一种升降机构制造技术

本发明专利技术实施例提供一种升降机构，涉及基板承载机械装置领域，能够减少待加工基板在升降过程中的静电击穿现象的发生。该升降机构，用于承载待加工基板，包括多个支杆，支杆的支撑端设置有支承部，支承部用于在升降机构承载待加工基板时通过支承部的支承面与待加工基板相接触。升降机构还包括离子风供应装置，在支杆内部设置有贯通的通道，用于将离子风供应装置输出的离子风输送至支杆的通道内。在支承部上至少位于支承面的位置设置有与支杆的通道相连通的出气孔，离子风供应装置输送的离子风通过出气孔吹向待加工基板。

Lifting mechanism

The embodiment of the invention provides a lifting mechanism, which relates to the field of the bearing mechanism of the substrate, and can reduce the occurrence of the static breakdown phenomenon of the substrate to be processed during the lifting process. The lifting mechanism for bearing the processed substrate includes a plurality of support rods, rod supporting end is provided with a supporting part for supporting part in lifting mechanism bearing the processed substrate through the supporting surface of the supporting portion in contact with the substrate to be processed. The lifting mechanism also comprises an ion wind supply device, wherein, the inner part of the supporting rod is provided with a through passage which is used for conveying the ion wind output from the ion wind supply device to the channel of the supporting rod. At least the supporting part is provided with an air outlet which is connected with the passage of the supporting rod at the position of the supporting surface.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及基板承载机械装置领域，尤其涉及一种升降机构。
技术介绍
在TFT-LCD(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，薄膜晶体管液晶显示器)的工艺生产过程中，很多工艺制程都需要将基板放置在升降机构的承载平台上进行，在放置待加工基板以及在不同工艺制程之间移动拿取待加工基板的过程中，需要通过升降机构的支杆进行操作。现有技术中的升降机构，如图1所示，是在支杆02的顶部设置硬质橡胶端021，硬质橡胶端021能够通过承载平台04上的安装孔b相对于承载平台04上下移动，当待加工基板01运送至承载平台04上方时，支杆02分别由对应的安装孔b中升起支撑待加工基板01，并缓慢下降直至收于承载平台04内，使待加工基板01平稳的放置在承载平台04上。当工艺制成结束后，支杆02升起，推动待加工基板01与承载平台04分离，并继续支撑待加工基板01上升，上升到一定高度后，由移动机械手抓取并转运。在待加工基板01的工艺制程过程中难以避免的会使待加工基板01与承载平台04之间产生摩擦，这样就会使待加工基板01上产生静电，尤其是在支杆02推动待加工基板01与承载平台04分离的瞬间，由于支杆02的硬质橡胶端021的端部面积较小且材质较硬，与待加工基板01相接触的位置极易发生尖端放电导致静电击穿，使得待加工基板01内部走线的金属层或ITO(Indium Tin Oxide，氧化铟锡)层烧毁。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种升降机构，能够减少待加工基板在升降过程中的静电击穿现象发生。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：本专利技术实施例提供一种升降机构，用于承载待加工基板，包括多个支杆，支杆的支撑端设置有支承部，升降机构还包括离子风供应装置，在支杆内部设置有贯通的通道，用于将离子风供应装置输出的离子风输送至支杆的通道内。在支承部上至少位于支承面的位置设置有与支杆的通道相连通的出气孔，离子风供应装置输送的离子风通过出气孔吹向待加工基板。进一步的，支承部为中空结构，支承部除支承面以外的部分为支承部的侧壁，支承部的侧壁上也设置有与支杆的通道相连通的出气孔。优选的，在支杆上设置有护罩，护罩围绕支承部的周边且与支承部之间具有间隙，护罩的顶端低于支承部的顶端。优选的，护罩的纵截面图形为矩形或梯形，梯形的上底边设置于靠近支杆的一侧，纵截面为支杆的中心线所在的平面。优选的，护罩的横截面图形为圆形，横截面为垂直于支杆中心线的平面。进一步的，支承部上还设置有辅助支承部，辅助支承部包括设置在支承部的支承面的球罩，在球罩内设置有浮动球，球罩的顶端设置有直径小于浮动球直径的开口。优选的，浮动球的直径大于球罩的高度。进一步的，离子风供应装置包括固定在支杆的通道内壁的离子源以及设置在支杆的通道入口的送风装置。进一步的，离子源设置在靠近支杆的支撑端处，离子源为金属放电针。优选的，支杆连接驱动装置，驱动装置驱动支杆上、下运动。进一步的，驱动装置为直线电机，直线电机的次级与支杆固定连接。进一步的，还包括承载平台，在承载平台上设置有与支杆一一对应的安装孔，安装孔的直径大于支杆的直径。本专利技术实施例提供一种升降机构，用于承载待加工基板，包括多个支杆，支杆的支撑端设置有支承部，支承部用于在升降机构承载待加工基板时通过支承部的支承面与待加工基板相接触。在支杆内部设置有贯通的通道，在支杆上设置有离子风供应装置，用于向支杆的通道内输送离子风。在支承部上至少位于支承面的位置设置有与支杆的通道相连通的出气孔，离子风供应装置输送的离子风通过出气孔吹向待加工基板。在支杆的支撑端设置有支承部，在支杆内部设置通道，并在支杆上设置离子风供应装置，支承部至少位于支承面的位置设置有与支杆的通道相连通的通孔，通过离子风供应装置向支杆的通道内输送的离子风通过支承部的通孔吹向待加工基板，由于离子风中携带有大量游离状态的正负离子，在吹向待加工基板时，能够游离状态的正负离子能够主动与待加工基板上的电子相结合，从而中和待加工基板上的静电，减少待加工基板与承载平台分离时在待加工基板上容易发生的静电击穿现象，提高待加工基板的良品率。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有技术的一种基板升降机构的结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的一种升降机构的结构示意图一；图3为本专利技术实施例提供的一种升降机构的结构示意图二；图4为本专利技术实施例提供的一种升降机构的结构示意图三；图5为本专利技术实施例提供的一种升降机构中带有护罩的结构示意图一；图6为本专利技术实施例提供的一种升降机构中带有护罩的结构示意图二；图7为图6中护罩沿A-A方向的剖视图；图8为本专利技术实施例提供的设置有辅助支承部的一种升降机构的工作过程示意图一；图9为本专利技术实施例提供的设置有辅助支承部的一种升降机构的工作过程示意图二；图10本专利技术实施例提供的设置有辅助支承部的一种升降机构的工作过程示意图三；图11为本专利技术实施例提供的设置有离子源和送风装置的一种升降机构的结构示意图；图12为本专利技术实施例提供的设置有驱动装置的一种升降机构的结构示意图；图13为本专利技术实施例提供的包括有承载平台的一种升降机构的结构示意图。附图标记：01-待加工基板；02-支杆；021-硬质橡胶端；022-支承部；023-护罩；024-辅助支承部；0241-球罩；0242-浮动球；03-离子风供应装置；031-离子源；032-送风装置；04-承载平台；05-驱动装置；051-直线电机的初级；052-直线电机的次级；a-支承部上的出气孔；b-承载平台上的安装孔；c-通道；H-球罩的高度；R-浮动球的直径；W-支承部上的支承面包括的范围；α-护罩向上发散延伸的侧边与支杆的竖直延伸方向之间的夹角；Δh-护罩顶端与支承部顶端之间的高度差。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术实施例提供一种升降机构，如图2所示，用于承载待加工基板01，包括多个支杆02(由于多个支杆02的形状、大小以及结构均相同，为了便于附图中的清楚显示，图2中仅示出一个支杆02作为示例，且对支杆02相对于待加工基板01做了一定比例的整体放大)，支杆02的支撑端设置有支承部022，支承部022用于在升降机构承载待加工基板01时通过支承部022的支承面与待加工基板01相接触。升降机构还包括离子风供应装置03，在支杆02内部设置有贯通的通道c，用于将离子风供应装置03输出的离子风输送至支杆02的通道c内。在支承部022上至少位于支承面的位置处设置有与支杆02的通道c相连通的出气孔a，离子风供应装置03输送的离子风通过出气孔a向待加工基板01吹出。需要说明的是，第一，支杆02的支撑端指的是支杆02用于支撑待加工基板01的一端，即本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种升降机构，用于承载待加工基板，其特征在于，包括多个支杆，所述支杆的支撑端设置有支承部，所述支承部用于在所述升降机构承载所述待加工基板时通过所述支承部的支承面与所述待加工基板相接触；所述升降机构还包括离子风供应装置，在所述支杆内部设置有贯通的通道，用于将所述离子风供应装置输出的离子风输送至所述支杆的通道内；在所述支承部上至少位于支承面的位置设置有与所述支杆的通道相连通的出气孔，所述离子风供应装置输送的离子风通过所述出气孔吹向所述待加工基板。

【技术特征摘要】
1.一种升降机构，用于承载待加工基板，其特征在于，包括多个支杆，所述支杆的支撑端设置有支承部，所述支承部用于在所述升降机构承载所述待加工基板时通过所述支承部的支承面与所述待加工基板相接触；所述升降机构还包括离子风供应装置，在所述支杆内部设置有贯通的通道，用于将所述离子风供应装置输出的离子风输送至所述支杆的通道内；在所述支承部上至少位于支承面的位置设置有与所述支杆的通道相连通的出气孔，所述离子风供应装置输送的离子风通过所述出气孔吹向所述待加工基板。2.根据权利要求1所述的升降机构，其特征在于，所述支承部为中空结构，所述支承部除所述支承面以外的部分为所述支承部的侧壁，所述支承部的侧壁上也设置有与所述支杆的通道相连通的出气孔。3.根据权利要求1所述的升降机构，其特征在于，在所述支杆上设置有护罩，所述护罩围绕所述支承部的周边且与所述支承部之间具有间隙，所述护罩的顶端低于所述支承部的顶端。4.根据权利要求3所述的升降机构，其特征在于，所述护罩的纵截面图形为矩形或梯形，所述梯形的上底边设置于靠近所述支杆的一侧，所述纵截面为所述支杆的中心线所在的平面。5.根据权利要求4所述的升降机构...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐敏，魏振，郭世波，张强，巩永波，申明明，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11