【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光阳极修饰
,特别涉及一种光电响应型碳量子点修饰氧化锌光阳极的制备方法。
技术介绍
ZnO是一种新型的II-VI族直接带隙宽禁带化合物半导体材料,发展前景十分广阔,长期以来,对ZnO薄膜的研究主要集中在压电性、透明导电性、光电性、气敏性、压敏性等方面。ZnO作为一种直接带隙宽禁带半导体材料,ZnO最具潜力的应用是在光电器件领域。不同应用的ZnO薄膜对其结晶取向、粗糙度、压电性、光学性能等有不同的要求,这些差异是由不同的制备技术及其工艺参数所决定的。近年来,许多先进的沉积和生长技术被用于ZnO薄膜的制备,如磁控溅射、分子束外延、脉冲激光沉积、喷雾热解、溶胶一凝胶、金属有机化学气相沉积、电化学等方法。最近几年来,人们对采用电化学沉积法制备ZnO薄膜的技术产生了浓厚的兴趣。由于该方法操作简单、成本低廉、膜厚和形貌可控(仅调节电化学操作参数),且适合形状复杂基底,并具有相对较高的沉积速率,所以一经提出便受到了广泛的重视。由于半导体材料ZnO只能吸收光子能量大于其带隙的紫外光,导致其为光阳极的染料敏化太阳能电池光电转换效率偏低。对半导体进行元素掺杂能有效改变材料的光学和电子性质,掺杂是一种改变半导体特性非常有效的手段。In掺杂ZnO能有效提高ZnO光阳极电池的光捕获强度,尤其在可见光区内的IPCE明显提高,同时In的掺杂降低电子复合电阻,延长电子寿命,提高电池效率。HanhongChen等人米用金属有机气相沉积法制备Ga掺杂的ZnO(GZO)薄膜,Ga的掺杂成功的提高了材料的单色光光电转换效率,530nm的单色光转化效率达到79%,然而,GZO ...
【技术保护点】
一种光电响应型碳量子点修饰氧化锌光阳极的制备方法,其特征在于,采用常温下浸泡的方法,使电沉积的ZnO膜吸附碳量子点溶液,提高其光电性能,其特征在于,包括以下步骤:步骤1)电沉积ZnO薄膜的工作电极极可以采用掺杂氟的二氧化锡导电玻璃(FTO),对电极为铂棒,参比电极为Ag/AgCl电极,以硝酸锌的水溶液为电解液,施加电压,电沉积ZnO薄膜。步骤2)水热合成碳量子点采用柠檬酸铵和乙二胺在去离子水中搅拌均匀置于反应釜中,在200℃下反应5h,过滤后透析,干燥。步骤3)将沉积ZnO膜的导电玻璃浸泡在碳量子点水溶液中,吸附一段时间后,经过热处理,得到复合碳量子点的ZnO膜。
【技术特征摘要】
1.一种光电响应型碳量子点修饰氧化锌光阳极的制备方法,其特征在于,采用常温下浸泡的方法,使电沉积的ZnO膜吸附碳量子点溶液,提高其光电性能,其特征在于,包括以下步骤:步骤1)电沉积ZnO薄膜的工作电极极可以采用掺杂氟的二氧化锡导电玻璃(FTO),对电极为铂棒,参比电极为Ag/AgCl电极,以硝酸锌的水溶液为电解液,施加电压,电沉积ZnO薄膜。步骤2)水热合成碳量子点采用柠檬酸铵和乙二胺在去离子水中搅拌均匀置于反应釜中,在200℃下反应5h,过滤后透析,干燥。步骤3)将沉积ZnO膜的导电...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘长海,仇阳阳,王芳,陈智栋,
申请(专利权)人:常州大学,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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