一种新型膜系的金色LOW‑E 双银玻璃制造技术

一种新型膜系的金色LOW‑E双银玻璃，包括玻璃基层，所述玻璃基层上依次覆盖有第一介质层、第二介质层、介质阻挡层、第一功能层、第一阻挡层、第一中间折射层、第二中间折射层、第三中间折射层、第二功能层、第二阻挡层和第三介质层。所述第一介质层为Si3N4层，该第一介质层的厚度为10nm～100nm。所述第二介质层为TiO2层，该第二介质层的厚度为5nm～60nm。所述介质阻挡层为AZO层。本实用新型专利技术能够采用常规的靶材生产出特殊的金色，大大降低生产成本，减少了生产金色产品需换靶的工作量，方便金色和常规LOW‑E产品之间的在线转换，并且热工性能能满足广大建筑节能送检要求；其具有操作方便、成本低的特点。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种新型膜系的金色LOW-E双银玻璃。
技术介绍
金色镀膜玻璃由于它特殊的产品颜色及其良好的光学性能，越来越受人们的喜爱，近几年的市场需求量也是不断增加，特别是一些象征财政的相关工程。但是，由于某些地区建筑节能指标不断增高，单银的建筑节能指标已经不能满足该地区对送检标准，所以金色LOW-E双银玻璃的研发具有较大的市场。然而，以往传统金色LOW-E的生产必须要使用到不锈钢靶材，只能专门生产一种颜色就专门购买一种靶材，再将靶材装到阴极里面，于是，不仅大大提高了生产成本，而且还占据了一个阴极位，这种现状对于阴极位不多的中小型企业造成了巨大压力。
技术实现思路
本技术的目的旨在提供一种操作灵活、生产成本低的新型膜系的金色LOW-E双银玻璃，以克服现有技术中的不足之处。按此目的设计的一种新型膜系的金色LOW-E双银玻璃，包括玻璃基层，其结构特征是所述玻璃基层上依次覆盖有第一介质层、第二介质层、介质阻挡层、第一功能层、第一阻挡层、第一中间折射层、第二中间折射层、第三中间折射层、第二功能层、第二阻挡层和第三介质层。进一步，所述第一介质层为Si3N4层，该第一介质层的厚度为10nm～100nm。进一步，所述第二介质层为TiO2层，该第二介质层的厚度为5nm～60nm。进一步，所述介质阻挡层为AZO层，该介质阻挡层的厚度为5nm～30nm。进一步，所述第一功能层为Ag层，该第一功能层的厚度为5nm～15nm。进一步，所述第一阻挡层为NiCr层，该第一阻挡层的厚度为2nm～10nm。进一步，所述第一中间折射层为AZO层，该第一中间折射层的厚度为5nm～100nm。进一步，所述第二中间折射层为TiO2层，该第二中间折射层的厚度为5nm～60nm。进一步，所述第三中间折射层为AZO层，该第三中间折射层的厚度为5nm～100nm。进一步，所述第二功能层为Ag层，该第二功能层的厚度为5nm～15nm；所述第二阻挡层为NiCr层，该第二阻挡层的厚度为2nm～10nm；所述第三介质层为Si3N4层，该第三介质层的厚度为10nm～100nm。本技术中的玻璃基层上设置有镀膜层，该镀膜层包括玻璃基层上依次覆盖的第一介质层、第二介质层、介质阻挡层、第一功能层、第一阻挡层、第一中间折射层、第二中间折射层、第三中间折射层、第二功能层、第二阻挡层和第三介质层。其中，第一介质层用于提高膜层的物理性能和抗氧化性能。本技术中的第二介质层用于阻挡玻璃表面的Na+对功能层的破坏、平复银层以及提高玻璃的折射率。本技术中的介质阻挡层用于阻挡玻璃表面的Na+对功能层的破坏、平复银层、提高玻璃的折射率和降低玻璃表面的面电阻。本技术中的第一功能层用于降低辐射率、提高玻璃的光学性能。本技术中的第一阻挡层用于阻挡阳离子和钠离子对银层的破坏。本技术中的第一中间折射层用于提高玻璃的可见光透过率。本技术中的第二中间折射层用于提高AZO的溅射效率、提高玻璃的可见光透过率。本技术中的第三中间折射层用于提高玻璃的可见光透过率。本技术中的第二功能层用于降低辐射率、提高玻璃的光学性能。本技术中的第二阻挡层用于阻挡阳离子和钠离子对银层的破坏。本技术中的第三介质层用于提高膜层的物理性能和抗氧化性能。综上所述，本技术克服了以前技术的不足，不断的优化材料、气体的配比，提供了一种新型膜系，不使用不锈钢材料就能生产出性能优异的双银金色LOW-E双银玻璃产品。本技术能够采用常规的靶材生产出特殊的金色，大大降低生产成本，减少了生产金色产品需换靶的工作量，方便金色和常规LOW-E产品之间的在线转换，并且热工性能能满足广大建筑节能送检要求；其具有操作方便、成本低的特点。附图说明图1为本技术一实施例的局部剖切示意图。图中：1为玻璃基层，2为第一介质层，3为第二介质层，4为介质阻挡层，5为第一功能层，6为第一阻挡层，7为第一中间折射层，8为第二中间折射层，9为第三中间折射层，10为第二功能层，11为第二阻挡层，12为第三介质层。具体实施方式下面结合附图及实施例对本技术作进一步描述。参见图1，本新型膜系的金色LOW-E双银玻璃，包括玻璃基层1，所述玻璃基层1上依次覆盖有第一介质层2、第二介质层3、介质阻挡层4、第一功能层5、第一阻挡层6、第一中间折射层7、第二中间折射层8、第三中间折射层9、第二功能层10、第二阻挡层11和第三介质层12。膜系结构为Glass-Si3N4-TiO2-AZO-Ag-NiCr-AZO-TiO2-AZO-Ag-NiCr-Si3N4。在本实施例中，Glass为玻璃基层。玻璃输送速度为3.5m/min。所述第一介质层2为Si3N4层，该第一介质层2的厚度为10nm～100nm。第一介质层2通过交流中频电源、氮气作反应气体溅射半导体材料SiAl，其密度为96％，其中，SiAl中的Si：Al的质量比为98:2。第一介质层2用于提高膜层的物理性能和抗氧化性能。在本实施例中，第一介质层2厚度的优选为10nm、15nm、20nm、25nm、30nm、35nm、40nm、45nm、50nm、55nm、60nm、65nm、70nm、75nm、80nm、85nm、90nm、95nm、100nm中的一种。所述第二介质层3为TiO2层，该第二介质层3的厚度为5nm～60nm。第二介质层3通过交流中频电源溅射陶瓷钛靶后形成。第二介质层3用于阻挡玻璃表面的Na+对功能层的破坏、平复银层以及提高玻璃的折射率。在本实施例中，第二介质层3厚度的优选为5nm、10nm、15nm、20nm、25nm、30nm、35nm、40nm、45nm、50nm、55nm、60nm中的一种。所述介质阻挡层4为AZO层，该介质阻挡层4的厚度为5nm～30nm。介质阻挡层4通过交流中频电源溅射陶瓷钛靶形成。介质阻挡层4用于阻挡玻璃表面的Na+对功能层的破坏、平复银层以及提高玻璃的折射率和降低玻璃表面的面电阻。在本实施例中，介质阻挡层4厚度的优选为5nm、10nm、15nm、20nm、25nm、30nm中的一种。所述第一功能层5为Ag层，该第一功能层5的厚度为5nm～15nm。第一功能层5通过交流电源溅射形成，用于降低辐射率和提高玻璃的光学性能。在本实施例中，第一功能层5厚度的优选为5nm、6nm、7nm、8nm、9nm、10nm、11nm、12nm、13nm、14nm、15nm中的一种。所述第一阻挡层6为NiCr层，该第一阻挡层6的厚度为2nm～10nm。第一阻挡层6通过直流电源溅射形成，用于阻挡阳离子和钠离子对银层的破坏。在本实施例中，第一阻挡层6厚度的优选为2nm、3nm、4nm、5nm、6nm、7nm、8nm、9nm、10nm中的一种。所述第一中间折射层7为AZO层，该第一中间折射层7的厚度为5nm～100nm。第一中间折射层7通过中频交流电源溅射陶瓷靶形成，用于提高玻璃的可见光透过率。在本实施例中，第一中间折射层7厚度的优选为5nm、10nm、15nm、20nm、25nm、30nm、35nm、40nm、45nm、50nm、55nm、60nm、65nm、70nm、75nm、80nm、85nm、90nm、95nm、100nm中的一种。所述第二本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种新型膜系的金色LOW‑E双银玻璃，包括玻璃基层(1)，其特征是所述玻璃基层(1)上依次覆盖有第一介质层(2)、第二介质层(3)、介质阻挡层(4)、第一功能层(5)、第一阻挡层(6)、第一中间折射层(7)、第二中间折射层(8)、第三中间折射层(9)、第二功能层(10)、第二阻挡层(11)和第三介质层(12)。

【技术特征摘要】
1.一种新型膜系的金色LOW-E双银玻璃，包括玻璃基层(1)，其特征是所述玻璃基层(1)上依次覆盖有第一介质层(2)、第二介质层(3)、介质阻挡层(4)、第一功能层(5)、第一阻挡层(6)、第一中间折射层(7)、第二中间折射层(8)、第三中间折射层(9)、第二功能层(10)、第二阻挡层(11)和第三介质层(12)。2.根据权利要求1所述的新型膜系的金色LOW-E双银玻璃，其特征是所述第一介质层(2)为Si3N4层，该第一介质层(2)的厚度为10nm～100nm。3.根据权利要求1所述的新型膜系的金色LOW-E双银玻璃，其特征是所述第二介质层(3)为TiO2层，该第二介质层(3)的厚度为5nm～60nm。4.根据权利要求1所述的新型膜系的金色LOW-E双银玻璃，其特征是所述介质阻挡层(4)为AZO层，该介质阻挡层(4)的厚度为5nm～30nm。5.根据权利要求1所述的新型膜系的金色LOW-E双银玻璃，其特征是所述第一功能层(5)为Ag层，该第一功能层(5)的厚度为5nm～15nm。6.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：范亚军，周永文，王印，马满江，苗晓荣，
申请(专利权)人：中山市格兰特实业有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44