中空光波导的制备工艺制造技术

本发明专利技术是一种中空介质膜金属光波导的制备工艺，包括芯基的拉制及表面处理，介质膜及金属膜的真空蒸涂、金属外壳的电镀、芯基的腐蚀去除等步骤，制得的中空光波导内层为介质膜，中间层为金属膜，外壳为金属镀层。本制备工艺采用表面光洁度高的玻璃管作为芯基，介质膜对传输的光波具有高折射率从而能增加其反射率，而金属外壳有一定厚度使其具有一定的机械强度，因此，光波导的内壁表面具有高光学质量，光传输损耗低，波导不易损坏，使用寿命长。（*该技术在2015年保护过期，可自由使用*）

Process for preparing hollow optical waveguide

The present invention relates to a hollow metal waveguide dielectric film preparation process, drawing and surface treatment including core base, dielectric film and metal film vacuum evaporation coating, metal plating and core base etching steps, hollow waveguide layer prepared for dielectric film, the middle layer is a metal film the shell is a metal coating. The preparation process of the high surface roughness of glass tube as the core base, the light transmission of dielectric film with high refractive index which can increase its reflectivity, and the metal shell with a certain thickness which has certain mechanical strength, therefore, with high optical quality of inner surface of the optical waveguide, optical waveguide transmission loss is low, is not easy to damage, long service life.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种中空光波导的制备工艺，特别是一种中空介质膜金属光波导制备工艺。现有的中空介质膜金属光波导制备工艺为先在芯基外壁镀一层介质膜(如锗)，再镀一层金属膜(如银)，然后电镀一层金属外壳(如镍)，最后腐蚀除去芯基，则得到包括介质膜、金属膜和金属外壳的中空介质膜金属光波导，这种光波导的内壁表面的光学质量取决于芯基外壁表面的光学质量，而目前所采用的芯基材料通常为空心铝基，由于金属铝的硬度小，难以加工成高光学质量的表面，因此，所制成的光波导的内壁光学质量不理想，使用时光输损耗较大。本专利技术的目的是通过采用玻璃管作芯基制备中空介质膜金属光波导来提高光波导内壁表面的光学质量，降低光传输损耗。本专利技术的制备工艺包括芯基的制备、介质膜的真空蒸涂、金属膜的真空蒸涂、外壳金属的电镀和芯基的腐蚀去除等步骤，具体地(1)采用玻璃管作为芯基材料，经拉制成外径为0.3～1.5mm，长度为100～500mm，表面光洁度为8～10的细玻璃管作为制备中空光波导的芯基；(2)在芯基外壁表面真空蒸涂介质膜，膜厚为1000～5000；(3)在介质膜上真空蒸涂金属膜，膜厚1000～2000，膜材料本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种中空光波导制备工艺，包括芯基的制备、介质膜的真空蒸涂、金属膜的真空蒸涂、外壳金属的电镀和芯基的腐蚀去除等步骤，其特征是：（１）采用玻璃管作为芯基材料，经拉制成外径为０．３～１．５ｍｍ，长度为１００～５００ｍｍ、表面光洁度为＊８～＊１ ０的细玻璃管作为制备中空光波导的芯基；（２）在芯基外壁真空蒸涂介质膜，膜厚为１０００～５０００＊；（３）在介质膜上真空蒸涂金属膜，膜材料为反光性能好的金属银或金，膜厚１０００～２０００＊；（４）在金属膜上电镀金属铜或镍作为中空光 波导的外壳，镀层厚度为０．１～０．２ｍｍ；（５）芯基的去除，用浓度为２０％的氢氟酸腐蚀玻璃芯基１０～２０...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吕刚宁，周建英，李振先，
申请(专利权)人：中山大学，
类型：发明
国别省市：81[中国|广州]