一种韭黄或韭菜的培育方法技术

本发明专利技术公开了一种韭黄的培育方法，包括如下步骤：a、搭建具有多层培育床的培育架，并置于培育室中，在培育床上安置栽培槽；b、选取栽培盘，将韭黄苗移植到栽培盘中；c、将移植后的栽培盘固定在栽培槽中，向栽培槽中输送营养液；d设定培育室内温度为15℃‑25℃、湿度为60％‑70％、PH值为5.5‑6.5，且无光照；当韭黄生长至高度25cm时，增加营养液浓度；e、待韭黄生长至高度45cm‑55cm时，收割。本发明专利技术还公开了一种韭菜的培育方法。采用上述方法，培育出的韭黄或韭菜，产量高，无农药和重金属残留，土地利用率高，生产过程及品质可控，并且生产工序简单、节约人力成本。

A method for breeding or chives leek

The invention discloses a method for cultivating Jiuhuang, which comprises the following steps: A, build multi-layer cultivation frame cultivation bed, and placed in a foster placement room, cultivation tank in raised beds; B, select the culture plate to leek seedlings transplanted to the cultivation of yellow plate; C, the cultivation of transplanted disc is fixed in the cultivation tank, conveying nutrient solution into cultivation tank; D cultivation set indoor temperature of 15 degrees 25 C and 60% humidity 70%, pH 5.5 6.5, and no light; when the Jiuhuang growth to a height 25cm, increasing the concentration of nutrient solution; E, Jiuhuang grew to the height of 45cm 55cm, harvest. The invention also discloses a method for cultivating leek. Using the above method, cultivate the Jiuhuang or leeks, high yield, no pesticide and heavy metal residues, land utilization rate is high, the production process and quality control, and the simple production process, saving labor costs.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术具体涉及一种韭黄或韭菜的培育方法。
技术介绍
目前韭菜及韭黄主要通过土壤栽培和无土栽培生产，而其中韭黄又主要通过栽培韭菜时加入软化技术得到。现有韭菜韭黄的无土栽培技术存在营养液配置不合理导致产量低，韭蛆虫害问题严重进而大量使用农药，导致农药残留较大的问题。目前韭菜及韭黄的土壤栽培技术存在的缺陷则更多，主要包括：(1)大田平面式的栽种，土地利用率不高；(2)韭菜及韭黄的生长极易受自然条件影响，造成对于产量及品质的不可预估；(3)韭菜及韭黄的生长需要较大的肥力，土壤栽培中肥水管理容易因生产者差异出现产品品质不稳定情况；(4)在田间栽种时，为了避免病虫害不定期的侵袭，促进作物更好更快的生长，不可避免的会使用大量的农药，容易出现农药残留；(5)土壤、地下水及空气中的重金属污染，使得韭菜及韭黄中可能存在重金属超标；(6)韭黄软化生产时，工序繁多，往往要通过育苗、定植、多次培土、遮光、采收、清理、清洗和晾干水等工序，人力成本极大。
技术实现思路
针对上述问题，本专利技术提出了一种韭黄或韭菜的培育方法，采用该方法培育韭菜或韭黄，产量高，无农药和重金属残留，土地利用率高，生产过程及品质可控，并且生产工序简单、节约人力成本。本专利技术的技术方案是：一种韭黄或韭菜的培育方法，包括如下步骤：a、搭建具有多层培育床的培育架，将培育架置于密闭遮光的培育室中，并在培育床上安置用于盛装韭黄或韭菜生长所需营养液的栽培槽；其中，培育室需密闭且保温性好，具有温度、湿度、二氧化碳浓度调节功能。b、选取适合韭菜苗或韭黄苗生长的栽培盘，并在栽培盘的底部开设可以供营养液、韭菜根系或韭黄根系通过的通孔，待韭菜苗或韭黄苗生长至高度4cm-6cm时，将韭菜苗或韭黄苗移植到栽培盘中；移植时注意保持根系的完整性，尽量减少对根系的破坏。c、将种植有韭菜苗或韭黄苗的栽培盘固定在栽培槽中，向栽培槽中输送韭菜苗或韭黄苗生长所需的营养液，营养液通过栽培盘底部开设的通孔进入栽培盘中，向韭菜苗或韭黄苗输送营养所需元素。d1、如果是栽培韭菜，则设定培育室内温度为15℃-25℃、湿度为60％-70％、PH值为5.5-6.5，且有光照。有光照时，韭菜苗能够合成叶绿素，长成绿色的韭菜，但若光照过弱，光合产物积累少，分蘖少而细弱，产量低，易早衰，而光照过强、温度过高，则纤维多，品质差，应控制为中等光照强度，以2万-4万勒克斯为宜，且在12小时该强度的光照后进行12小时的无光照；韭菜属耐寒性蔬菜，不耐高温，生长适温15℃-25℃，并保持湿度在60-70％，可使韭菜生长在最适环境，长势良好，增大产量，同时可使叶片中纤维素保持在较低水平，叶片鲜嫩细腻，口感更好。d2、如果是栽培韭黄，则设定培育室内温度为15℃-25℃、湿度为60％-70％，PH值为5.5-6.5，且无光照。无光照时，韭黄苗不能够合成叶绿素，长成黄白色的韭黄，在温度15℃-25℃、湿度60-70％、PH5.5-6.5的生长环境下，韭黄长势良好，产量高。d3、当韭菜或韭黄生长至高度25cm时，增加营养液浓度；当生长至25cm时，属于韭菜/韭黄的生长期，若营养液供给不足，会影响产量，此时应适当增大营养液浓度，以维持良好的长势。e、待韭菜或韭黄生长至高度45cm-55cm时，收割。收割时，直接将培育架上的韭菜或韭黄从茎上5-6cm处用剪刀剪去，无需清理、清洗或筛选，即可经包装后上市，节约了大量人力物力。本专利技术中，优选地，步骤c中使用的每升营养液中包括以下组分：硝酸钾450mg-600mg、磷酸氢二铵40mg-120mg、七水硫酸镁250gm-350mg、硝酸钙250mg-320mg、硫酸亚铁15mg-30mg和乙二胺四乙酸二钠20mg-35mg。上述营养液中含有韭菜/韭黄生长所需的所有营养元素，配方中各组分搭配合理，利于吸收，配置营养液时的用水为经反渗透技术处理后的纯水，保证水中不含任何有害物质及重金属成分。在其中一个实施例中，步骤d3中,当韭菜或韭黄生长至高度25cm时，增加营养液浓度至每升营养液中包括以下组分：硝酸钾700mg-800mg、磷酸氢二铵90mg-150mg、七水硫酸镁400mg-500mg、硝酸钙350mg-500mg、硫酸亚铁20mg-40mg和乙二胺四乙酸二钠30mg-45mg。进一步地，步骤c和步骤d中营养液的供液周期为20min-120min。更进一步地，步骤b中,将韭菜苗移植至栽培盘的定植密度为30-35株/dm2。本专利技术中，优选地，步骤a中,搭建具有多层培育床的培育架时，上下相邻两层培育床之间的高度差为65cm-70cm，在培育床正上方60cm处安置可升降的LED灯，并在营养液存储池内安装杀菌灯。LED灯用于为韭菜的生长提供光照，杀菌灯用于灭菌。进一步地，步骤a中,还包括以下步骤：在培育床上安置用于盛装韭黄或韭菜生长所需营养液的栽培槽后，在栽培槽的底部垂直安装虹吸管，虹吸管的进液口端高于该栽培槽内营养液的预设高度，虹吸管的出液口端延伸到下一层的栽培槽内。设置虹吸管的目的是形成各栽培槽内的营养液循环流动，使栽培槽内营养液成分均匀，增加溶解氧促进根系活动；具体地，向上层栽培槽内通入营养液并漫过虹吸管的进液口后，营养液通过虹吸管导入下层栽培槽中，当下层栽培槽中的营养液漫过其内的虹吸管的进液口时，营养液又通过该虹吸管导向更下层的栽培槽中，如此，直至营养液回流至栽培槽最下方的营养液存储池中，营养液存储池中的营养液又被泵送至最上层的栽培槽中。本专利技术的有益效果是：(1)通过封闭式的栽培方式，可以使韭菜及韭黄的栽培不受天气等外部环境影响，并通过人工模拟韭菜及韭黄的生长环境，直接控制温度、湿度和二氧化碳浓度在适宜韭菜及韭黄生长的最佳值，使得韭菜和韭黄随时都处在一个最佳的生长状态，产量稳定且周期短，全年不分时节都能生长；(2)采用立体式的栽培模式，即通过立体式多层培育床的培育架，有效节约土地，提高栽培及管理效率，提高土地利用率，方便日常管理操作；(3)无土栽培的方式，有助于提升韭菜及韭黄的品质，通过不断的补充营养液浓度，做到时刻满足韭黄及韭菜需肥力大的特点，有效缩短生长周期，并节约人力；(4)全封闭式生产，过滤水体及净化空气，使得韭菜及韭黄中不含重金属成分，并使用杀菌灯灭菌，全程不施农药，农药残留为零，绿色无公害；(5)优化韭黄/韭黄的生产步骤，将传统的繁琐生产过程极大地简化，节约了人力；(6)营养液配置合理，并采用循环供给的方式，生产中各栽培槽内营养液成分均匀，维持韭菜/韭黄良好的长势，提产增产。附图说明图1为本专利技术实施例1所述韭黄的培育方法的流程示意图；图2为本专利技术实施例2所述韭菜的培育方法的流程示意图；图3为本专利技术实施例所述培育架及培育室的结构示意图；图4是本专利技术实施例所述栽培盘的结构示意图；附图标记：100-培育室，200-将培育架，201-栽培槽，202-培育床，203-栽培盘，204-虹吸管，205-LED灯，300-营养液存储池，400-循环泵。具体实施方式下面结合附图对本专利技术的实施例进行详细说明。实施例1如图1、图3和图4所示，一种韭黄的培育方法，包括如下步骤：a、搭建具有多层培育床202的培育架200，将培育架200置于密闭遮光的培育室100中，并在培育床202上安置用于盛装韭本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种韭黄或韭菜的培育方法，其特征在于，包括如下步骤：a、搭建具有多层培育床的培育架，将培育架置于密闭遮光的培育室中，并在培育床上安置用于盛装韭黄或韭菜生长所需营养液的栽培槽；b、选取适合韭菜苗或韭黄苗生长的栽培盘，并在栽培盘的底部开设可以供营养液、韭菜根系或韭黄根系通过的通孔，待韭菜苗或韭黄苗生长至高度4cm‑6cm时，将韭菜苗或韭黄苗移植到栽培盘中；c、将种植有韭菜苗或韭黄苗的栽培盘固定在栽培槽中，向栽培槽中输送韭菜苗或韭黄苗生长所需的营养液，营养液通过栽培盘底部开设的通孔进入栽培盘中，向韭菜苗或韭黄苗输送营养所需元素；d1、如果是栽培韭菜，则设定培育室内温度为15℃‑25℃、湿度为60％‑70％、PH值为5.5‑6.5，且有光照；d2、如果是栽培韭黄，则设定培育室内温度为15℃‑25℃、湿度为60％‑70％，PH值为5.5‑6.5，且无光照；d3、当韭菜或韭黄生长至高度25cm时，增加营养液浓度；e、待韭菜或韭黄生长至高度45cm‑55cm时，收割。

【技术特征摘要】
1.一种韭黄或韭菜的培育方法，其特征在于，包括如下步骤：a、搭建具有多层培育床的培育架，将培育架置于密闭遮光的培育室中，并在培育床上安置用于盛装韭黄或韭菜生长所需营养液的栽培槽；b、选取适合韭菜苗或韭黄苗生长的栽培盘，并在栽培盘的底部开设可以供营养液、韭菜根系或韭黄根系通过的通孔，待韭菜苗或韭黄苗生长至高度4cm-6cm时，将韭菜苗或韭黄苗移植到栽培盘中；c、将种植有韭菜苗或韭黄苗的栽培盘固定在栽培槽中，向栽培槽中输送韭菜苗或韭黄苗生长所需的营养液，营养液通过栽培盘底部开设的通孔进入栽培盘中，向韭菜苗或韭黄苗输送营养所需元素；d1、如果是栽培韭菜，则设定培育室内温度为15℃-25℃、湿度为60％-70％、PH值为5.5-6.5，且有光照；d2、如果是栽培韭黄，则设定培育室内温度为15℃-25℃、湿度为60％-70％，PH值为5.5-6.5，且无光照；d3、当韭菜或韭黄生长至高度25cm时，增加营养液浓度；e、待韭菜或韭黄生长至高度45cm-55cm时，收割。2.根据权利要求1所述的韭黄或韭菜的培育方法，其特征在于，步骤c中使用的每升营养液中包括以下组分：硝酸钾450mg-600mg、磷酸氢二铵40mg-120mg、七水硫酸镁250gm-350mg、硝酸钙250mg-320mg、硫酸亚铁15mg-30mg和乙...

【专利技术属性】
技术研发人员：王平，唐先志，粟正波，
申请(专利权)人：四川新生启航农业科技有限公司，
类型：发明
国别省市：四川;51