被除去物的除去方法技术

技术编号:1439962 阅读:181 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种被除去物的除去方法,在以往的CMP等机械加工所产生的排水,由于在CMP研磨膏中包含砂粒的微小颗粒形成为胶体溶液,而没有有效的过滤方法。本发明专利技术的除去物的除去方法由第1过滤器1表面吸引所形成的凝胶膜构成第2过滤器2过滤含有胶体溶液微小颗粒的排水。此时吸引压力极微弱,在维持一定过滤量同时,即延迟第2过滤器2堵塞又维持过滤能力,由此也可以除去0.15μm以下的微小颗粒。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及到,主要是关于在胶体溶液(溶胶)中含有0.15μm以下的非常微小的被除去物的流体。
技术介绍
现在,减少产业废弃物,还有产业废弃物分类后再利用或者产业废弃物不向自然界中排放,从生态观点来看是重要的主题,21世纪的企业课题。在产业废弃物中,有含有被除去物的各种各样的流体。这些流体用污水、排水、废液等各种各样的语言来表达,下面把水和药品等流体中所含有的作为被除去物的物质称为排水来进行说明。这些排水用高昂的过滤处理装置等除去所述被除去物,或者把排水变为干净的水再利用,分类的被除去物或者不能过滤的剩余物作为产业废弃物进行处理。特别是水,利用过滤以满足环境标准的干净状态返回河与海,或者再利用。但是,从过滤处理等的设备费用,运行成本等的问题来看,采用这些装置是非常困难的,并且还会引起环境问题。从这些问题可以看出,排水处理的技术,从环境污染来看,及从再利用的观点来看是重要的问题,希望尽快有低原价、低运行费的系统。下面作为一例,说明在半导体领域中进行的排水处理。一般地,在对金属、半导体、陶瓷等的板状体进行磨削或研磨时,考虑到防止由于摩擦而使研磨(磨削)的夹具等温度上升、提高润滑性、本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种被除去物的除去方法,其特征在于,利用由凝胶形成的过滤器过滤含在流体中的被除去物。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:梅泽浩之井关正博対比地元幸饭沼宏文
申请(专利权)人:三洋电机株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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