膜厚测定装置和膜厚测定方法制造方法及图纸

技术编号:14311911 阅读:55 留言:0更新日期:2016-12-27 22:49
本发明专利技术提供一种能够在短时间内测定形成于基板的有机膜的膜厚分布的膜厚测定装置和膜厚测定方法。实施方式的膜厚测定装置包括照射部、拍摄部和控制部。照射部将紫外光照射到形成有有机膜的基板上的照射区域。拍摄部对受到紫外光的照射的照射区域进行拍摄。控制部基于由拍摄部拍摄的拍摄图像的亮度分布求取有机膜的膜厚分布。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术所公开的实施方式涉及膜厚测定装置和膜厚测定方法
技术介绍
在现有技术中,已知作为利用有机EL(Electroluminescence:场致发光)的发光的发光二极管的有机发光二极管(OLED:Organic Light Emitting Diode)。利用该有机发光二极管的有机EL显示器不仅薄且轻并且消耗电力低,而且还具有在响应速度、视角、对比度方面优异之类的优点,所以近年来作为下一代平板显示器(FPD:flat panel display)受到关注。有机发光二极管具有在基板上的阳极和阴极之间夹着有机EL层的结构。有机EL层例如从阳极侧依次层叠空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层而形成。在形成该层叠结构时,例如使用利用喷墨方式分别涂敷空穴注入层、空穴传输层和发光层的方法(参照专利文献1)。此处,在有机发光二极管的制造工序中,有时对涂敷在基板上的有机EL层的膜厚进行测定。作为这种测定膜厚的方法,例如已知通过使探针与对象物接触测定膜厚的接触式、和将光照射到对象物并利用其反射光测定膜厚的光学式。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2008-233833号公本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种膜厚测定装置,其特征在于,包括:将紫外光照射到对形成有有机膜的基板上的照射区域的照射部;对受到所述紫外光的照射的所述照射区域进行拍摄的拍摄部;和基于由所述拍摄部拍摄的拍摄图像的亮度分布求取所述有机膜的膜厚分布的控制部。

【技术特征摘要】
2015.03.30 JP 2015-0687841.一种膜厚测定装置,其特征在于,包括:将紫外光照射到对形成有有机膜的基板上的照射区域的照射部;对受到所述紫外光的照射的所述照射区域进行拍摄的拍摄部;和基于由所述拍摄部拍摄的拍摄图像的亮度分布求取所述有机膜的膜厚分布的控制部。2.如权利要求1所述的膜厚测定装置,其特征在于:所述控制部从所述拍摄图像求取形成在所述基板上的一个堤内的所述有机膜的亮度分布,并基于所求出的所述亮度分布求取所述堤内的所述有机膜的膜厚分布。3.如权利要求1或2所述的膜厚测定装置,其特征在于:通过对所述亮度分布乘以规定的转换系数,来求取所述膜厚分布。4.如权利要求1或2所述的膜厚测定装置,其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员:八寻俊一尾上幸太朗田中茂喜
申请(专利权)人:东京毅力科创株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1