂层被赋予润滑性和抗菌活性这两者。专利文献2中，导管等医疗器具的外表面上的涂层在湿润的状态下平滑即润湿时，不会带来损伤，且不会让受试者受到无法承受程度的疼痛，在能够插入到目标的身体部分内时是润滑的。并且，专利文献2中，所谓“润湿”需满足“为了变得润滑而含有相对于(涂层的干燥重量)为10wt％以上的水”。另外，所谓wt％为质量％，表示以质量为基准计所占的比例。另一方面，从易用性的观点考虑，最近具有触摸面板的医疗装置逐渐增加。这些仅由医疗从事人员来操作，但在ICU(IntensiveCareUnit；集中治疗室)等中使用的生物监控器等与很多人接触，容易附着污染物质。作为与不特定多数的人接触的装置，在医院内，如复诊受理机之类的具有触摸面板的KIOSK终端(设置型信息终端)逐渐普及。此外，移动电话、便携终端或汽车的导航系统等很多电子设备中，具有触摸面板的设备也正在普及。这些触摸面板中，除了卫生方面的要求以外，还同时要求作为本来性能的长期可见性。即，要求不易因指纹等而导致视觉辨认度下降、并且不易因划痕等而产生视觉辨认度下降的触摸面板。作为针对这些课题的解决手段，专利文献3中提出有形成有不仅抗菌性优异而且透明性也优异的抗菌膜的透明物品及用于形成抗菌膜的抗菌膜形成溶液。专利文献3中公开有在玻璃基板上形成有含银抗菌膜的带抗菌膜的透明物品，所述含银抗菌膜以硅氧化物为主成分，含有银微粒和/或银离子，还可以含有亲水性聚合物，且具有透明性。并且，专利文献3中所公开的带抗菌膜的透明物品具有透明性、耐磨性、抗菌性优异的特征。并且，专利文献3中所公开的抗菌膜形成溶液能够得到具有上述特征的带抗菌膜的透明物品。专利文献3中所公开的带抗菌膜的透明物品能够用于移动电话等电子设备的显示部或其触摸面板等。以往技术文献专利文献专利文献1：日本特开2012-132703号公报专利文献2：日本特表2010-503737号公报专利文献3：日本特开2008-213206号公报专利技术的概要专利技术要解决的技术课题然而，专利文献1中所记载的技术从消毒的侧面来看，医疗装置表面对消毒液的润湿性较低。即，消毒液被排斥，因此消毒液不容易长时间留在医疗装置的外表面，无法充分得到对细菌类的消毒效果的可能性较高。相反，专利文献2中所记载的技术是以插入到体内的医疗器具为对象，因此为了维持湿润时的平滑性，需要能够含有10wt％以上的水分等接近水凝胶的特性，不适合作为人通常接触、操作的表面。并且，专利文献3中所记载的技术中，基本上利用溶胶-凝胶法在透明玻璃基板上形成以硅氧化物为主成分的含银的抗菌无机膜，虽然公开了可以加入亲水性聚合物的内容，但并不是形成含银的抗菌有机膜，因此无法适用于医疗装置表面。另外，已知如置于医院环境或公共场所的装置那样，对不特定多数的人所接触的表面进行抗菌加工，但人连续不断地交替接触时，若抗菌效果较低，则带菌者之后所接触的人会有细菌被附着，有可能无法得到抗菌加工的预想效果。但是，若仅单纯追求抗菌效果，则使消毒药等以高浓度存在于表面即可，但较强的消毒药一方面有可能对所接触的人产生斑疹、炎症等危害。因此，要求对生物体安全且更高效的抗菌效果。本专利技术是为了解决上述课题而完成的，其目的在于提供一种亲水性及抗菌性优异的设备、保护片及抗菌膜。用于解决技术课题的手段为了实现上述目的，本专利技术的第1方式的设备为在外表面的至少一部分设有亲水加工部的设备，所述设备的特征在于，亲水加工部含有亲水性聚合物及含银的抗菌剂，亲水加工部的表面的水接触角为80°以下。在此，优选设备为触摸面板，亲水加工部设置于由利用者接触的外表面。此时，由人的手指等的接触所产生的指纹等不太显眼，能够期待不阻碍视觉辨认度。并且，为了实现上述目，本专利技术的第2方式的保护片为在外表面的至少一部分设有亲水加工部的保护片，其特征在于，亲水加工部含有亲水性聚合物及含银的抗菌剂，亲水加工部的表面的水接触角为80°以下。在此，优选在保护片的与外表面相反侧的表面还具有粘结层。并且，为了实现上述目的，本专利技术的第3方式的抗菌膜为至少一部分为亲水性的抗菌膜，其特征在于，显出亲水性的亲水性部含有亲水性聚合物及含银的抗菌剂，亲水性部的表面的水接触角为80°以下。本专利技术的第1、第2及第3方式中，优选亲水加工部或亲水性部的表面的水接触角为60°以下，且亲水加工部或亲水性部的水的吸收率低于10wt％。并且，优选通过以下的提取试验测定的亲水加工部或亲水性部的每单位面积的银离子量为15ng/cm2以上。提取条件：将JISZ2801：2010中所规定的1/500普通肉汤培养基用作提取液，将提取液的温度控制为35±1℃，使亲水加工部(或亲水性部)的表面与提取液接触1小时，并测定被提取至提取液中的银离子量，将所得到的值除以亲水加工部(或亲水性部)的表面与提取液的接触面积而得到每单位面积的银离子量。银离子量的单位为ng，接触面积的单位为cm2，每单位面积的银离子量的单位为ng/cm2。并且，优选亲水加工部或亲水性部的表面的水接触角为30°以下。本专利技术的第1、第2及第3方式中，对需要清洗消毒的设备、例如医疗装置表面的至少一部分进行亲水加工，或者对安装于或贴附于电子设备等的显示部的触摸面板等的表面的保护片表面的至少一部分进行亲水加工，或者将抗菌膜的至少一部分设为亲水性，由此使与水的接触角充分低至80°以下，优选设为60°以下，更优选设为30°以下，从而作为亲水性的效果，通常用含有乙醇水溶液等消毒液的湿布或浸渍了消毒液的揩抹器或流水清洗表面时，消毒液或水分进入污染物质与亲水加工表面或具有亲水性的表面之间，从而与非亲水加工面或非亲水性面相比时，更容易去除污染物质，能够进一步降低污染物质的残留风险。并且，清洗后用乙醇水溶液、次氯酸钠水溶液等消毒液进行消毒时，也由于表面的润湿性较高，因此消毒液充分润湿，消毒液长时间作用于残留于表面的细菌，由此能够期待确保充分的消毒效果。并且，本专利技术的第1、第2及第3方式中，通过兼具亲本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种设备，其在外表面的至少一部分设有亲水加工部，所述设备的特征在于，所述亲水加工部含有亲水性聚合物及含银的抗菌剂，所述亲水加工部的表面的水接触角为80°以下。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.05.22 JP 2014-106433;2014.07.15 JP 2014-145451.一种设备，其在外表面的至少一部分设有亲水加工部，所述设备的特征在于，所述亲水加工部含有亲水性聚合物及含银的抗菌剂，所述亲水加工部的表面的水接触角为80°以下。2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述亲水加工部的表面的水接触角为60°以下，且所述亲水加工部的水的吸收率低于10wt％。3.根据权利要求1或2所述的设备，其中，通过以下的提取试验测定的所述亲水加工部的每单位面积的银离子量为15ng/cm2以上；提取条件：将JISZ2801：2010中所规定的1/500普通肉汤培养基用作提取液，将该提取液的温度控制为35±1℃，使所述亲水加工部的表面与所述提取液接触1小时，并测定被提取至所述提取液中的银离子量，将所得到的值除以所述亲水加工部的表面与所述提取液的接触面积而得到每单位面积的银离子量；所述银离子量的单位为ng，所述接触面积的单位为cm2，所述每单位面积的银离子量的单位为ng/cm2。4.根据权利要求1至3中任一项所述的设备，其中，所述亲水加工部的表面的水接触角为30°以下。5.根据权利要求1至4中任一项所述的设备，其中，所述亲水加工部是使用涂布剂而形成的，所述涂布剂至少含有具有亲水性基团及2个以上的(甲基)丙烯酸基的聚合性化合物、交联剂、聚合引发剂及所述抗菌剂。6.根据权利要求5所述的设备，其中，所述亲水性基团为聚氧乙烯基。7.根据权利要求1至6中任一项所述的设备，其中，所述亲水加工部的平均厚度为1～10μm。8.根据权利要求1至7中任一项所述的设备，其中，所述抗菌剂的含量相对于所述亲水加工部总质量为0.001～10wt％。9.根据权利要求1至8中任一项所述的设备，其中，所述抗菌剂至少含有载银陶瓷粒子或银粒子、或者该两者。10.根据权利要求1至9中任一项所述的设备，其中，所述亲水加工部还含有至少1种含金属氧化物的光催化性材料。11.根据权利要求10所述的设备，其中，所述金属氧化物含有选自由Zn、Ti、Ni、W、Cu、Sn、Fe、Sr及Bi构成的组中的至少1种金属原子。12.根据权利要求10或11所述的设备，其中，所述亲水加工部的平均厚度T相对于所述光催化性材料的平均粒径Da之比为300以下；另外，上述比表示T/Da，当含有多种所述光催化性材料时，所述Da是指其平均粒径最小的光催化性材料的平均粒径。13.根据权利要求10至12中任一项所述的设备，其中，含银的抗菌剂的质量相对于所述光催化性材料的质量的质量比为0.3～3.0；另外，所述质量比表示含银的抗菌剂的质量/光催化性材料的质量。14.根据权利要求1至13中任一项所述的设备，其中，所述亲水加工部的表面的水接触角为15°以下。15.根据权利要求1至14中任一项所述的设备，其中，所述设备为触摸面板，所述亲水加工部设置于由利用者接触的所述外表面。16.一种保护片，其在外表面的至少一部分设有亲水加工部，所述保护片的特征在于，所述亲水加工部含有亲水性聚合物及含银的抗菌剂，所述亲水加工部的表面的水接触角为80°以下。17.根据权利要求16所述的保护片，其中，所述亲水加工部的表面的水接触角为60°以下，且所述亲水加工部的水的吸收率低于10wt％。18.根据权利要求16或17所述的保护片，其中，通过以下的提取试验测定的所述亲水加工部的每单位面积的银离子量为15ng/cm2以上；提取条件：将JISZ2801：2010中所规定的1/500普通肉汤培养基用作提取液，将该提取液的温度控制为35±1℃，使所述亲水加工部的表面与所述提取液接触1小时，并测定被提取至所述提取液中的银离子量，将所得到的值除以所述亲水加工部的表面与所述提取液的接触面积而得到每单位面积的银离子量；所述银离子量的单位为ng，所述接触面积的单位为cm2，所述每单位面积的银离子量的单位为ng/cm2。19.根据权利要求16至18中任一项所述的保护片，其中，所述亲水加工部的表面的水接触角为30°以下。20.根据权利要求16至19中任一项所述的保护片，其中，所述亲水加工部是使用涂布剂而形成的，所述涂布剂至少含有具有亲水性基团及2个以上的(甲基...

【专利技术属性】
技术研发人员：成行书史，柴田路宏，永崎秀雄，大前德宏，白土节子，滨野光正，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP