一种OGS触摸屏的制造工艺，把玻璃清洗干净；把清洗完的玻璃放入真空设备中，当真空度到达8*10-4pa时，充入Ar气至3*10-1pa时，启动溅射阴极，制出黑色低电阻导电膜，形成第一层导电膜；把制造好的黑色低电阻导电膜通过黄光工艺制出图形；把制造好的黑色低电阻导电膜用涂层设备，涂好uv胶，形成透明绝缘层；再把产品再次放入真空设备中，当真空度到达8*10-4pa时，充入Ar气至3*10-1pa时，启动溅射阴极，制出第二层黑色低电阻导电膜层；把制造好的黑色低电阻导电膜通过黄光工艺制出第二层导电层和电极；通过上述步骤制造出OGS触摸屏，其中电极和图形一次性制造出来。本发明专利技术的优点：工艺流程简单，节省人力，降低成本，使用效果好。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及OGS触摸屏领域，特别涉及了一种OGS触摸屏的制造工艺。
技术介绍
通常的OGS电容触摸屏的工艺过程：基片玻璃，印刷油墨，ITO透明导电膜，蓝光工艺制图形，镀全层电极，黄光工艺制图形，点脱，连接桥。工艺复杂，流程繁琐，成本高。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了简化工艺，降低成本，特提供了一种OGS触摸屏的制造工艺。本专利技术提供了一种OGS触摸屏的制造工艺，其特征在于：所述的OGS触摸屏的制造工艺，过程包括：把玻璃清洗干净；把清洗完的玻璃放入真空设备中，当真空度到达8*10-4pa时，充入Ar气至3*10-1pa时，启动溅射阴极，制出黑色低电阻导电膜，形成第一层导电膜；把制造好的黑色低电阻导电膜通过黄光工艺制出图形，此图形是已设计好的丝状线；把制造好的黑色低电阻导电膜用涂层设备，涂好uv胶，形成透明绝缘层，形成的透明绝缘层的厚度是10um～15um；再把产品再次放入真空设备中，当真空度到达8*10-4pa时，充入Ar气至3*10-1pa时，启动溅射阴极，制出第二层黑色低电阻导电膜层；把制造好的黑色低电阻导电膜通过黄光工艺制出第二层导电层和电极；通过上述步骤制造出OGS触摸屏，其中电极和图形一次性制造出来。所述的黑色低电阻导电膜，膜层厚度150nm～250nm。所述的第二层黑色低电阻导电膜层，膜层厚度150nm～250nm。在玻璃基板用磁控溅射的方式形成一层导电的黑色薄膜，用蓝光工艺制成电极和图形，涂一层黑色薄膜用蓝光工艺制成电极和图形，这样就形成了新型的OGS触摸屏。本专利技术的优点：本专利技术所述的OGS触摸屏的制造工艺，采用对基片玻璃镀导电黑化层，黄光工艺制电极及图形，涂透明绝缘硬化层，镀导电黑化层，黄光工艺制电极及图形，工艺流程简单，节省人力，降低成本，使用效果好。具体实施方式实施例1本实施例提供了一种OGS触摸屏的制造工艺，其特征在于：所述的OGS触摸屏的制造工艺，过程包括：把玻璃清洗干净；把清洗完的玻璃放入真空设备中，当真空度到达8*10-4pa时，充入Ar气至3*10-1pa时，启动溅射阴极，制出黑色低电阻导电膜，形成第一层导电膜；把制造好的黑色低电阻导电膜通过黄光工艺制出图形，此图形是已设计好的丝状线；把制造好的黑色低电阻导电膜用涂层设备，涂好uv胶，形成透明绝缘层，形成的透明绝缘层的厚度是10um；再把产品再次放入真空设备中，当真空度到达8*10-4pa时，充入Ar气至3*10-1pa时，启动溅射阴极，制出第二层黑色低电阻导电膜层；把制造好的黑色低电阻导电膜通过黄光工艺制出第二层导电层和电极；通过上述步骤制造出OGS触摸屏，其中电极和图形一次性制造出来。所述的黑色低电阻导电膜，膜层厚度150nm。所述的第二层黑色低电阻导电膜层，膜层厚度150nm。在玻璃基板用磁控溅射的方式形成一层导电的黑色薄膜，用蓝光工艺制成电极和图形，涂一层黑色薄膜用蓝光工艺制成电极和图形，这样就形成了新型的OGS触摸屏。实施例2本实施例提供了一种OGS触摸屏的制造工艺，其特征在于：所述的OGS触摸屏的制造工艺，过程包括：把玻璃清洗干净；把清洗完的玻璃放入真空设备中，当真空度到达8*10-4pa时，充入Ar气至3*10-1pa时，启动溅射阴极，制出黑色低电阻导电膜，形成第一层导电膜；把制造好的黑色低电阻导电膜通过黄光工艺制出图形，此图形是已设计好的丝状线；把制造好的黑色低电阻导电膜用涂层设备，涂好uv胶，形成透明绝缘层，形成的透明绝缘层的厚度是12um；再把产品再次放入真空设备中，当真空度到达8*10-4pa时，充入Ar气至3*10-1pa时，启动溅射阴极，制出第二层黑色低电阻导电膜层；把制造好的黑色低电阻导电膜通过黄光工艺制出第二层导电层和电极；通过上述步骤制造出OGS触摸屏，其中电极和图形一次性制造出来。所述的黑色低电阻导电膜，膜层厚度200nm。所述的第二层黑色低电阻导电膜层，膜层厚度200nm。在玻璃基板用磁控溅射的方式形成一层导电的黑色薄膜，用蓝光工艺制成电极和图形，涂一层黑色薄膜用蓝光工艺制成电极和图形，这样就形成了新型的OGS触摸屏。实施例3本实施例提供了一种OGS触摸屏的制造工艺，其特征在于：所述的OGS触摸屏的制造工艺，过程包括：把玻璃清洗干净；把清洗完的玻璃放入真空设备中，当真空度到达8*10-4pa时，充入Ar气至3*10-1pa时，启动溅射阴极，制出黑色低电阻导电膜，形成第一层导电膜；把制造好的黑色低电阻导电膜通过黄光工艺制出图形，此图形是已设计好的丝状线；把制造好的黑色低电阻导电膜用涂层设备，涂好uv胶，形成透明绝缘层，形成的透明绝缘层的厚度是15um；再把产品再次放入真空设备中，当真空度到达8*10-4pa时，充入Ar气至3*10-1pa时，启动溅射阴极，制出第二层黑色低电阻导电膜层；把制造好的黑色低电阻导电膜通过黄光工艺制出第二层导电层和电极；通过上述步骤制造出OGS触摸屏，其中电极和图形一次性制造出来。所述的黑色低电阻导电膜，膜层厚度250nm。所述的第二层黑色低电阻导电膜层，膜层厚度250nm。在玻璃基板用磁控溅射的方式形成一层导电的黑色薄膜，用蓝光工艺制成电极和图形，涂一层黑色薄膜用蓝光工艺制成电极和图形，这样就形成了新型的OGS触摸屏。本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种OGS触摸屏的制造工艺，其特征在于：所述的OGS触摸屏的制造工艺，过程包括：把玻璃清洗干净；把清洗完的玻璃放入真空设备中，当真空度到达8*10‑4pa时，充入Ar气至3*10‑1pa时，启动溅射阴极，制出黑色低电阻导电膜，形成第一层导电膜；把制造好的黑色低电阻导电膜通过黄光工艺制出图形，此图形是已设计好的丝状线；把制造好的黑色低电阻导电膜用涂层设备，涂好uv胶，形成透明绝缘层，形成的透明绝缘层的厚度是10um～15um；再把产品再次放入真空设备中，当真空度到达8*10‑4pa时，充入Ar气至3*10‑1pa时，启动溅射阴极，制出第二层黑色低电阻导电膜层；把制造好的黑色低电阻导电膜通过黄光工艺制出第二层导电层和电极；通过上述步骤制造出OGS触摸屏，其中电极和图形一次性制造出来。
【技术特征摘要】
1.一种OGS触摸屏的制造工艺，其特征在于：所述的OGS触摸屏的制造工艺，过程包括：把玻璃清洗干净；把清洗完的玻璃放入真空设备中，当真空度到达8*10-4pa时，充入Ar气至3*10-1pa时，启动溅射阴极，制出黑色低电阻导电膜，形成第一层导电膜；把制造好的黑色低电阻导电膜通过黄光工艺制出图形，此图形是已设计好的丝状线；把制造好的黑色低电阻导电膜用涂层设备，涂好uv胶，形成透明绝缘层，形成的透明绝缘层的厚度是10um～15um；再把产品再次放入真空设备中，当真空...
【专利技术属性】
技术研发人员：王宇，
申请(专利权)人：王宇，
类型：发明
国别省市：辽宁;21
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