偏光板、偏光板的制造方法以及包括偏光板的光学显示器技术

本发明专利技术提供一种偏光板、偏光板的制造方法以及包含偏光板的光学显示器。所述偏光板包含偏光器和形成于所述偏光器的下表面上的第一粘着层，其中第一粘着层包含玻璃化温度为大约50℃或更高的粘着性树脂，并且第一粘着层在大约380纳米到大约780纳米的波长下的雾度为大约1％或更低。所述偏光板在断裂时或再加工时的恶劣条件下展现出良好的耐久性。

【技术实现步骤摘要】
相关申请的交叉引用本申请要求2015年6月18日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2015-0086942号的权益，所述专利申请以全文引用的方式并入本文中。
本专利技术涉及一种偏光板、一种偏光板制造方法以及一种包含偏光板的光学显示器。
技术介绍
向光学显示器提供偏光板以防外部光反射，或使光源发出的光偏振。光学显示器可以包含液晶显示器、有机发光显示器和可绕式有机发光显示器。近年来，向光学显示器施加量子点以便改进彩色再现和可视度。近年来，通过仅仅在偏光器的一个表面上形成保护膜，借此将偏光板制造成减小的厚度。仅仅在偏光器的一个表面上形成有保护膜的偏光板可能会由于外部湿气穿透偏光器的另一个表面而遇到耐久性的降低，并且还可能在热冲击状况下遇到偏光器的抗裂性的降低。为了解决这些问题，在偏光器的另一个表面上形成粘着层，使得偏光板可以经由粘着层固定到光学显示器中的光学装置，以便改进偏光板的耐久性和抗裂性。粘着层需要改进偏光板的耐久性和抗裂性，同时呈现良好的透明度以便用于光学显示器中。另外，随着可绕式显示器近年来的发展，对于改进偏光板的可绕式的研究也在继续。日本专利公开案第2013-072951 A号等等中公开了本专利技术的
技术介绍
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技术实现思路
根据本专利技术的一个方面，提供一种偏光板，所述偏光板包含偏光器和形成于所述偏光器的下表面上的第一粘着层，其中第一粘着层包含玻璃化温度为大约50℃或更高的粘着性树脂，并且第一粘着层在大约380纳米到大约780纳米的波长下的雾度为大约1％或更低。在本专利技术的一实施例中，第一粘着层可进一步包括用脲基甲酸酯基团改性后的聚异氰酸酯固化剂。在本专利技术的一实施例中，偏光板可进一步包括第二粘着层，其形成于第一粘着层的下表面上，其中偏光板在大约380纳米到大约780纳米的波长下的雾度为大约1％或更低。在本专利技术的一实施例中，偏光器的下表面可受到电晕处理、等离子体处理和底涂剂处理中的至少一项处理。在本专利技术的一实施例中，第一粘着层可直接形成于偏光器的下表面上。在本专利技术的一实施例中，第一粘着层的拉伸模量根据ASTM D882测量可为大约10兆帕到小于大约2,000兆帕。在本专利技术的一实施例中，第二粘着层的拉伸模量根据ASTM D882测量可低于所述第一粘着层。在本专利技术的一实施例中，用脲基甲酸酯基团改性后的所述聚异氰酸酯固化剂的存在量按100重量份的粘着性树脂计可为大约5重量份到大约50重量份。在本专利技术的一实施例中，用脲基甲酸酯基团改性后的聚异氰酸酯固化剂可包括用脲基甲酸酯基团改性后的四亚甲基二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、十二亚甲基二异氰酸酯和三甲基六亚甲基二异氰酸酯中的至少一种。在本专利技术的一实施例中，第一粘着层的厚度可为大约5微米到大约40微米。在本专利技术的一实施例中，偏光板可进一步包括形成于偏光器的上表面上的保护层。在本专利技术的一实施例中，第二粘着层的拉伸模量根据ASTM D882测量可为大约0.01兆帕到小于大约1兆帕。在本专利技术的一实施例中，第二粘着层的厚度可大于第一粘着层。根据本专利技术的另一个方面，提供一种偏光板，所述偏光板包含偏光器和形成于所述偏光器的下表面上的第一粘着层，其中第一粘着层包含玻璃化温度为大约50℃或更高的粘着性树脂，以及用脲基甲酸酯基团改性后的聚异氰酸酯固化剂。根据本专利技术的另一方面，提供一种偏光板，所述偏光板包含：偏光器；形成于偏光器的上表面上的保护层；形成于偏光器的下表面上的第一粘着层；以及形成于第一粘着层的下表面上的第二粘着层，其中所述第一粘着层包含玻璃化温度为大约50℃或更高的粘着性树脂，并且所述第一粘着层在大约380纳米到大约780纳米的波长下的雾度为大约1％或更低。根据本专利技术的又一方面，提供一种制造偏光板的方法，其包含：同时涂布第二粘着层用的组合物和第一粘着层用的组合物，然后执行干燥以形成堆叠结构，所述堆叠结构中包括第一粘着层用的薄片和第二粘着层用的薄片；将第一粘着层用的薄片与偏光器的一个表面层合；以及固化第二粘着层用的薄片和第一粘着层用的薄片。在本专利技术的一实施例中，堆叠结构可包括所述第一粘着层用的所述薄片和依次堆叠在上面的所述第二粘着层用的所述薄片。在本专利技术的一实施例中，在与第一粘着层用的薄片层合之前，偏光器的一个表面可受到电晕处理、等离子体处理和底涂剂处理中的至少一项处理。在本专利技术的一实施例中，第一粘着层用的组合物可包括玻璃化温度为50℃或更高的粘着性树脂和用脲基甲酸酯基团改性后的聚异氰酸酯固化剂。根据本专利技术的又一方面，提供一种包含如上文所阐述的偏光板的光学显示器。本专利技术提供这样一种偏光板，该偏光板包含仅仅形成在偏光器的一个表面上的保护层，并且在断裂时或再加工时的恶劣条件下展现出良好的耐久性。本专利技术提供这样一种偏光板，该偏光板包含仅仅形成在偏光器的一个表面上的保护层，并且在高温和/或高湿度条件下或在热冲击条件下防止偏光器中产生开裂和/或偏光器的变色。本专利技术提供这样一种偏光板，该偏光板包含仅仅形成在偏光器的一个表面上的保护层和具有高拉伸模量的粘着层，该粘着层是通过在不使用可热固化引发剂的情况下的热固化获得的。本专利技术提供这样一种偏光板，该偏光板包含仅仅形成在偏光器的一个表面上的保护层，并且展现出良好的可绕式以用于可绕式显示器。附图说明图1是根据本专利技术的一个实施例的偏光板的横截面图。图2是根据本专利技术的另一个实施例的偏光板的横截面图。图3是根据本专利技术的另一个实施例的制造偏光板的方法的流程图。具体实施方式下文将参照附图详细描述本专利技术的实施例。应理解，本专利技术不限于以下实施例且可以用不同方式具体实施，且给出以下实施例是为了提供本专利技术的完整公开并且便于所属领域的技术人员透彻理解本专利技术。应注意，附图的比例并不是精确的，而且为了便于附图中清楚地描述，有些尺寸，例如宽度、长度、厚度等等经过放大。图式中将通过类似参考标号表示类似组件。本文所使用的如“上”和“下”的空间上相对的术语是参照附图定义的。因此，应了解，“上”与“下”可以互换使用。此外，应理解，当将一个层称为“在”另一层“上”时，这个层可以直接在另一层上形成或者还可以存在介入层。因此，应理解，当将层称为“直接在”另一层“上”时，其间不插入介入层。本文所使用的“拉伸模量(tensile modulus)”是根据ASTM D882测量的。本文所使用的“剥落强度(peel strength)”是根据JIS2107测量的，并且意味着第一粘着层或第二粘着层与玻璃衬底之间的180°剥离强度。本文所使用的在弯曲偏光板时生成的圆形区段的一个点处的术语“曲率半径”是由圆形区段的对应点处的假想接触圆的半径限定的，其中假想接触圆比任何其它假想圆更接近所述圆形区段。本文所使用的术语“(甲基)丙烯酰基”是指丙烯酰基和/或甲基丙烯酰基。本文所使用的“被取代或未被取代的”中的术语“被取代的”意思是相应官能团中的至少一个氢原子被C1到C10烷基、羟基、氨基、C6到C10芳基、卤素原子、氰基、C3到C10环烷基或C7到C10芳烷基取代。下文中，将参考图1详细地描述根据本专利技术的一个实施例的偏光板。图1是根据本专利技术的一个实施例的偏光板的横截面图。参看图1，根据本专利技术的一个实施例的偏光板100可以包含偏光器110、保护层120和第一粘着层130。偏光本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种偏光板，其特征在于，包括：偏光器；以及第一粘着层，形成于所述偏光器的下表面上，其中所述第一粘着层包括玻璃化温度为50℃或更高的粘着性树脂，并且所述第一粘着层在380纳米到780纳米的波长下的雾度为1％或更低。

【技术特征摘要】
2015.06.18 KR 10-2015-00869421.一种偏光板，其特征在于，包括：偏光器；以及第一粘着层，形成于所述偏光器的下表面上，其中所述第一粘着层包括玻璃化温度为50℃或更高的粘着性树脂，并且所述第一粘着层在380纳米到780纳米的波长下的雾度为1％或更低。2.根据权利要求1所述的偏光板，其特征在于，所述第一粘着层进一步包括用脲基甲酸酯基团改性后的聚异氰酸酯固化剂。3.根据权利要求1所述的偏光板，其特征在于，进一步包括：第二粘着层，其形成于所述第一粘着层的下表面上，其中所述偏光板在380纳米到780纳米的波长下的雾度为1％或更低。4.根据权利要求1所述的偏光板，其特征在于，所述偏光器的所述下表面受到电晕处理、等离子体处理和底涂剂处理中的至少一项处理。5.根据权利要求1所述的偏光板，其特征在于，所述第一粘着层直接形成于所述偏光器的所述下表面上。6.根据权利要求1所述的偏光板，其特征在于，所述第一粘着层的拉伸模量根据ASTM D882测量为10兆帕到小于2,000兆帕。7.根据权利要求3所述的偏光板，其特征在于，所述第二粘着层的拉伸模量根据ASTM D882测量低于所述第一粘着层。8.根据权利要求2所述的偏光板，其特征在于，用所述脲基甲酸酯基团改性后的所述聚异氰酸酯固化剂的存在量按100重量份的所述粘着性树脂计为5重量份到50重量份。9.根据权利要求2所述的偏光板，其特征在于，用所述脲基甲酸酯基团改性后的所述聚异氰酸酯固化剂包括用所述脲基甲酸酯基团改性后的四亚甲基二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、十二亚甲基二异氰酸酯和三甲基六亚甲基二异氰酸酯中的至少一种。10.根据权利要求1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑宇镇，李承俊，
申请(专利权)人：三星SDI株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国;KR