一种高分子水处理药剂与磁场共用使用的水处理方法技术

技术编号:1440902 阅读:206 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术为高分子水处理药剂与磁场共同使用的水处理方法,涉及工业设备循环用水、供暖用水、农业用水的净化以及工业废水的处理。采用高分子水处理药剂与磁场共同作用,根据水质具体情况加入无机或有机高分子水处理药剂或二者共同使用,在磁场作用下混合后,经过的砂滤净化得到的出水,再经过磁场赋磁后与溶液中溶解的小分子基团协同作用,最终达到为各种设备提供用水的目的。其特点是一次投入少量的药剂,可同时达到阻垢-杀菌除藻-缓蚀几种功能的效果。(*该技术在2020年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
一种高分子水处理药剂与磁场共同使用的水处理方法。本专利技术涉及水的处理方法,特别是工业设备循环用水、供暖用水、农业用水的净化以及工业废水的处理方法。目前,水处理方法经过多年研究,已经形成了许多种类的处理技术,有物理、化学、生物以及综合处理技术。在工业设备循环用水、供暖用水和农业用水的净化处理中,物理法多采用离子交换、过滤、电场、磁场和光处理等方法,当水质污染比较严重时,这些方法的处理效果不稳定;化学法需要加入大量的化学药剂,且各种药剂的投入本身也带来水质二次污染。同时,为解决结垢、腐蚀和细菌藻类等问题所加入的药剂之间也会相互影响,产生副作用而影响综合处理效果。有关废水处理多采用物理-化学-生物综合处理技术,该方法投资多,设施大,运行费用高。申请号93110046.1专利技术专利公开了一种磁场处理与化学处理共同作用的水处理方法与装置。该方法针对设备用水,采用的是在水处理前加入碱性物质NaOH或Na2CO3,将水质调至pH值为7.5~11.5,硬度值小于7mg/L,再经过磁场处理,达到防止设备结垢,有助于防腐的目的。但这种方法没有净化除杂过程,所以不适合污染严重、含杂较高的工业废水的处理,从而达不到再次使用目的。这种方法对防腐的有益作用仅是由于加入碱性物质,降低了水溶液的酸性所致,因而该方法的应用范围受到一定的限制。本专利技术目的在于提供一种效果稳定,污染小,运行方便,投资少,应用范围广的水处理方法。本专利技术目的通过以下技术方案来实现采用高分子水处理药剂与磁场共同作用,根据水质具体情况加入无机或有机高分子水处理药剂或二者共同使用,在磁场作用下混凝后,经过的砂滤净化得到的出水,再经过磁场赋磁后与溶液中溶解的小分子基团协同作用,最终达到为各种设备提供用水的目的。本专利技术的特征是磁场处理和高分子药剂之间具有相互强化的协同作用。为达到较佳的处理效果,首先对原水的水质中固体悬浮物、金属离子、有机物和细菌藻类进行分析,并结合用水的水质要求,确定药剂的加入量,磁场作用强度和具体工艺。加入的无机高分子药剂可以是铝、铁的聚合物或铝铁的共同聚合物;有机高分子可用天然植物改性高分子或具有多糖、酰胺、硅氧等基团的复配高分子及类似的分子量分布在十万到一百万的高分子药剂。对于用水要求偏酸性的可适当提高无机高分子用量,根据不同的水质可以有不同的加入范围,通常在1mg/L~10mg/L范围内;对于用水要求为偏碱性的情况,可以适当提高有机高分子药剂的加入量,一般在0.1mg/L~2mg/L范围内。与现有技术相比的积极效果首先是高分子药剂在磁场协同作用下的混凝过程,这将有利于水体中的悬浮物、金属离子和细菌藻类物质与高分子中分子量较大部分基团形成絮体,经过滤后除去。高分子中分子量较小的基团溶解于水体中,在磁场的协同作用下与钙离子络合,起到阻垢作用,且还在金属管道的表面形成含有铁离子的致密化合物薄膜起到缓蚀作用,所以本专利技术具有净化、阻垢、杀菌除藻和缓蚀效果,由于降低了化学药剂的加入量,减少了对环境的危害程度。附图说明图1是本专利技术的工艺流程图,其说明可参见给出的实施例。实施例1废水处理作为工业给水某冶炼厂废水主要成分(mg/L):COD:300;pH=7.6;重金属离子>23mg/L;浊度52NTU。加入药剂聚合硫酸铁8mg/L,天然植物高分子改性药剂CMS或CGA3mg/L,经过0.4T的磁场,流量5ml/min处理后,搅拌20分钟,静止20分钟,过滤后上清液浊度1.6NTU,COD:45,重金属离子<0.06mg/L,pH值为8.3。再进行0.5T的磁场处理。最后测试结果为阻垢率92%,杀菌率93%,缓蚀率97%,符合工业循环水的规范,可作为工业设备冷却水使用。实施例2地面水处理作为工业给水原地面水pH值为7.06;浊度8.2 NTU;藻类230万个。试验药剂加入量为无机高分子药剂为聚合氯化铝2mg/L~10mg/L,有机高分子药剂为聚丙烯酰胺与活性硅酸1∶1复配0.1mg/L~2mg/L,磁场处理强度为0.1~0.8T。过滤后水的pH值大于8,再经0.5T磁场处理,试验结果见表1表1实验净化效果 由表1可以看出,阻垢、杀菌和缓蚀效果为阻垢率76%~98%,杀菌率75%~93%,缓蚀率78%~96%,符合工业循环水规范,可作为工业设备冷却水使用。权利要求1.一种高分子水处理药剂与磁场共同使用的水处理方法,首先要对所处理的水质成份进行分析测试,并用石灰调节pH值在7以上,根据所要求达到的指标,确定药剂的加入种类、药剂的加入量以及磁场的处理参数,进行混凝处理。本专利技术的特征在于所采用的化学药剂是高分子水处理药剂,并在磁场的作用下加入到水中进行混凝处理后,再对处理水进行过滤,过滤后的水再经磁场的作用达到使用的目的。2.根据权利要求1所述水处理方法,其特征在于高分子药剂可以是无机高分子、有机高分子或两者共同使用,加入的无机高分子可以是聚合铝、铁或铝铁共同的聚合物,有机高分子可以用天然植物改性高分子,也可以用是含有多糖、酰胺和硅氧基团的复配高分子或分子量分布在十万到一百万的高分子药剂。3.根据权利要求1所述的水处理方法,其特征在于加入无机高分子药剂量范围在0.5mg/L~10mg/L,有机高分子药剂加入量范围在0.1mg/L~2mg/L。4.根据权利1所述的水处理方法,其特征在于对高分子药剂的磁场的作用强度为0.1T~1T,过滤后的水再经磁场的作用强度为0.2T~1T。全文摘要本专利技术为高分子水处理药剂与磁场共同使用的水处理方法,涉及工业设备循环用水、供暖用水、农业用水的净化以及工业废水的处理。采用高分子水处理药剂与磁场共同作用,根据水质具体情况加入无机或有机高分子水处理药剂或二者共同使用,在磁场作用下混合后,经过的砂滤净化得到的出水,再经过磁场赋磁后与溶液中溶解的小分子基团协同作用,最终达到为各种设备提供用水的目的。其特点是一次投入少量的药剂,可同时达到阻垢-杀菌除藻-缓蚀几种功能的效果。文档编号C02F9/12GK1323752SQ0011039公开日2001年11月28日 申请日期2000年5月11日 优先权日2000年5月11日专利技术者马伟, 郭丽燕 申请人:大连理工大学 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高分子水处理药剂与磁场共同使用的水处理方法,首先要对所处理的水质成份进行分析测试,并用石灰调节pH值在7以上,根据所要求达到的指标,确定药剂的加入种类、药剂的加入量以及磁场的处理参数,进行混凝处理。本专利技术的特征在于所采用的化学药剂是高分子水处理药剂,并在磁场的作用下加入到水中进行混凝处理后,再对处理水进行过滤,过滤后的水再经磁场的作用达到使用的目的。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:马伟郭丽燕
申请(专利权)人:大连理工大学
类型:发明
国别省市:91[中国|大连]

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