一种抛光机的水冷上抛光盘结构制造技术

本实用新型专利技术是一种抛光机的水冷上抛光盘结构，包括上盘工作盘，在所述上盘工作盘的一端侧设有上盘水冷盘，所述上盘水冷盘与上盘工作盘之间形成有空腔，在上盘水冷盘上分别设有与空腔连通的进水口和出水口。本实用新型专利技术的水冷盘结构由几个相互独立的空腔构成，每个空腔分别有各自独立的进出水口，其水路为往复迷宫式，有效的避免了冷却水走捷径，确保仅在冷却水充满腔体后才能从出水口流出，有助于冷却水对上盘工作盘进行充分冷却，及时带走因加工而产生的热量，从而对抛盘起到了强制冷却的作用，较传统的被动式冷却更可靠。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及抛光机
，具体涉及一种抛光机的水冷上抛光盘结构。
技术介绍
用于硅片等薄脆材料的抛光机的上抛光盘，由于在抛光过程中会产生大量的热，温度的变化必然会导致抛光盘发生形变，进而影响加工质量，因此必须严格控制抛光盘的温度。近年来IC加工硅片的尺寸趋向大直径化，对硅片形貌的质量要求也越来越严格，对于用来进行硅片双面抛光加工的抛光设备，必须严格控制抛光盘的形变。上抛光盘水冷结构主要用于抛光盘的温度控制。此前双面抛光机的抛光盘采用整体式结构，没有进行专门温度控制的装置，抛光加工过程中所产生的热量主要靠抛光液带走，属于被动式冷却，抛光盘温度的变化不可控制。传统的设备也大多应用在非IC行业，对上抛光盘的温度控制要求不高。硅片加工，必需对上下抛光盘进行精密温度控制，因此必须采用新的上盘结构，以便对抛光盘进行冷却，达到温度精确控制的目的。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术存在的问题，提供一种抛光机的水冷上抛光盘结构，以实现抛光盘主动冷却，做到抛光盘温度的精确控制。为实现上述技术目的，达到上述技术效果，本技术通过以下技术方案实现：一种抛光机的水冷上抛光盘结构，包括上盘工作盘，在所述上盘工本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抛光机的水冷上抛光盘结构，包括上盘工作盘（7），其特征在于，在所述上盘工作盘（7）的一端侧设有上盘水冷盘（5），所述上盘水冷盘（5）与上盘工作盘（7）之间形成有空腔（2），在上盘水冷盘（5）上分别设有与空腔（2）连通的进水口（3）和出水口（6）。

【技术特征摘要】
1.一种抛光机的水冷上抛光盘结构，包括上盘工作盘（7），其特征在于，在所述上盘工作盘（7）的一端侧设有上盘水冷盘（5），所述上盘水冷盘（5）与上盘工作盘（7）之间形成有空腔（2），在上盘水冷盘（5）上分别设有与空腔（2）连通的进水口（3）和出水口（6）。2.根据权利要求1所述的抛光机的水冷上抛光盘结构，其特征在于，所述空腔（2）由上盘水冷盘（5）上设置的多个内凹的扇形区域（14）组成，每个扇形区域（14）内由一凸出的分隔筋（141）分隔为两个互为连通的内凹进水区（142）和出水区（143），在所述进水区（142）设有进水口（3），在所述出水区（143）设有出水口（6）。3.根据权利要求2所述的抛光机的水冷上抛光盘结构，其特征在于，在所述进水区（142）设有三根相向设置的进水区凸出筋（144），在所述出水区（143）设有三根相...

【专利技术属性】
技术研发人员：乔卫民，李方俊，翟新，马艳，
申请(专利权)人：苏州赫瑞特电子专用设备科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32