阵列基板、阵列基板的制作方法及液晶显示面板技术

本发明专利技术提供一种阵列基板，其包括衬底基板、彩色色阻、第一聚合物层、第一黑色矩阵衬垫、第二聚合物层以及第二黑色矩阵衬垫；彩色色阻设置在衬底基板的显示区域上；第一聚合物层设置在彩色色阻上；第一黑色矩阵衬垫设置在衬底基板的显示区域上，包括第一黑色矩阵以及第一衬垫；第二聚合物层设置在衬底基板的非显示区域，其包括至少一个凹槽区域；第二彩色色阻设置在衬底基板的部分非显示区域；第二黑色矩阵衬垫设置在衬底基板的非显示区域，包括第二黑色矩阵以及第二衬垫。本发明专利技术还提供一种液晶显示面板及阵列基板的制作方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶面板制作领域，特别是涉及一种阵列基板、阵列基板的制作方法及液晶显示面板。
技术介绍
随着液晶显示技术的发展，对人们对液晶显示面板的要求越来越高，如高亮度的液晶显示面板或高分辨率的液晶显示面板灯。为了提高液晶显示面板的亮度，最佳的做法即为提高液晶显示面板的开口率。因此现有的液晶显示面板采用一种BPS(BlackPhotoSpacer)技术来制作阵列基板，即通过一次BPS制程，代替原有的BM(BlackMatrix)制程以及PS(PhotoSpacer)制程。具体请参照图1，图1为现有的液晶显示面板的阵列基板的结构示意图。该阵列基板10包括衬底基板11、彩色色阻12、第一聚合物层13(PFA，polymerfilmonarray))以及第一黑色矩阵衬垫14以及设置在阵列基板的非显示区域的第二聚合物层15以及第二黑色矩阵衬垫16。其中第一黑色矩阵衬垫14包括第一黑色矩阵141以及设置在第一黑色矩阵141上的第一衬垫142，第二黑色矩阵衬垫16包括第二黑色矩阵161以及设置在第二黑色矩阵161上的第二衬垫162。第一衬垫132和第二衬垫162均通过对相应的黑色矩阵层进行图形化处理形成。显示区域的第一黑色矩阵衬垫14和非显示区域的第二黑色矩阵衬垫16同时制作，由于显示区域具有彩色色阻12进行辅助遮光操作，因此显示区域的第一黑色矩阵131的遮光率的要求较低。如果非显示区域的第二黑色矩阵161的高度与第一黑色矩阵131的高度一致，由于第二黑色矩阵161的遮光率较低，可能会导致阵列基板10的非显示区域产生漏光现象。故，有必要提供一种阵列基板、阵列基板的制作方法及液晶显示面板，以解决现有技术所存在的问题。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种非显示区域的黑色矩阵的遮光率较高且非显示区域设置有相应的衬垫、以保证画面显示质量的阵列基板、阵列基板的制作方法及液晶显示面板；以解决现有的液晶显示面板的非显示区域容易出现漏光现象，或画面显示质量较差的技术问题。本专利技术实施例提供一种阵列基板，其包括：衬底基板；彩色色阻，设置在所述衬底基板的显示区域上，用于将出射的白光转换为彩光；第一聚合物层，设置在所述彩色色阻上，用于对所述彩色色阻和所述第一黑色矩阵衬垫进行隔离操作；所述第一黑色矩阵衬垫，设置在所述衬底基板的显示区域上，包括用于遮光的第一黑色矩阵，以及用于保持所述阵列基板和相应的彩膜基板之间间距的第一衬垫；第二聚合物层，设置在所述衬底基板的非显示区域，用于对所述衬底基板和第二黑色矩阵衬垫进行隔离操作；其中所述第二聚合物层包括至少一个凹槽区域；以及所述第二黑色矩阵衬垫，设置在所述衬底基板的非显示区域，包括用于遮光的第二黑色矩阵，以及所述第二黑色矩阵在所述凹槽区域的第二聚合物层的作用下形成的第二衬垫。在本专利技术所述的阵列基板中，所述第一黑色矩阵衬垫和所述第二黑色矩阵衬垫通过以下步骤制成：在所述衬底基板的显示区域上设置所述第一聚合物层，在所述衬底基板的非显示区域上设置所述第二聚合物层；对所述第二聚合物层进行图形化处理，以形成所述第二聚合物层的凹槽区域；在所述衬底基板上沉积黑色矩阵层，以在所述衬底基板的非显示区域上形成所述第二黑色矩阵衬垫；以及对所述黑色矩阵层进行图形化处理，以在所述衬底基板的显示区域上形成所述第一黑色矩阵衬垫。在本专利技术所述的阵列基板中，所述第二黑色矩阵衬垫中的第二衬垫的高度与所述第二聚合物层的高度大致相同。在本专利技术所述的阵列基板中，所述第一黑色矩阵衬垫包括用于保持所述阵列基板和相应的彩膜基板之间常规间距的第一主衬垫，以及用于保持所述阵列基板和相应的彩膜基板之间的按压间距的第一子衬垫。在本专利技术所述的阵列基板中，所述第二黑色矩阵的高度，与所述第一黑色矩阵与所述第一主衬垫的高度之和大致相同。在本专利技术所述的阵列基板中所述彩色色阻包括红色色阻、蓝色色阻以及绿色色阻。本专利技术实施例还提供一种使用上述阵列基板的液晶显示面板。本专利技术实施例还提供一种阵列基板的制作方法，其包括：提供一衬底基板，在所述衬底基板的显示区域上设置彩色色阻；在所述彩色色阻上设置第一聚合物层，在所述衬底基板的非显示区域上设置第二聚合物层；对所述第二聚合物层进行图形化处理，以形成所述第二聚合物层的凹槽区域；在所述衬底基板上沉积黑色矩阵层，以在所述衬底基板的非显示区域上形成第二黑色矩阵衬垫，其中所述第二黑色矩阵衬垫包括第二黑色矩阵以及第二衬垫；以及对所述黑色矩阵层进行图形化处理，以在所述衬底基板的显示区域上形成第一黑色矩阵衬垫，其中所述第一黑色矩阵衬垫包括第一黑色矩阵以及第一衬垫。在本专利技术所述的阵列基板的制作方法中，所述第二黑色矩阵衬垫中的第二衬垫的高度与所述第二聚合物层的高度大致相同。在本专利技术所述的阵列基板的制作方法中，所述第一黑色矩阵衬垫包括用于保持所述阵列基板和相应的彩膜基板之间常规间距的第一主衬垫，以及用于保持所述阵列基板和相应的彩膜基板之间的按压间距的第一子衬垫。相较于现有的阵列基板、阵列基板的制作方法及液晶显示面板，本专利技术的阵列基板、阵列基板的制作方法及液晶显示面板通过具有凹槽区域的第二聚合物层的设置，提高了液晶显示面板的非显示区域的遮光率以及在非显示区域设置有相应的衬垫；解决了现有的液晶显示面板的非显示区域容易出现漏光现象，或画面显示质量较差的技术问题。为让本专利技术的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下：附图说明图1为现有的液晶显示面板的阵列基板的结构示意图；图2为本专利技术的阵列基板的优选实施例的结构示意图；图3为本专利技术的阵列基板的制作方法的优选实施例的流程图；图4为本专利技术的阵列基板的制作方法的优选实施例的制作结构示意图之一；图5为本专利技术的阵列基板的制作方法的优选实施例的制作结构示意图之二。具体实施方式以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本专利技术可用以实施的特定实施例。本专利技术所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本专利技术，而非用以限制本专利技术。在图中，结构相似的单元是以相同标号表示。请参照图2，图2为本专利技术的阵列基板的优选实施例的结构示意图。本优选实施例的阵列基板20包括衬底基板21、彩色色阻22、第一聚合物层23、第一黑色矩阵衬垫24、第二聚合物层25以及第二黑色矩阵衬垫26。彩色色阻22设置在衬底基板21的显示区域上，用于将出射的白光转换为彩光；第一聚合物层23设置在彩色色阻22上，用于对彩色色阻22和第一黑色矩阵衬垫24进行隔离操作，可作为彩色色阻22和第一黑色矩阵衬垫24之间的绝缘层；第一黑色矩阵衬垫24设置在衬底基板21的显示区域上，包括用于遮光的第一黑色矩阵241以及用于保持阵列基板和相应的彩膜基板之间间距的第一衬垫；第二聚合物层25设置在衬底基板21的非显示区域，用于对衬底基板21和第二黑色矩阵衬垫26进行隔离操作，其中第二聚合物层25包括至少一个凹槽区域251；第二黑色矩阵衬垫26设置在衬底基板21的非显示区域，包括用于遮光的第二黑色矩阵261以及第二黑色矩阵261在凹槽区域251的第二聚合物层25的作用下形成的第二衬垫262。其中第二黑色矩阵衬垫26中的第二衬垫262的高本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底基板；彩色色阻，设置在所述衬底基板的显示区域上，用于将出射的白光转换为彩光；第一聚合物层，设置在所述彩色色阻上，用于对所述彩色色阻和所述第一黑色矩阵衬垫进行隔离操作；所述第一黑色矩阵衬垫，设置在所述衬底基板的显示区域上，包括用于遮光的第一黑色矩阵，以及用于保持所述阵列基板和相应的彩膜基板之间间距的第一衬垫；第二聚合物层，设置在所述衬底基板的非显示区域，用于对所述衬底基板和第二黑色矩阵衬垫进行隔离操作；其中所述第二聚合物层包括至少一个凹槽区域；以及所述第二黑色矩阵衬垫，设置在所述衬底基板的非显示区域，包括用于遮光的第二黑色矩阵，以及所述第二黑色矩阵在所述凹槽区域的第二聚合物层的作用下形成的第二衬垫。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底基板；彩色色阻，设置在所述衬底基板的显示区域上，用于将出射的白光转换为彩光；第一聚合物层，设置在所述彩色色阻上，用于对所述彩色色阻和所述第一黑色矩阵衬垫进行隔离操作；所述第一黑色矩阵衬垫，设置在所述衬底基板的显示区域上，包括用于遮光的第一黑色矩阵，以及用于保持所述阵列基板和相应的彩膜基板之间间距的第一衬垫；第二聚合物层，设置在所述衬底基板的非显示区域，用于对所述衬底基板和第二黑色矩阵衬垫进行隔离操作；其中所述第二聚合物层包括至少一个凹槽区域；以及所述第二黑色矩阵衬垫，设置在所述衬底基板的非显示区域，包括用于遮光的第二黑色矩阵，以及所述第二黑色矩阵在所述凹槽区域的第二聚合物层的作用下形成的第二衬垫。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一黑色矩阵衬垫和所述第二黑色矩阵衬垫通过以下步骤制成：在所述衬底基板的显示区域上设置所述第一聚合物层，在所述衬底基板的非显示区域上设置所述第二聚合物层；对所述第二聚合物层进行图形化处理，以形成所述第二聚合物层的凹槽区域；在所述衬底基板上沉积黑色矩阵层，以在所述衬底基板的非显示区域上形成所述第二黑色矩阵衬垫；以及对所述黑色矩阵层进行图形化处理，以在所述衬底基板的显示区域上形成所述第一黑色矩阵衬垫。3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第二黑色矩阵衬垫中的第二衬垫的高度与所述第二聚合物层的高度大致相同。4.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述第一黑色矩阵衬...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶成亮，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44