一种TFT液晶玻璃基板维氏硬度的测定方法技术

本发明专利技术公开了一种TFT液晶玻璃基板维氏硬度的测定方法，其中，该测定方法包括以下步骤：a、将TFT液晶玻璃基板裁剪为边长为10mm‑25mm的方形玻璃片；b、用维氏硬度计对步骤a得到的玻璃片进行多次维氏硬度测量，测量次数用n代表，得到表面带有n个压痕的玻璃片；c、对步骤b得到的玻璃片表面的n个压痕涂覆导电膜，得到在压痕处表面覆盖有导电膜的玻璃片；d、用电子显微镜观测步骤c得到的玻璃片中n个压痕中每个压痕的两条对角线的长度，通过对角线长度计算玻璃基板的维氏硬度。本公开的方法能够准确测量液晶玻璃基板的维氏硬度。

Method for measuring Vivtorinox hardness of TFT liquid crystal glass substrate

The invention discloses a method for the determination of TFT, a Vivtorinox LCD glass substrate hardness wherein the method comprises the following steps: A, TFT LCD glass substrate for cutting edge of square glass 10mm 25mm; B, many Vivtorinox hardness measurements on glass obtained in step a with Vivtorinox hardness measurement. The number of N representatives get glass with n indentation surface; C, on the surface of the glass sheet obtained in step B N indentation coated conductive film, the indentation surface covered with a conductive film glass; two diagonal D, each with the electron microscope observations obtained in step C glass n an indentation indentation in the length of the diagonal length calculation by Vivtorinox hardness of glass substrate. The disclosed method can accurately measure the Vivtorinox hardness of liquid crystal glass substrate.

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及玻璃参数测量领域，具体地，涉及一种TFT液晶玻璃基板维氏硬度的测定方法。
技术介绍
当前平板显示技术已经得到广泛的推广和应用，特别是TFT-LCD液晶显示技术在当前显示器领域占有主导地位，作为TFT-LCD显示器的主要构成部分，液晶玻璃基板的性能直接影响到显示器面板的品质，尤其重要的是会严重影响玻璃基板在面板生产流程中的良品率，直接影响到显示器面板的综合成本。由于TFT显示技术中的最小显示单元尺寸约在几十到几百微米，所以玻璃基板表面很微小的擦划伤都将造成镀膜过程中的产品废弃，降低生产效率甚至严重影响良品率。玻璃基板表面的硬度越高，则其产生擦划伤的几率就越小，所以玻璃基板的表面硬度可以反映出其耐擦划伤的程度。玻璃基板表面硬度的影响因素包括其化学组分、热历史、表面处理工艺等几个方面，就化学组分而言可以判断哪种组分玻璃的表面硬度更高，从而优选或优化更合适的玻璃料方配比，就热历史而言，可以提供更好的基板生产退火工艺，而表面状态取决于基板生产工艺，目前主要有溢流成型法和浮法，前者为熔融玻璃液自然冷却面，后者则为抛光面。尽管以上不同条件下的玻璃表面硬度不同，但其差别是相当小的，如果以传统的硬度计及其配置的光学显微镜进行检测，因放大倍率及玻璃材料对光的反射、透射、折射等因素，其综合测试误差(尤其是压痕对角线的长度测量误差)就大于硬度本身的差别，所以无法达到实验目的。
技术实现思路
本公开的目的是提供一种TFT液晶玻璃基板维氏硬度的测定方法，该方法能够准确测量液晶玻璃基板的维氏硬度。为了实现上述目的，本公开提供一种TFT液晶玻璃基板维氏硬度的测定方法，其中，该测定方法包括以下步骤：a、将TFT液晶玻璃基板裁剪为边长为10mm-25mm的方形玻璃片；b、按照测量负荷为m克以及保压时间为15-30s，m为200g，用维氏硬度计对步骤a得到的玻璃片进行多次维氏硬度测量，测量次数用n代表，n为5、6、7、8、9或10，得到表面带有n个四边形压痕的玻璃片；c、对步骤b得到的玻璃片表面的n个压痕涂覆导电膜，得到在压痕处表面覆盖有导电膜的玻璃片；d、用电子显微镜观测步骤c得到的玻璃片中n个压痕中每个压痕的两条对角线的长度，分别得到n组对角线长度，分别记为n(D1)和n(D2)，按照下式计算对角线长度的平均值，其中，D的单位为微米，D＝[1(D1)+1(D2)+2(D1)+2(D2)+……+n(D1)+n(D2)]/2n；e、按照下式计算TFT液晶玻璃基板的维氏硬度，D的单位为微米，维氏硬度＝(1854×m)/D2。优选地，将步骤a得到的方形玻璃片依次经过水洗、乙醇洗和蒸馏水洗后再进行步骤b的操作。优选地，步骤c中所述导电膜为碳膜。优选地，步骤c中通过碳离子溅射仪对步骤b得到的玻璃片表面的n个压痕涂覆碳膜。优选地，步骤c中通过碳离子溅射仪对步骤b得到的玻璃片表面的n个压痕涂覆碳膜时，每个压痕的碳膜喷涂时间为10-15分钟。优选地，步骤a中所述的方形玻璃片为正方型玻璃片。优选地，步骤d中用电子显微镜观测步骤c得到的玻璃片中压痕的两条对角线的长度时，电子显微镜的放大倍数为1500-2000倍。优选地，TFT液晶玻璃基板的厚度为0.3mm-0.7mm。通过本公开的维氏硬度测定方法，可以对不同化学组分的TFT液晶玻璃的维氏硬度进行测试，进而判断不同组分对其维氏硬度的影响，也可以对不同热历史及加工工艺的玻璃基板进行维氏硬度检测、判断对策，进而降低或消除玻璃基板在下游用户使用过程中的擦划伤，提高良品率。本公开的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。具体实施方式以下对本公开的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本公开，并不用于限制本公开。本公开提供一种TFT液晶玻璃基板维氏硬度的测定方法，其中，该测定方法包括以下步骤：a、将TFT液晶玻璃基板裁剪为边长为10mm-25mm的方形玻璃片；b、按照测量负荷为m克以及保压时间为15-30s，m为200g，用维氏硬度计对步骤a得到的玻璃片进行多次维氏硬度测量，测量次数用n代表，n为5、6、7、8、9或10，得到表面带有n个四边形压痕的玻璃片；c、对步骤b得到的玻璃片表面的n个压痕涂覆导电膜，得到在压痕处表面覆盖有导电膜的玻璃片；d、用电子显微镜观测步骤c得到的玻璃片中n个压痕中每个压痕的两条对角线的长度，分别得到n组对角线长度，分别记为n(D1)和n(D2)，按照下式计算对角线长度的平均值，其中，D的单位为微米，D＝[1(D1)+1(D2)+2(D1)+2(D2)+……+n(D1)+n(D2)]/2n；e、按照下式计算TFT液晶玻璃基板的维氏硬度，D的单位为微米，维氏硬度＝(1854×m)/D2。测量负荷可以为200g，保压时间可以选择为25s，测量负荷的压力如果太大容易引起压痕破裂，太小则压痕太小，降低测试精度；在维氏硬度计中进行了几次测量就会得到几个四边形压痕，每个压痕对应有两条对角线，因此每个压痕测量得到两个对角线的长度数值，计算D的公式中的分子为2n个对角线的长度之和，分母为2n，因此，该公式可以算得对角线的平均长度值D。D的单位可以为微米、测量负荷m的单位可以为克，通过计算维氏硬度的公式计算得出的即维氏硬度的数值，得到的维氏硬度的单位可以为kgf/mm2。根据本专利技术，将步骤a得到的方形玻璃片可以依次经过水洗、乙醇洗和蒸馏水洗后再进行步骤b的操作。在本公开的测定方法中，在后续的步骤c中需要给压痕涂覆导电膜，在后续的步骤d中需要通过电子显微镜观察压痕的对角线长度，如果液晶玻璃基板表面被污染的话，不利于涂覆导电膜的顺利进行；同时表面被污染的液晶玻璃基板在电子显微镜中无法清晰观察压痕的对角线长度，可能会造成测量的对角线长度不准确，进而造成最终得到的维氏硬度的数值存在误差；依次经过水洗、乙醇洗和蒸馏水清洗后能够使液晶玻璃基板的表面保持清洁，有利于后续的观察、测量等，在经过水洗、乙醇洗和蒸馏水清洗后还可以进行烘干。根据本专利技术，步骤c中所述导电膜可以为碳膜。玻璃基板本身是不导电的，在放入电子显微镜观察之前需要在玻璃基板的压痕表面涂覆一层导电膜，这样才能通过电子显微镜清楚地观察玻璃基板压痕的对角线长度。根据本专利技术，步骤c中可以通过碳离子溅射仪对步骤b得到的玻璃片表面的n个压痕涂覆碳膜。通过碳离子溅射仪能够在压痕表面涂覆一层碳膜，碳膜是具有导电性的，涂覆有碳膜的液晶玻璃板在电子显微镜中能够清楚地进行观测。步骤c中给玻璃片表面的n个压痕涂覆导电膜时可以通过离子溅射仪进行涂覆，涂覆碳膜时所用的离子溅射源可以为碳材质。根据本专利技术，步骤c中通过碳离子溅射仪对步骤b得到的玻璃片表面的n个压痕涂覆碳膜时，每个压痕的碳膜喷涂时间可以为10-15分钟。给玻璃片的压痕涂覆碳膜的时间可以为10分钟、12分钟、13分钟等，经过10-15分钟的涂覆能使压痕表面全部覆盖有碳膜。根据本专利技术，步骤a中所述的方形玻璃片可以为正方型玻璃片。可以根据电子显微镜中放置待测量样品的样品槽等的尺寸进而确定将液晶玻璃板裁剪为正方形玻璃片、长方形玻璃片或者其他形状的玻璃片，目的是使裁剪后的玻璃片尺寸适合电子显微镜测量。根据本专利技术，步骤d中用电子显微镜观测步骤c得到的玻本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种TFT液晶玻璃基板维氏硬度的测定方法，其中，该测定方法包括以下步骤：a、将TFT液晶玻璃基板裁剪为边长为10mm‑25mm的方形玻璃片；b、按照测量负荷为m克以及保压时间为15s‑30s，m为200g，用维氏硬度计对步骤a得到的玻璃片进行多次维氏硬度测量，测量次数用n代表，n为5、6、7、8、9或10，得到表面带有n个四边形压痕的玻璃片；c、对步骤b得到的玻璃片表面的n个压痕涂覆导电膜，得到在压痕处表面覆盖有导电膜的玻璃片；d、用电子显微镜观测步骤c得到的玻璃片中n个压痕中每个压痕的两条对角线的长度，分别得到n组对角线长度，分别记为n(D1)和n(D2)，按照下式计算对角线长度的平均值，其中，D的单位为微米，D＝[1(D1)+1(D2)+2(D1)+2(D2)+……+n(D1)+n(D2)]/2n；e、按照下式计算TFT液晶玻璃基板的维氏硬度，D的单位为微米，维氏硬度＝(1854×m)/D2。

【技术特征摘要】
1.一种TFT液晶玻璃基板维氏硬度的测定方法，其中，该测定方法包括以下步骤：a、将TFT液晶玻璃基板裁剪为边长为10mm-25mm的方形玻璃片；b、按照测量负荷为m克以及保压时间为15s-30s，m为200g，用维氏硬度计对步骤a得到的玻璃片进行多次维氏硬度测量，测量次数用n代表，n为5、6、7、8、9或10，得到表面带有n个四边形压痕的玻璃片；c、对步骤b得到的玻璃片表面的n个压痕涂覆导电膜，得到在压痕处表面覆盖有导电膜的玻璃片；d、用电子显微镜观测步骤c得到的玻璃片中n个压痕中每个压痕的两条对角线的长度，分别得到n组对角线长度，分别记为n(D1)和n(D2)，按照下式计算对角线长度的平均值，其中，D的单位为微米，D＝[1(D1)+1(D2)+2(D1)+2(D2)+……+n(D1)+n(D2)]/2n；e、按照下式计算TFT液晶玻璃基板的维氏硬度，D的单位为微米，维氏硬度＝(1854×m)/D2。2.根据权利要求1所述的TFT液晶玻璃基板维氏硬度的测定方法，其中，将步...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘文渊，李福庆，杨忠杰，付冬伟，张丹，闫雪锋，
申请(专利权)人：郑州旭飞光电科技有限公司，东旭光电科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：河南;41