端子局部屏蔽方法技术

技术编号:14418628 阅读:87 留言:0更新日期:2017-01-12 17:45
本发明专利技术涉及端子局部屏蔽方法,包括以下步骤:S1、前处理:将用于成型端子的底带置于底带槽内,由拖料机构向前拖动,同时通过除尘装置对底带表面进行除尘处理;S2、冲压成型:将底带引入冲压成型模具内,冲压成型模具对底带进行冲压成型,得到端子;S3、贴膜:将端子不需要电镀的部位,进行贴绝缘膜处理;S4、检查:检查端子的贴膜质量;S5、电镀:将端子放入镀槽内,在端子表面进行镀导电膜处理;S6、除绝缘膜:将镀导电膜后的端子上的绝缘膜撕去,得到端子产品。本发明专利技术的优点在于:生产效率高、废次品率低。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电子元器件的生产
,特别是端子局部屏蔽方法
技术介绍
电子元器件是信息产业的基础,属于高新技术产业,发展前景广阔。未来几年内,微型化仍将是电子元器件最主要的发展趋势之一。而电子元器件的加工工艺也越来越多地受到人们的关注。端子属于电子元器件中的一种,大多需要在端子表面镀上一层导电膜,但是有的端子表面并不是需要完全镀导电膜,由于端子属于微小元器件,在传统的端子部分镀导电膜都是先镀全部的导电膜,然后再根据端子表面不需要镀导电膜的位置,将导电膜去除,这种生产工艺效率极低,而且在去除导电膜时容易破坏需要镀导电膜的部位,从而出现大量的废次品。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术的缺点,提供了一种生产效率高、废次品率低的端子局部屏蔽方法。本专利技术的目的通过以下技术方案来实现:端子局部屏蔽方法,包括以下步骤:S1、前处理:将用于成型端子的底带置于底带槽内,由拖料机构向前拖动,同时通过除尘装置对底带表面进行除尘处理;S2、冲压成型:将底带引入冲压成型模具内,冲压成型模具对底带进行冲压成型,得到端子;S3、贴膜:将端子不需要电镀的部位,进行贴绝缘膜处理;S4、检查:检查端子的贴膜质量;S5、电镀:将端子放入镀槽内,在端子表面进行镀导电膜处理;S6、除绝缘膜:将镀导电膜后的端子上的绝缘膜撕去,得到端子产品。步骤S2中,所述的绝缘膜为PI膜、PE膜或PET膜。所述底带的两侧沿其长度方向分别通过打靶机开有定位孔,拖料机构通过定位孔将底带向前拖动。本专利技术具有以下优点:本专利技术通过在未镀导电膜时直接对不需要镀导电膜的位置,贴上绝缘膜,防止端子不需要镀导电膜的部位在镀导电膜时,被覆上导电膜,在镀导电膜后只需要撕去绝缘膜就可得到产品,生产效率高,而且废次品率低,适合于大批量生产。具体实施方式下面结对本专利技术做进一步的描述,但本专利技术的保护范围不局限于以下所述。端子局部屏蔽方法,包括以下步骤:S1、前处理:将用于成型端子的底带置于底带槽内,由拖料机构向前拖动,同时通过除尘装置对底带表面进行除尘处理;S2、冲压成型:将底带引入冲压成型模具内,冲压成型模具对底带进行冲压成型,得到端子;S3、贴膜:将端子不需要电镀的部位,进行贴绝缘膜处理;S4、检查:检查端子的贴膜质量,看贴膜的位置是否为不需要镀导电膜的部位,如果不是,则撕去绝缘膜,重新贴绝缘膜,从而即便端子的绝缘膜贴膜位置误差较大,也不会导致端子报废;S5、电镀:将端子放入镀槽内,在端子表面进行镀导电膜处理,镀导电膜采用现有镀导电膜的工艺进行电镀;S6、除绝缘膜:将镀导电膜后的端子上的绝缘膜撕去,得到端子产品。步骤S2中,所述的绝缘膜为PI膜、PE膜或PET膜。所述底带的两侧沿其长度方向分别通过打靶机开有定位孔,拖料机构通过定位孔将底带向前拖动。本文档来自技高网...

【技术保护点】
端子局部屏蔽方法,其特征在于:包括以下步骤:S1、前处理:将用于成型端子的底带置于底带槽内,由拖料机构向前拖动,同时通过除尘装置对底带表面进行除尘处理;S2、冲压成型:将底带引入冲压成型模具内,冲压成型模具对底带进行冲压成型,得到端子;S3、贴膜:将端子不需要电镀的部位,进行贴绝缘膜处理;S4、检查:检查端子的贴膜质量;S5、电镀:将端子放入镀槽内,在端子表面进行镀导电膜处理;S6、除绝缘膜:将镀导电膜后的端子上的绝缘膜撕去,得到端子产品。

【技术特征摘要】
1.端子局部屏蔽方法,其特征在于:包括以下步骤:S1、前处理:将用于成型端子的底带置于底带槽内,由拖料机构向前拖动,同时通过除尘装置对底带表面进行除尘处理;S2、冲压成型:将底带引入冲压成型模具内,冲压成型模具对底带进行冲压成型,得到端子;S3、贴膜:将端子不需要电镀的部位,进行贴绝缘膜处理;S4、检查:检查端子的贴膜质量;S5、电镀:将端子...

【专利技术属性】
技术研发人员:李云仕滕斌刘家健方华白垣胜赵景勋蒋潇何勇
申请(专利权)人:成都宏明双新科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:四川;51

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