掩模组件、用于制造显示设备的装置和方法制造方法及图纸

提供了一种掩模组件、用于制造显示设备的装置和方法。掩模组件包括：掩模，该掩模包括具有图案的开口；以及自组装单层膜(SAM)，涂敷在掩模的至少一部分上。

【技术实现步骤摘要】
相关申请的交叉引用本申请要求于2014年10月17日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请号10-2014-0141193的权益，通过引用将其全部公开内容结合于此。
一个或多个示例性实施方式涉及一种掩模组件、用于制造显示设备的装置以及制造显示设备的方法。
技术介绍
便携式电子设备的用途已显著增加。便携式电子设备的实例可包括小型电子设备，诸如移动电话和平板PC。此种便携式电子设备可包括为用户提供视觉信息(例如，图像)并且支持各种功能的显示设备。由于用于驱动显示设备的部件的大小的减小，显示设备在电子设备中变得更加重要。另外，可从平坦状态(例如以预定角度)弯曲的显示设备已被考虑。
技术实现思路
一个或多个示例性实施方式包括掩模组件、通过使用该掩模组件用于制造显示设备的装置以及通过使用该掩模组件制造显示设备的方法。将在以下的描述中部分地阐述额外方面，并且额外方面的一部分将通过描述而变得显而易见或者可通过所提出的示例性实施方式的实践来获悉。根据本专利技术的一个方面，提供了一种掩模组件，包括：掩模，该掩模包括具有图案的开口；以及自组装单层膜(SAM)，涂敷在掩模的至少一部分上。SAM可包括：接触掩模的头端、连接至头端的连接器以及连接至连接器的末端。头端可以是亲水的并且末端可以是疏水的。SAM可包括十八烷基三氯硅烷(OTS)、含氟三氯硅烷(FOTS)和二氯二甲基硅烷(DDMS)中的至少一种。SAM可被涂覆在开口的各处。SAM可被涂敷在掩模的面向沉积源的表面上。根据本专利技术的另一方面，提供了一种用于制造显示设备的装置，该装置包括：腔室；沉积源，设置在腔室内以容纳和发射沉积材料；掩模，与沉积源分离并且包括用来在基板上形成图案的开口，其中，自组装单层膜(SAM)被涂敷在掩模的至少一部分上。SAM可包括：接触掩模的头端、连接至该头端的连接器以及连接至连接器的末端。头端可以是亲水的并且末端可以是疏水的。SAM可包括十八烷基三氯硅烷(OTS)、含氟三氯硅烷(FOTS)和二氯二甲基硅烷(DDMS)中的至少一种。SAM可被涂覆在开口的各处。SAM可被涂敷在掩模的面向沉积源的表面上。根据本专利技术的又一方面，提供了一种制造显示设备的方法，该方法包括：设置包括沉积源的腔室，沉积源在内部容纳沉积材料；将基板和掩模插入到腔室中，该掩模介于沉积源与基板之间并且包括开口；将基板和掩模对准；并且通过加热沉积源将沉积材料经由掩模中的开口沉积在基板上，其中，自组装单层膜(SAM)被涂敷在掩模的至少一部分上。SAM可包括接触掩模的头端、连接至该头端的连接器以及连接至连接器的末端。头端可以是亲水的并且末端可以是疏水的。SAM可包括十八烷基三氯硅烷(OTS)、含氟三氯硅烷(FOTS)和二氯二甲基硅烷(DDMS)中的至少一种。SAM可被涂覆在开口各处。SAM可被涂敷在掩模的面向沉积源的表面上。通过使用系统、方法、计算机程序或者系统、方法和计算机程序的组合可以实现这些一般和特定的实施方式。附图说明当结合附图考虑时，通过参考以下详细说明，随着本专利技术变得更好理解，本专利技术的更完整的理解及其许多附带优点将易于显而易见，在附图中，相同参考符号表示相同或者相似的部件，其中：图1是根据示例性实施方式的用于制造显示设备的装置的概念图；图2A、图2B和图2C是图1的掩模组件的概念图；图3是图2B的部分A的放大图；以及图4是通过使用图1的装置制造的显示设备的一部分的截面图。具体实施方式现将详细参考示例性实施方式，示例性实施方式的实例在附图中示出，其中，贯穿全文，相同参考标号指代相同元件。就此而言，本示例性实施方式可具有不同的形式并且不应被解释为局限于本文所阐述的描述。相应地，在以下通过参照附图仅描述示例性实施方式，以说明本描述的各个方面。如本文中所使用的，术语“和/或”包括相关列出项中的一个或多个的任何与全部组合。诸如“……中的至少一个”的表述在一系列元件之前时，其修饰整个系列的元件，而不是修饰系列中的个别元件。由于本专利技术构思容许各种改变和许多实施方式，具体实施方式将在附图中示出并且在书面说明中进行详细地描述。参考以下对照附图详细描述的示例性实施方式，本专利技术构思的效果和特征以及实现该效果和特征的方法将清晰可见。然而，本专利技术构思可以各种形式来体现并且不应被解释为局限于示例性实施方式。在下文中，将参照附图详细描述本专利技术构思的示例性实施方式。附图中相同参考标号表示相同元件，并且因此将不重复对它们的描述。应当理解的是，尽管本文中可使用术语“第一”、“第二”等来描述各种部件，但是这些部件不应受这些术语的限制。这些部件仅用于区分一个部件与另一个部件。除非上下文另有明确说明，否则如本文中使用的，单数形式“一(a)”、“一个(an)”和“该(the)”旨在也包括复数形式。应当进一步理解的是，本文中使用的术语“包括”和/或“包含”指定存在所陈述的特征或部件，但是不排除存在或者添加一个或多个其他特征或部件。应当理解的是，当层、区域或部件相对另一层、区域或部件被称为“形成在其上”时，其可以直接或间接地形成在另一层、区域或部件之上。即，例如，可存在中间层、中间区域或中间部件。为了便于说明，可放大附图中部件的大小。换言之，因为附图中的部件的大小和厚度为了说明的方便而任意示出，所以以下实施方式不限于此。在以下实例中，x轴、y轴和z轴不局限于直角坐标系的三个轴，并且可以在更广泛的意义上进行解释。例如，x轴、y轴和z轴可以彼此垂直，或者可以代表不彼此垂直的不同方向。当某些实施方式可被不同地实现时，可以与描述的次序不同地执行特定工序次序。例如，可以基本上同时执行或者以与所描述的次序相反的次序执行两个连续描述的工序。现在转至图1至图2C，图1是根据示例性实施方式的用于制造显示设备的装置100的概念图，图2A、图2B和图2C是图1的掩模组件130的概念图，以及图3是图2B的部分A的放大图。参照图1至图3，用于制造显示设备的装置100可包括腔室110、沉积源120、掩模组件130、基板固定单元140、掩模支撑单元150以及抽吸单元160。掩模组件130和基板210会被插入腔室110的内部区域并且布置在腔室110的内部区域内。因此，除了经由闸门阀111连接至外部的一部分外，腔室110的内部区域会从外部完全阻挡。沉积源120可以蒸发沉积材料并且本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩模组件，包括：掩模，包括开口；以及自组装单层膜，涂敷在所述掩模的至少一部分上。

【技术特征摘要】
2014.10.17 KR 10-2014-01411931.一种掩模组件，包括：
掩模，包括开口；以及
自组装单层膜，涂敷在所述掩模的至少一部分上。
2.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述自组装单层膜包括：
头端，接触所述掩模；
连接器，连接至所述头端；以及
末端，连接至所述连接器。
3.根据权利要求2所述的掩模组件，其中，所述头端是亲水的。
4.根据权利要求2所述的掩模组件，其中，所述末端是疏水的。
5.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述自组装单层膜包括选
自于由以下各项组成的组中的至少一种材料：十八烷基三氯硅烷、
含氟三氯硅烷和二氯二甲基硅烷。
6.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述自组装单层膜被涂覆
在所述开口的内表面的各处。
7.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述自组装单层膜被涂敷
在所述掩模的面向沉积源的表面上。
8.一种用于制造显示设备的装置，所述装置包括：
腔室；
沉积源，设置在所述腔室内以容纳和发射沉积材料；
掩模，与所述沉积源分离并且包括用来在基板上形成图案的开
口，
其中，自组装单层膜被涂敷在所述掩模的至少一部分上。
9.根据权利要求8所述的装置，其中，所述自组装单层膜包括：
头端，接触所述掩模；
连接器，连接至所述头端；以及
末端，连接至所述连接器。
10.根据权利要求9所述的装置，其中，所述头端是亲水的并且所述末
端是疏水的。
11.根据权利要求8所述的装置，其中，所述自组装单层膜包括...

【专利技术属性】
技术研发人员：金在植，成宇镛，李德重，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR